Forno de tubos
Forno tubular vertical
Número do item : KT-VTF
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura máxima
- 1800℃
- Diâmetro do tubo do forno
- 50 / 60 / 80 / 100 mm
- Comprimento da zona de aquecimento
- 300 / 450 / 600 / 800 mm
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Os fornos tubulares verticais são equipamentos de laboratório utilizados para o processamento a alta temperatura de materiais em condições atmosféricas controladas. São constituídos por um tubo de quartzo orientado verticalmente, encerrado numa câmara de aquecimento, que permite um controlo preciso da temperatura e uma distribuição uniforme do calor. Estes fornos são normalmente utilizados para várias aplicações, incluindo tratamento térmico, têmpera, recozimento, crescimento de cristais e revestimento por deposição química de vapor (CVD). Com caraterísticas avançadas, tais como controladores de temperatura programáveis, capacidades de selagem a vácuo e acessórios especializados para manipulação de amostras, os fornos tubulares verticais oferecem versatilidade e precisão no processamento de materiais. A sua capacidade para criar atmosferas controladas e atingir temperaturas elevadas torna-os ferramentas essenciais na investigação e desenvolvimento, ciência dos materiais e aplicações industriais.
Aplicações
Os fornos tubulares verticais são dispositivos de aquecimento versáteis com uma vasta gama de aplicações em várias indústrias e laboratórios. São particularmente úteis para processos que requerem um controlo preciso da temperatura e a capacidade de funcionar sob vácuo ou atmosferas de gás controladas.
- Ensaios de arrefecimento com gás: Os fornos tubulares verticais são normalmente utilizados para ensaios de arrefecimento a gás, em que as amostras são rapidamente arrefecidas a partir de temperaturas elevadas para um meio de arrefecimento, como água gelada ou óleo. Isto permite aos investigadores estudar as transições de fase do material e os efeitos do arrefecimento rápido nas propriedades do material.
- Tratamento térmico: Os fornos tubulares verticais são utilizados para uma variedade de processos de tratamento térmico, incluindo recozimento, têmpera e alívio de tensões. Estes processos podem melhorar as propriedades mecânicas dos materiais, tais como a sua resistência, dureza e ductilidade.
- Deposição química de vapor (CVD): Os fornos tubulares verticais são utilizados para processos CVD, em que uma película fina é depositada num substrato através de reacções químicas num ambiente gasoso. Esta técnica é normalmente utilizada na indústria de semicondutores para criar dispositivos electrónicos.
- Crescimento de cristais: Os fornos tubulares verticais são utilizados para o crescimento de cristais, em que os cristais são desenvolvidos a partir de uma fase fundida ou de vapor. Esta técnica é utilizada para produzir cristais de alta qualidade para utilização em ótica, eletrónica e outras aplicações.
- Ensaios de materiais: Os fornos tubulares verticais são utilizados para ensaios de materiais, tais como medições de condutividade térmica, determinações de pontos de fusão e transições de fase. Estes testes fornecem informações valiosas sobre as propriedades dos materiais.
- Outras aplicações: Os fornos tubulares verticais também são utilizados em várias outras aplicações, incluindo:
- Sinterização
- Brasagem
- Calcinação
- Cerâmica
- Vidraria
- Investigação laboratorial
Processamento de pós
1. Tubo de corindo de alta temperatura: resistente à corrosão, alta transmitância, resistência a alta pressão, resistência a altas temperaturas até 1700 ℃
2. Painel de exibição digital eletrônico: controle de temperatura preciso, processo de tratamento térmico em vários estágios predefinido.
3. Lareira de fibra policristalina de alumina: resistência a altas temperaturas, uso prolongado sem deformação, sem rachaduras.
Princípio de funcionamento
Os fornos tubulares verticais funcionam com base no princípio da transferência de calor radiante. O elemento de aquecimento, normalmente feito de dissilicida de molibdénio (MoSi2) ou carboneto de silício (SiC), está localizado à volta do tubo vertical, emitindo radiação infravermelha que é absorvida pela amostra no interior. Esta radiação aquece a amostra uniformemente, proporcionando um controlo preciso e eficiente da temperatura. O design do forno permite taxas de aquecimento e arrefecimento rápidas, tornando-o adequado para várias aplicações, incluindo síntese de materiais, tratamento térmico e medições de temperatura.
