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Saiba como a Deposição Química de Vapor Aprimorada por Plasma (PECVD) deposita filmes de silício em baixas temperaturas (200-400°C), ideal para eletrônicos sensíveis.
Explore os usos críticos de materiais de película fina em semicondutores, fibra óptica, tecnologia médica e muito mais. Saiba como eles possibilitam a tecnologia moderna.
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