Forno CVD e PECVD
Forno tubular CVD versátil fabricado pelo cliente Máquina CVD
Número do item : KT-CTF16
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura máxima
- 1600 ℃
- Temperatura de trabalho constante
- 1550 ℃
- Diâmetro do tubo do forno
- 60 mm
- Zona de aquecimento
- 3x300 mm
- Taxa de aquecimento
- 0-10 ℃/min
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Introdução
O forno tubular CVD é um forno de alta temperatura utilizado para processos de deposição química de vapor (CVD). Possui várias zonas de aquecimento que permitem um controlo preciso da temperatura, uma bomba de alto vácuo que cria um ambiente de vácuo para os processos CVD e uma estação de controlo de fluxo de massa de gás que mistura e introduz gases no tubo do forno. O forno é capaz de atingir temperaturas até 1200°C e tem uma taxa de vácuo final de 10^-7 torr. É normalmente utilizado na indústria de semicondutores para depositar películas finas de vários materiais, incluindo materiais isolantes, materiais metálicos e materiais de ligas metálicas.
Aplicações
Os fornos tubulares CVD multi-zona são amplamente utilizados em várias aplicações industriais e de investigação, incluindo:
- Deposição química de vapor (CVD)
- Difusão
- Tratamentos térmicos
- Fabrico de semicondutores
- Síntese de materiais
- Deposição de película fina
- Nanotecnologia
- Optoelectrónica
- Indústria aeroespacial
- Armazenamento de energia
- Engenharia biomédica
Características
O forno tubular CVD é um forno versátil e de elevado desempenho, ideal para uma variedade de aplicações na investigação e na indústria. Com as suas características e capacidades avançadas, este forno pode ajudá-lo a obter os melhores resultados possíveis no seu trabalho.
- Controlo de temperatura multi-zona: Este forno possui controlo de temperatura multi-zona, o que lhe permite controlar com precisão a temperatura em diferentes zonas do forno. Isto é essencial para aplicações em que é necessário criar um perfil ou gradiente de temperatura específico.
- Capacidade de alta temperatura: Este forno pode atingir temperaturas até 1200°C, o que o torna ideal para uma vasta gama de aplicações. Esta capacidade de alta temperatura permite efetuar processos exigentes, tais como CVD, difusão e outros tratamentos térmicos.
- Proteção contra vácuo ou atmosfera: Este forno pode ser utilizado sob vácuo ou proteção atmosférica, tornando-o adequado para uma variedade de aplicações. Esta versatilidade torna possível a realização de processos que requerem uma atmosfera específica ou um ambiente de vácuo.
- Fácil de utilizar: Este forno é fácil de utilizar, com uma interface de fácil utilização e controlos intuitivos. Isto facilita a configuração e o funcionamento do forno, mesmo para utilizadores com pouca experiência.
- Design compacto: Este forno é compacto e leve, o que o torna fácil de instalar e utilizar numa variedade de espaços. Este design compacto torna-o ideal para utilização em laboratórios e noutros ambientes com limitações de espaço.
Princípio
A deposição química de vapor (CVD) é uma técnica de deposição de película fina na qual um material sólido é depositado num substrato a partir de uma fase gasosa. O substrato é aquecido a uma temperatura elevada e um gás contendo o material desejado é introduzido na câmara. O gás reage com o substrato e o material desejado é depositado na superfície.
Os fornos tubulares CVD são utilizados para os processos CVD. O forno consiste num tubo aquecido, que é normalmente feito de quartzo ou alumina. O substrato é colocado no interior do tubo e o gás é introduzido no tubo. O gás flui através do tubo e reage com o substrato, depositando o material desejado na superfície.
Os fornos tubulares CVD podem ser utilizados para depositar uma grande variedade de materiais, incluindo metais, óxidos, nitretos e carbonetos. O processo é utilizado no fabrico de semicondutores, células solares e outros dispositivos electrónicos.
Diferentes sistemas CVD de temperatura e configuração disponíveis
Vantagens
- Uniformidade de alta temperatura: O design de várias zonas garante que a temperatura seja distribuída uniformemente por todo o forno, o que é crítico para os processos de CVD.
- Controlo preciso da temperatura: O controlador digital de temperatura permite um controlo preciso da temperatura do forno, o que é essencial para resultados repetíveis e fiáveis.
