Uma temperatura de deposição típica para revestimentos DLC é inferior a 200°C. Especificamente, a tecnologia de deposição específica da HEF permite a deposição de revestimentos DLC a cerca de 170°C. As películas de DLC podem ser depositadas utilizando o método de deposição de vapor químico assistido por plasma de radiofrequência (RF PECVD), que permite a deposição de películas de carbono com uma vasta gama de propriedades ópticas e eléctricas. As películas têm boa aderência a muitos substratos e podem ser depositadas a temperaturas relativamente baixas. No entanto, as películas de carbono sp3 com elevado teor de carbono, conhecidas como diamante policristalino, são normalmente produzidas por processos de deposição de vapor químico (CVD) a alta temperatura. As películas de carbono tipo diamante (DLC), nas suas diferentes formas, podem ser depositadas a temperaturas ainda mais baixas, de cerca de 300°C, com elevada resistência adesiva, utilizando camadas de ligação adequadas. A deposição de vapor químico enriquecida com plasma (PECVD) também pode ser utilizada para produzir revestimentos DLC, que são duros, resistentes a riscos e têm boas propriedades de barreira. A PECVD oferece vantagens como temperaturas mais baixas, estabilidade química, menos subprodutos tóxicos, tempo de processamento rápido e taxas de deposição elevadas. Em geral, os revestimentos DLC podem ser depositados a várias temperaturas, dependendo do método de deposição específico e das propriedades pretendidas.
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