O revestimento PVD envolve a utilização de vários gases, principalmente gases nobres como o árgon e gases reactivos como o azoto, o oxigénio e o metano. Estes gases são essenciais para a formação de películas finas com propriedades físicas, estruturais e tribológicas específicas.
Gás árgon no processo de pulverização catódica:
O árgon é o gás mais utilizado no processo de pulverização catódica, um método dentro do revestimento PVD. Este gás nobre é escolhido devido ao seu peso atómico, que é suficiente para deslocar átomos do material alvo sem reagir quimicamente com ele. O processo de pulverização catódica envolve o disparo de iões contra o material alvo num meio de plasma, em que o árgon actua como meio que facilita a transferência de material do alvo para o substrato.Gases reactivos no revestimento PVD:
Para além dos gases nobres, são introduzidos gases reactivos na câmara de vácuo durante a deposição de metal. Estes gases incluem o azoto, o oxigénio e o metano. A utilização destes gases permite a criação de várias composições de revestimento composto, tais como óxidos metálicos, nitretos e carbonetos. Por exemplo, quando os iões metálicos reagem com azoto ou oxigénio durante a fase de transporte, formam nitretos ou óxidos, respetivamente, que são conhecidos pela sua dureza e resistência ao desgaste.
Papel dos gases no revestimento PVD:
