Quando se trata de aplicar revestimentos de carbono tipo diamante (DLC), a temperatura desempenha um papel crucial.
Os revestimentos DLC são normalmente aplicados a temperaturas inferiores a 200°C.
A tecnologia de deposição específica da HEF permite a aplicação de revestimentos DLC a cerca de 170°C.
As películas de DLC podem ser depositadas utilizando o método de deposição de vapor químico assistido por plasma de radiofrequência (RF PECVD).
Este método permite a deposição de películas de carbono com uma vasta gama de propriedades ópticas e eléctricas.
As películas têm boa aderência a muitos substratos e podem ser depositadas a temperaturas relativamente baixas.
No entanto, as películas de carbono sp3 com elevado teor de carbono, conhecidas como diamante policristalino, são normalmente produzidas por processos de deposição de vapor químico (CVD) a alta temperatura.
As películas de carbono tipo diamante (DLC), nas suas diferentes formas, podem ser depositadas a temperaturas ainda mais baixas, de cerca de 300°C, com elevada força adesiva, utilizando camadas de ligação adequadas.
A deposição de vapor químico enriquecida com plasma (PECVD) também pode ser utilizada para produzir revestimentos DLC.
Estes revestimentos são duros, resistentes a riscos e têm boas propriedades de barreira.
A PECVD oferece vantagens como temperaturas mais baixas, estabilidade química, menos subprodutos tóxicos, tempo de processamento rápido e taxas de deposição elevadas.
Em geral, os revestimentos DLC podem ser depositados a várias temperaturas, dependendo do método de deposição específico e das propriedades pretendidas.
A que temperatura é aplicado o DLC? 5 pontos-chave a saber
1. Temperatura típica de deposição
Os revestimentos DLC são normalmente aplicados a temperaturas inferiores a 200°C.
2. Tecnologia de deposição específica da HEF
A tecnologia da HEF permite a aplicação de revestimentos DLC a cerca de 170°C.
3. Método RF PECVD
As películas DLC podem ser depositadas utilizando o método de deposição de vapor químico assistido por plasma de radiofrequência (RF PECVD).
4. Deposição a baixa temperatura
As películas têm boa aderência a muitos substratos e podem ser depositadas a temperaturas relativamente baixas.
5. Vantagens da PECVD
A deposição de vapor químico enriquecida com plasma (PECVD) oferece vantagens como temperaturas mais baixas, estabilidade química, menos subprodutos tóxicos, tempo de processamento rápido e taxas de deposição elevadas.
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