Forno de grafitização
Forno de grafitização a temperatura ultra-alta
Número do item : GF-09
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O forno de grafitização de temperatura ultra-alta utiliza aquecimento por indução de média frequência num ambiente de vácuo ou de gás inerte. A bobina de indução gera um campo magnético alternado, induzindo correntes de Foucault no cadinho de grafite, que aquece e irradia calor para a peça de trabalho, levando-a à temperatura desejada. Este forno é utilizado principalmente para a grafitização e sinterização de materiais de carbono, materiais de fibra de carbono e outros materiais compósitos. É composto por um corpo de forno, cobertura, sensor de aquecimento, camada de isolamento, dispositivo de extração de eléctrodos, sistema de distribuição de circulação de água, sistema de vácuo, sistema de controlo de temperatura, entre outros. O sistema elétrico inclui uma fonte de alimentação de frequência intermédia de 60KVA, transístor IGBT e cabo arrefecido a água, equipado com vários instrumentos indicadores e funções de alarme. A parte de controlo utiliza um ecrã tátil de 15 polegadas e um controlador programável PLC.
Detalhes e peças
Aplicações
O forno de grafitização de temperatura ultra-alta encontra aplicações numa vasta gama de indústrias, incluindo:
- Cozedura de cerâmica
- Crescimento de carboneto
- Carbonização
- Grafitização
- Sinterização
- Recozimento
- Brasagem
- Desgaseificação
Características
O forno de grafitização de temperatura ultra-alta oferece uma gama de características avançadas que proporcionam vantagens significativas aos utilizadores:
- Capacidade para altas temperaturas: O forno pode atingir temperaturas até 2200°C, tornando-o adequado para uma vasta gama de aplicações de alta temperatura.
- Elevada eficiência: O forno à base de grafite é extremamente eficiente, resultando num menor consumo de energia e em tempos de aquecimento mais rápidos.
- Aquecimento uniforme: O design do forno assegura um aquecimento uniforme em toda a câmara, proporcionando resultados consistentes.
- Ambiente de vácuo ou de gás inerte: O forno pode ser operado em ambiente de vácuo ou de gás inerte, permitindo um controlo preciso da atmosfera que envolve a peça de trabalho.
- Sistema de controlo inteligente: O forno está equipado com um ecrã tátil avançado e um controlador programável para um controlo e monitorização precisos da temperatura.
- Características de segurança: O forno inclui alarmes sonoros e visuais para sobretensão, sobrecorrente e corte de água, garantindo um funcionamento seguro.
Princípio de funcionamento
O forno de grafitização de temperatura ultra-alta funciona com base no princípio do aquecimento por indução de média frequência. A bobina de indução gera um campo magnético alternado, induzindo correntes de Foucault no cadinho de grafite. Isto gera altas temperaturas que se irradiam para a peça de trabalho, levando-a à temperatura desejada. Este forno é utilizado para a grafitização e sinterização de materiais de carbono, materiais de fibra de carbono e materiais compósitos.
Vantagens
- Alta temperatura: O forno de grafitização de temperatura ultra-alta pode atingir uma temperatura de 2500°C, o que é adequado para uma variedade de aplicações de tratamento de alta temperatura e tratamento de grafitização.
- Alta eficiência: O forno de grafitização de temperatura ultra-alta usa o princípio de aquecimento por indução de média frequência, que tem as vantagens de alta eficiência e aquecimento uniforme.
- Aquecimento uniforme: O forno de grafitização de temperatura ultra-alta usa um cadinho de grafite para gerar alta temperatura e irradia para a peça de trabalho, o que pode alcançar um aquecimento uniforme da peça de trabalho.
- Ampla aplicação: O forno de grafitização de temperatura ultra-alta é adequado para grafitização e sinterização de materiais de carbono, materiais de fibra de carbono e outros materiais compostos.
- Fácil de operar: O forno de grafitização de temperatura ultra-alta é controlado por um ecrã tátil de 15 polegadas e um controlador programável PLC, que é fácil de operar.
- Seguro e fiável: O forno de grafitização a temperatura ultra-alta tem funções de alarme sonoro e visual, como sobretensão, sobrecorrente e corte de água, o que é seguro e fiável.
