Forno CVD e PECVD
Forno de Tubo CVD Versátil Feito Sob Medida para Equipamentos de Sistema de Deposição Química em Fase de Vapor
Número do item : KT-CTF16
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura máxima
- 1600 ℃
- Temperatura de trabalho constante
- 1550 ℃
- Diâmetro do tubo do forno
- 60 mm
- Zona de aquecimento
- 3x300 mm
- Taxa de aquecimento
- 0-10 ℃/min
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Introdução
O Forno de Tubo CVD é um forno de alta temperatura usado para processos de deposição química em fase de vapor (CVD). Ele possui múltiplas zonas de aquecimento que permitem controle preciso de temperatura, uma bomba de alto vácuo que cria um ambiente de vácuo para processos CVD e uma estação de controle de gás de fluxo de massa que mistura e introduz gases no tubo do forno. O forno é capaz de atingir temperaturas de até 1200°C e tem uma taxa de vácuo final de 10^-7 torr. É comumente usado na indústria de semicondutores para depositar filmes finos de vários materiais, incluindo materiais isolantes, materiais metálicos e materiais de ligas metálicas.
Aplicações
Fornos de Tubo CVD Multizonas são amplamente utilizados em várias aplicações de pesquisa e industriais, incluindo:
- Síntese de Nanomateriais: O forno de tubo CVD é ideal para o crescimento de nanofios e a preparação de nanofilmes, que são cruciais para o desenvolvimento de materiais avançados com propriedades únicas.
- Tecnologias de Revestimento: É amplamente utilizado para a deposição de filmes metálicos, filmes cerâmicos e filmes compósitos, que são essenciais para melhorar as propriedades de superfície de vários materiais.
- Processamento de Materiais de Bateria: O forno é adequado para a secagem e sinterização de materiais de bateria, que é uma etapa crítica na produção de dispositivos de armazenamento de energia de alto desempenho.
- Sinterização em Alta Temperatura: É empregado em processos de sinterização em atmosfera de alta temperatura e redução em atmosfera, que são necessários para a densificação de materiais.
- Revestimento a Vácuo: As capacidades de alto vácuo do forno o tornam perfeito para aplicações de revestimento a vácuo, onde a pureza e a qualidade do revestimento são primordiais.
- Pesquisa e Desenvolvimento: Universidades e institutos de pesquisa científica utilizam este equipamento para uma ampla gama de experimentos no campo da ciência dos materiais, incluindo estudos de CVD/CVI (Infiltração Química em Fase de Vapor).
- Aplicações Industriais: Em ambientes industriais, o forno de tubo CVD é usado para processos que exigem controle preciso de temperatura e gerenciamento de gás, como na indústria de semicondutores.
- Limpeza e Gravação por Plasma: A versatilidade do equipamento permite a expansão de funcionalidades para incluir limpeza e gravação por plasma, que são essenciais para preparar substratos antes da deposição.
Características
O Forno de Tubo CVD é um forno versátil e de alto desempenho, ideal para uma variedade de aplicações em pesquisa e indústria. Com seus recursos e capacidades avançados, este forno pode ajudá-lo a obter os melhores resultados possíveis em seu trabalho.
- Controle de temperatura multizona: Este forno possui controle de temperatura multizona, que permite controlar com precisão a temperatura em diferentes zonas do forno. Isso é essencial para aplicações onde você precisa criar um perfil ou gradiente de temperatura específico.
- Capacidade de alta temperatura: Este forno pode atingir temperaturas de até 1200°C, tornando-o ideal para uma ampla gama de aplicações. Essa capacidade de alta temperatura permite realizar processos exigentes, como CVD, difusão e outros tratamentos térmicos.
- Proteção a vácuo ou atmosfera: Este forno pode ser usado sob vácuo ou proteção de atmosfera, tornando-o adequado para uma variedade de aplicações. Essa versatilidade permite realizar processos que exigem uma atmosfera específica ou ambiente de vácuo.
- Fácil de usar: Este forno é fácil de usar, com uma interface amigável e controles intuitivos. Isso facilita a configuração e operação do forno, mesmo para usuários com experiência limitada.
- Design compacto: Este forno é compacto e leve, facilitando a instalação e o uso em uma variedade de espaços. Este design compacto o torna ideal para uso em laboratórios e outros ambientes com espaço limitado.
Princípio
A Deposição Química em Fase de Vapor (CVD) é uma técnica de deposição de filme fino na qual um material sólido é depositado em um substrato a partir de uma fase gasosa. O substrato é aquecido a uma alta temperatura e um gás contendo o material desejado é introduzido na câmara. O gás reage com o substrato e o material desejado é depositado na superfície.
Fornos de Tubo CVD são usados para processos CVD. O forno consiste em um tubo aquecido, que é tipicamente feito de quartzo ou alumina. O substrato é colocado dentro do tubo e o gás é introduzido no tubo. O gás flui através do tubo e reage com o substrato, depositando o material desejado na superfície.
Fornos de Tubo CVD podem ser usados para depositar uma ampla variedade de materiais, incluindo metais, óxidos, nitretos e carbetos. O processo é usado na fabricação de semicondutores, células solares e outros dispositivos eletrônicos.
