A deposição física de vapor (PVD) é uma técnica versátil com uma vasta gama de aplicações em vários sectores.
6 Aplicações principais do método de deposição física de vapor (PVD)
Dispositivos semicondutores
A PVD é normalmente utilizada no fabrico de dispositivos semicondutores.
É utilizado para depositar películas finas de vários materiais em substratos de semicondutores, tais como bolachas de silício.
Estas películas finas servem para fins como isolamento, barreiras de difusão e contactos metálicos.
Revestimentos e filtros ópticos
A PVD é utilizada para depositar películas finas de materiais com propriedades ópticas específicas em componentes ópticos.
Estes revestimentos melhoram a refletividade, a transmitância e a durabilidade das superfícies ópticas.
São utilizados em aplicações como revestimentos antirreflexo, revestimentos de espelhos e filtros para seleção de comprimentos de onda.
Ferramentas de corte revestidas
O PVD é utilizado para aplicar revestimentos duros em ferramentas de corte, tais como brocas, fresas de topo e pastilhas.
Estes revestimentos melhoram a resistência ao desgaste e a dureza das ferramentas de corte.
Isto resulta numa vida útil mais longa da ferramenta e num melhor desempenho de corte.
Expositores decorativos
A PVD é utilizada para depositar películas altamente reflectoras em superfícies, como vidro ou plástico, para fins decorativos.
Estas películas criam um acabamento espelhado e são normalmente utilizadas em produtos como smartphones, tablets e ecrãs para automóveis.Células solaresA PVD é utilizada no fabrico de células solares.É utilizada para depositar películas finas de materiais, como o silício, na superfície da célula solar.Estas películas finas aumentam a eficiência da célula solar, melhorando a absorção de luz e o transporte de electrões.