- Vantagens
- Câmara do forno posicionada verticalmente ou inclinada: Isto permite a realização de várias experiências, incluindo o aquecimento de leitos fluentes, o crescimento de cristais, a extinção e muito mais.
- Variedade de funções mecânicas: Estas funções incluem pendurar, puxar, rodar e libertar amostras, proporcionando versatilidade nas configurações experimentais.
- Ampla faixa de temperatura de trabalho: Max. A temperatura de até 1800 ℃ permite uma ampla gama de aplicações.
- Personalização especializada de equipamentos de frock: Adapta o forno a requisitos experimentais específicos.
- Design de concha de forno duplo: O fluxo de ar forçado entre o invólucro interno e externo mantém uma baixa temperatura da superfície do forno para segurança.
- Controlo de temperatura programável PID: Excelente precisão de controlo e desempenho de aquecimento estável, com opções de controlo remoto e centralizado.
- Controlador de ecrã tátil VTF Pro: Definição de programas, análise de dados e gestão de receitas fáceis de utilizar.
- Caraterísticas de segurança: Proteção contra sobrecorrente, alarme de sobretemperatura e deteção de par térmico para maior segurança.
Função de reinício por falha de energia: Retoma o programa de aquecimento após uma falha de energia, garantindo a continuidade da experiência.
- Vantagens de segurança
- O forno tubular Kindle Tech possui proteção contra sobrecarga de corrente e função de alarme de temperatura excessiva, o forno desliga-se automaticamente quando a sobrecarga de corrente é detectada
- O forno possui uma função de deteção de par térmico, o forno pára de aquecer e o alarme é ativado assim que o par térmico é quebrado ou detectada uma falha
O VTF Pro suporta a função de reinício por falha de energia, o forno retoma o programa de aquecimento do forno quando a energia é recebida após a falha
| Especificações técnicas | Modelo do forno | KT-VTF |
|---|---|---|
| KT-VTF PRO | Controlador de temperatura | Controlador PID digital |
| Controlador PID com ecrã tátil | Predefinição de vários programas | não |
| sim | Reinício por falha de energia | não |
| sim | Temperatura máxima | |
| 1800℃ | Material do tubo do forno | |
| Quartzo de alta qualidade / Al2O3 alumina | Diâmetro do tubo do forno | |
| 50 / 60 / 80 / 100 mm | Comprimento da zona de aquecimento | |
| 300 / 450 / 600 / 800 mm | Solução de vedação a vácuo | |
| Flange SS 304 com anel de vedação de cobre sólido | Pressão de vácuo nominal | |
| 0,001Pa/10E5 torr | Material da câmara | |
| Fibra de alumina Al2O3 do Japão | Elemento de aquecimento | |
| Bobina de fio Cr2Al2Mo2/SiC/MoSi2 | Par térmico | |
| Tipo K /S/B | Precisão do controlo da temperatura | |
| ±1℃ | Fonte de alimentação eléctrica | |
| AC110-220V,50/60HZ | ||
Outro tamanho do tubo do forno e comprimento da zona de aquecimento podem ser personalizados
| Pacote padrão | Não. | Descrição |
|---|---|---|
| Quantidade | 1 | Forno |
| 1 | 2 | Tubo de alumina |
| 1 | 3 | Flange de vácuo |
| 2 | 4 | Bloco térmico do tubo |
| 2 | 5 | Gancho do bloco térmico do tubo |
| 1 | 6 | Luva resistente ao calor |
| 1 | 7 | Manual de instruções |
1
- Configuração opcional
- Deteção e monitorização de gases no tubo, como H2, O2, etc.
- Monitorização e registo independentes da temperatura do forno
- Porta de comunicação RS 485 para controlo remoto por PC e exportação de dados
- Controlo do caudal de alimentação de gases de inserção, como o caudalímetro de massa e o caudalímetro de flutuador
- Controlador de temperatura de ecrã tátil com funções versáteis e fáceis de utilizar
Avisos
A segurança do operador é a questão mais importante! Por favor, opere o equipamento com cautelas. Trabalhar com gases inflamáveis, explosivos ou tóxicos é muito perigoso, os operadores devem tomar todas as precauções necessárias antes de iniciar o equipamento. Trabalhar com pressão positiva dentro dos reactores ou câmaras é perigoso, o operador deve seguir rigorosamente os procedimentos de segurança. Extra também deve ser tido cuidado ao operar com materiais reativos ao ar, especialmente sob vácuo. Uma fuga pode aspirar ar para dentro do aparelho e provocar ocorrer uma reação violenta.