Diferentes temperaturas e configurações de sistemas CVD disponíveis
Princípio
O forno de tubo CVD opera no princípio da deposição química em fase de vapor, utilizando um sistema de alto vácuo e controladores de fluxo de massa precisos para facilitar a deposição de vários filmes sob condições controladas. Ele emprega tecnologia de descarga de radiofrequência para altas taxas de deposição e técnicas de aquecimento avançadas para distribuição uniforme de filmes.
Vantagens
- Alta uniformidade de temperatura: O design multizona garante que a temperatura seja distribuída uniformemente por todo o forno, o que é crucial para processos CVD.
- Controle preciso de temperatura: O controlador de temperatura digital permite o controle preciso da temperatura do forno, o que é essencial para resultados repetíveis e confiáveis.
- Capacidade de alto vácuo: A taxa de vácuo final de 10^-7 torr permite a remoção de contaminantes da câmara de reação, o que é necessário para filmes CVD de alta qualidade.
- Fácil de usar: A interface amigável torna o forno fácil de operar, mesmo para usuários inexperientes.
- Versátil: O forno pode ser usado para uma ampla variedade de processos CVD, incluindo deposição de metal, processamento de semicondutores e síntese de nanotubos de carbono.
- Design compacto: O design compacto do forno o torna ideal para uso em laboratórios com espaço limitado.
- Acessível: O forno tem um preço competitivo, tornando-o um excelente custo-benefício.
Especificações técnicas
| Modelo do forno | KT-CTF16-60 |
|---|---|
| Temperatura máx. | 1600℃ |
| Temperatura de trabalho constante | 1550℃ |
| Material do tubo do forno | Tubo de Al2O3 de alta pureza |
| Diâmetro do tubo do forno | 60mm |
| Zona de aquecimento | 3x300mm |
| Material da câmara | Fibra policristalina de alumina |
| Elemento de aquecimento | Carbeto de silício |
| Taxa de aquecimento | 0-10℃/min |
| Termopar | Tipo S |
| Controlador de temperatura | Controlador PID digital/Controlador PID de tela sensível ao toque |
| Precisão do controle de temperatura | ±1℃ |
| Unidade de controle preciso de gás | |
| Medidor de fluxo | Medidor de fluxo de massa MFC |
| Canais de gás | 3 canais |
| Taxa de fluxo | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearidade | ±0,5% F.S. |
| Repetibilidade | ±0,2% F.S. |
| Tubulação e válvula | Aço inoxidável |
| Pressão máxima de operação | 0,45 MPa |
| Controlador do medidor de fluxo | Controlador de botão digital/Controlador de tela sensível ao toque |
| Unidade de vácuo padrão (Opcional) | |
| Bomba de vácuo | Bomba de vácuo de palhetas rotativas |
| Taxa de fluxo da bomba | 4L/S |
| Porta de sucção a vácuo | KF25 |
| Medidor de vácuo | Medidor de vácuo Pirani/Resistência de silício |
| Pressão de vácuo nominal | 10Pa |
| Unidade de alto vácuo (Opcional) | |
| Bomba de vácuo | Bomba de palhetas rotativas + Bomba molecular |
| Taxa de fluxo da bomba | 4L/S + 110L/S |
| Porta de sucção a vácuo | KF25 |
| Medidor de vácuo | Medidor de vácuo composto |
| Pressão de vácuo nominal | 6x10-5Pa |
| As especificações e configurações acima podem ser personalizadas | |
Pacote Padrão
| Nº | Descrição | Quantidade |
|---|---|---|
| 1 | Forno | 1 |
| 2 | Tubo de quartzo | 1 |
| 3 | Flange de vácuo | 2 |
| 4 | Bloco térmico do tubo | 2 |
| 5 | Gancho do bloco térmico do tubo | 1 |
| 6 | Luva resistente ao calor | 1 |
| 7 | Controle de gás preciso | 1 |
| 8 | Unidade de vácuo | 1 |
| 9 | Manual de operação | 1 |
Configuração Opcional
- Detecção e monitoramento de gases no tubo, como H2, O2 e assim por diante
- Monitoramento e gravação independentes da temperatura do forno
- Porta de comunicação RS 485 para controle remoto e exportação de dados do PC
- Controle de fluxo de alimentação de gases de inserção, como medidor de fluxo de massa e medidor de fluxo de flutuação
- Controlador de temperatura de tela sensível ao toque com funções versáteis e fáceis de usar
- Configurações de estação de bomba de alto vácuo, como bomba de vácuo de palhetas, bomba molecular, bomba de difusão
Avisos
A segurança do operador é a questão mais importante! Por favor, opere o equipamento com cautelas. Trabalhar com gases inflamáveis, explosivos ou tóxicos é muito perigoso, os operadores devem tomar todas as precauções necessárias antes de iniciar o equipamento. Trabalhar com pressão positiva dentro dos reactores ou câmaras é perigoso, o operador deve seguir rigorosamente os procedimentos de segurança. Extra também deve ser tido cuidado ao operar com materiais reativos ao ar, especialmente sob vácuo. Uma fuga pode aspirar ar para dentro do aparelho e provocar ocorrer uma reação violenta.
Desenhado para si
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