- Capacidade de vácuo elevado: A taxa de vácuo máxima de 10^-7 torr permite a remoção de contaminantes da câmara de reação, o que é necessário para películas CVD de alta qualidade.
- Fácil de utilizar: A interface de fácil utilização torna o forno fácil de operar, mesmo para utilizadores inexperientes.
- Versátil: O forno pode ser utilizado para uma grande variedade de processos CVD, incluindo deposição de metais, processamento de semicondutores e síntese de nanotubos de carbono.
- Design compacto: O design compacto do forno torna-o ideal para utilização em laboratórios com limitações de espaço.
- Acessível: O forno tem um preço competitivo, o que faz dele uma excelente relação qualidade/preço.
Especificações técnicas
| Modelo do forno | KT-CTF16-60 |
| Temperatura máxima | 1600℃ |
| Temperatura de trabalho constante | 1550℃ |
| Material do tubo do forno | Tubo de Al2O3 de alta pureza |
| Diâmetro do tubo do forno | 60mm |
| Zona de aquecimento | 3x300mm |
| Material da câmara | Fibra policristalina de alumina |
| Elemento de aquecimento | Carbeto de silício |
| Taxa de aquecimento | 0-10℃/min |
| Par térmico | Tipo S |
| Controlador de temperatura | Controlador PID digital/controlador PID com ecrã tátil |
| Precisão do controlo de temperatura | ±1℃ |
| Unidade de controlo de precisão de gás | |
| Medidor de caudal | Medidor de caudal mássico MFC |
| Canais de gás | 3 canais |
| Caudal | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearidade | ±0,5% F.S. |
| Repetibilidade | ±0,2% F.S. |
| Tubagem e válvula | Aço inoxidável |
| Pressão máxima de funcionamento | 0,45MPa |
| Controlador do caudalímetro | Controlador de botão digital/controlador de ecrã tátil |
| Unidade de vácuo standard (opcional) | |
| Bomba de vácuo | Bomba de vácuo de palhetas rotativas |
| Caudal da bomba | 4L/S |
| Porta de aspiração de vácuo | KF25 |
| Medidor de vácuo | Vacuómetro de silicone Pirani/Resistance |
| Pressão de vácuo nominal | 10Pa |
| Unidade de alto vácuo (opcional) | |
| Bomba de vácuo | Bomba de palhetas rotativas+Bomba molecular |
| Caudal da bomba | 4L/S+110L/S |
| Porta de sucção de vácuo | KF25 |
| Medidor de vácuo | Medidor de vácuo composto |
| Pressão de vácuo nominal | 6x10-5Pa |
| As especificações e configurações acima podem ser personalizadas | |
Pacote padrão
| Não. | Descrição | Quantidade |
| 1 | Forno | 1 |
| 2 | Tubo de quartzo | 1 |
| 3 | Flange de vácuo | 2 |
| 4 | Bloco térmico do tubo | 2 |
| 5 | Gancho do bloco térmico do tubo | 1 |
| 6 | Luva resistente ao calor | 1 |
| 7 | Controlo preciso do gás | 1 |
| 8 | Unidade de vácuo | 1 |
| 9 | Manual de instruções | 1 |
Configuração opcional
- Deteção e monitorização de gases no tubo, como H2, O2, etc.
- Monitorização e registo independentes da temperatura do forno
- Porta de comunicação RS 485 para controlo remoto por PC e exportação de dados
- Controlo do caudal de alimentação de gases de inserção, como o caudalímetro de massa e o caudalímetro de flutuador
- Controlador de temperatura de ecrã tátil com funções versáteis e fáceis de utilizar
- Instalação de bombas de alto vácuo, como bomba de vácuo de palhetas, bomba molecular, bomba de difusão
Avisos
A segurança do operador é a questão mais importante! Por favor, opere o equipamento com cautelas. Trabalhar com gases inflamáveis, explosivos ou tóxicos é muito perigoso, os operadores devem tomar todas as precauções necessárias antes de iniciar o equipamento. Trabalhar com pressão positiva dentro dos reactores ou câmaras é perigoso, o operador deve seguir rigorosamente os procedimentos de segurança. Extra também deve ser tido cuidado ao operar com materiais reativos ao ar, especialmente sob vácuo. Uma fuga pode aspirar ar para dentro do aparelho e provocar ocorrer uma reação violenta.
Desenhado para si
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