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FAQ
O Que é Um Forno Tubular?
O forno tubular de laboratório é um forno tubular clássico de aquecimento externo de alta temperatura, também chamado de forno de aquecimento de parede quente.
De acordo com a temperatura de trabalho diferente, o material do tubo do forno geralmente pode ser tubos de quartzo transparentes, tubos de cerâmica de alumina de alta pureza e tubos de liga metálica de alta resistência.
Para atender a diferentes propósitos de pesquisa térmica, o forno de tubo pode ser projetado com várias zonas de aquecimento, de modo a ter um controle flexível do gradiente de temperatura na câmara de trabalho do tubo; o tubo do forno pode funcionar com um ambiente de trabalho de atmosfera controlada ou um ambiente de trabalho de alto vácuo.
O Que é O Forno CVD?
A deposição química de vapor (CVD) é uma tecnologia que utiliza várias fontes de energia, como aquecimento, excitação de plasma ou radiação de luz para reagir quimicamente substâncias químicas gasosas ou de vapor na fase gasosa ou na interface gás-sólido para formar depósitos sólidos no reator por meio de reação química. simplificando, duas ou mais matérias-primas gasosas são introduzidas em uma câmara de reação e, em seguida, reagem entre si para formar um novo material e depositá-lo na superfície do substrato.
O forno CVD é um sistema de forno combinado com unidade de forno tubular de alta temperatura, unidade de controle de gases e unidade de vácuo, é amplamente utilizado para experimentos e produção de preparação de material composto, processo microeletrônico, optoeletrônico semicondutor, utilização de energia solar, comunicação de fibra ótica, tecnologia de supercondutor, campo de revestimento protetor.
Como é Que Um Forno Tubular Funciona?
Os elementos de aquecimento do forno tubular são colocados em torno da cavidade cilíndrica, o forno só pode aquecer as amostras na cavidade cilíndrica através de radiação térmica indireta, uma vez que o tubo do forno pode impedir que o material da amostra entre em contato com os elementos de aquecimento do forno e os materiais de isolamento, de modo que o forno tubular cria uma câmara de calor isolada e limpa e reduz os riscos de contaminação do material da amostra pelo forno.
Como é Que O Forno CVD Funciona?
O sistema de forno CVD consiste em uma unidade de forno de tubo de alta temperatura, unidade de controle preciso da fonte de gás reagente, estação de bomba de vácuo e peças de montagem correspondentes.
A bomba de vácuo é para remover o ar do tubo de reação e garantir que não haja gases indesejados dentro do tubo de reação, depois que o forno de tubo aquecerá o tubo de reação a uma temperatura alvo, então a unidade de controle preciso da fonte de gás reagente pode introduzir gases diferentes com uma proporção definida no tubo do forno para a reação química, a deposição de vapor químico será formada no forno CVD.
Qual é A Aplicação Do Forno Tubular?
O forno tubular é usado principalmente em metalurgia, vidro, tratamento térmico, ânodo de lítio e materiais catódicos, novas energias, abrasivos e outras indústrias, e é um equipamento profissional para medir materiais sob certas condições de temperatura.
O forno tubular apresenta estrutura simples, operação fácil, controle fácil e produção contínua.
O forno tubular também é amplamente aplicado nos sistemas CVD (deposição de vapor químico) e CVD aprimorado por plasma.
Que Gás é Utilizado No Processo CVD?
Existem tremendas fontes de gás que podem ser usadas no processo CVD, as reações químicas comuns do CVD incluem pirólise, fotólise, redução, oxidação, redox, de modo que os gases envolvidos nessas reações químicas podem ser usados no processo CVD.
Tomamos o crescimento de grafeno CVD como exemplo, os gases usados no processo CVD serão CH4, H2, O2 e N2.
Quantos Tipos Diferentes De Fornos Tubulares?
O forno tubular pode trabalhar com diferentes funções mecânicas sem problemas, por isso existem muitos tipos diferentes de variações de forno tubular para diferentes fins experimentais, os fornos típicos são os seguintes:
- Forno de tubo horizontal
- Forno de tubo vertical
- Forno de tubo dividido
- Forno de tubo rotativo
- Forno de tubo basculante
- Forno de tubo deslizante
- Forno de tubo de aquecimento e resfriamento rápido
- Forno de tubo de alimentação e descarga contínua
Qual é A Vantagem Do Sistema CVD?
- Pode ser produzida uma vasta gama de películas, películas metálicas, películas não metálicas e películas de ligas multicomponentes, conforme necessário. Ao mesmo tempo, pode preparar cristais de alta qualidade que são difíceis de obter por outros métodos, como GaN, BP, etc.
- A velocidade de formação da película é rápida, geralmente vários microns por minuto ou mesmo centenas de microns por minuto. É possível depositar simultaneamente grandes quantidades de revestimentos com composição uniforme, o que é incomparável com outros métodos de preparação de filmes, como epitaxia de fase líquida (LPE) e epitaxia de feixe molecular (MBE).
- As condições de trabalho são realizadas sob pressão normal ou condições de baixo vácuo, de modo que o revestimento tem boa difração, e as peças de trabalho com formas complexas podem ser uniformemente revestidas, o que é muito superior ao PVD.
- Devido à difusão mútua do gás de reação, do produto da reação e do substrato, pode obter-se um revestimento com boa força de adesão, o que é crucial para a preparação de películas reforçadas à superfície, tais como películas resistentes ao desgaste e anti-corrosão.
- Algumas películas crescem a uma temperatura muito inferior ao ponto de fusão do material da película. Sob a condição de crescimento a baixa temperatura, o gás de reação e a parede do reator e as impurezas contidas neles quase não reagem, de modo que um filme com alta pureza e boa cristalinidade pode ser obtido.
- A deposição química de vapor pode obter uma superfície de deposição lisa. Isso ocorre porque, em comparação com o LPE, a deposição de vapor químico (CVD) é realizada sob alta saturação, com alta taxa de nucleação, alta densidade de nucleação e distribuição uniforme em todo o plano, resultando em uma superfície lisa macroscópica. Ao mesmo tempo, na deposição de vapor químico, o caminho livre médio das moléculas (átomos) é muito maior do que o LPE, de modo que a distribuição espacial das moléculas é mais uniforme, o que favorece a formação de uma superfície de deposição lisa.
- Baixos danos por radiação, que é uma condição necessária para a fabricação de semicondutores de óxido metálico (MOS) e outros dispositivos
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular?
O Que Significa PECVD?
O PECVD é uma tecnologia que utiliza o plasma para ativar o gás de reação, promover a reação química na superfície do substrato ou no espaço próximo da superfície e gerar uma película sólida. O princípio básico da tecnologia de deposição de vapor químico de plasma é que, sob a ação do campo elétrico de RF ou DC, o gás de origem é ionizado para formar um plasma, o plasma de baixa temperatura é usado como fonte de energia, uma quantidade apropriada de gás de reação é introduzida e a descarga de plasma é usada para ativar o gás de reação e realizar a deposição de vapor químico.
De acordo com o método de geração de plasma, ele pode ser dividido em plasma de RF, plasma de DC e plasma de micro-ondas CVD, etc ...
Que Precauções De Segurança Devem Ser Tomadas Quando Se Utiliza Um Forno Tubular?
Qual é A Diferença Entre CVD E PECVD?
A diferença entre o PECVD e a tecnologia CVD tradicional é que o plasma contém um grande número de electrões de alta energia, que podem fornecer a energia de ativação necessária no processo de deposição de vapor químico, alterando assim o modo de fornecimento de energia do sistema de reação. Uma vez que a temperatura dos electrões no plasma é tão elevada como 10000K, a colisão entre os electrões e as moléculas de gás pode promover a quebra de ligações químicas e a recombinação das moléculas de gás de reação para gerar grupos químicos mais activos, enquanto todo o sistema de reação mantém uma temperatura mais baixa.
Assim, em comparação com o processo CVD, o PECVD pode realizar o mesmo processo de deposição química de vapor com uma temperatura mais baixa.
4.8
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I am amazed by the precision and consistency of this vertical tube furnace. It has made our research work so much more efficient.
4.9
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The build quality of this furnace is top-notch. It's evident that it's made with high-quality materials and with great attention to detail.
4.7
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The vertical design of this furnace makes it so easy to load and unload samples. It's a huge time-saver, especially when we're running multiple experiments.
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