Especificações técnicas
| Capacidade de alimentação eléctrica | 60KVA |
| Fonte de alimentação | 4000～8000Hz (rastreamento automático) |
| Temperatura | 3000℃ |
| Precisão do controlo de temperatura | ±2℃ |
| Método de medição de temperatura | 1100℃～3000℃ |
| Tamanho efetivo da área de trabalho | Φ200×200 mm (diâmetro×altura) |
| Grau de vácuo final a frio | 133Pa |
| Aumento de pressão | 3.0 Pa/h |
| Atmosfera protetora | Árgon Nitrogénio |
| Pressão de insuflação | ≤ 0,03MPa |
| Método de entrada e saída de material | Carga e descarga pelo topo |
| Condições de aquecimento | Sinterização em atmosfera (gás inerte) |
FAQ
O Que é Um Forno De Grafitização?
What Is A Graphite Vacuum Furnace Used For?
O Que é O Forno CVD?
A deposição química de vapor (CVD) é uma tecnologia que utiliza várias fontes de energia, como aquecimento, excitação de plasma ou radiação de luz para reagir quimicamente substâncias químicas gasosas ou de vapor na fase gasosa ou na interface gás-sólido para formar depósitos sólidos no reator por meio de reação química. simplificando, duas ou mais matérias-primas gasosas são introduzidas em uma câmara de reação e, em seguida, reagem entre si para formar um novo material e depositá-lo na superfície do substrato.
O forno CVD é um sistema de forno combinado com unidade de forno tubular de alta temperatura, unidade de controle de gases e unidade de vácuo, é amplamente utilizado para experimentos e produção de preparação de material composto, processo microeletrônico, optoeletrônico semicondutor, utilização de energia solar, comunicação de fibra ótica, tecnologia de supercondutor, campo de revestimento protetor.
Qual é O Princípio De Funcionamento De Um Forno De Grafitização De Temperatura Ultra-alta?
Quais São Os Principais Componentes De Um Forno De Grafitização De Temperatura Ultra-alta?
Como Manter Um Forno De Grafitização De Temperatura Ultra-alta?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos De Grafitização?
What Are The Main Types Of Graphite Vacuum Furnaces?
Como é Que O Forno CVD Funciona?
O sistema de forno CVD consiste em uma unidade de forno de tubo de alta temperatura, unidade de controle preciso da fonte de gás reagente, estação de bomba de vácuo e peças de montagem correspondentes.
A bomba de vácuo é para remover o ar do tubo de reação e garantir que não haja gases indesejados dentro do tubo de reação, depois que o forno de tubo aquecerá o tubo de reação a uma temperatura alvo, então a unidade de controle preciso da fonte de gás reagente pode introduzir gases diferentes com uma proporção definida no tubo do forno para a reação química, a deposição de vapor químico será formada no forno CVD.
Quais São Os Diferentes Tipos De Fornos De Grafitização?
How Does A Graphite Vacuum Furnace Work?
Que Gás é Utilizado No Processo CVD?
Existem tremendas fontes de gás que podem ser usadas no processo CVD, as reações químicas comuns do CVD incluem pirólise, fotólise, redução, oxidação, redox, de modo que os gases envolvidos nessas reações químicas podem ser usados no processo CVD.
Tomamos o crescimento de grafeno CVD como exemplo, os gases usados no processo CVD serão CH4, H2, O2 e N2.
Como é Que Um Forno De Grafitização Funciona?
What Are The Advantages Of Using A Graphite Vacuum Furnace?
Qual é A Vantagem Do Sistema CVD?
- Pode ser produzida uma vasta gama de películas, películas metálicas, películas não metálicas e películas de ligas multicomponentes, conforme necessário. Ao mesmo tempo, pode preparar cristais de alta qualidade que são difíceis de obter por outros métodos, como GaN, BP, etc.
- A velocidade de formação da película é rápida, geralmente vários microns por minuto ou mesmo centenas de microns por minuto. É possível depositar simultaneamente grandes quantidades de revestimentos com composição uniforme, o que é incomparável com outros métodos de preparação de filmes, como epitaxia de fase líquida (LPE) e epitaxia de feixe molecular (MBE).
- As condições de trabalho são realizadas sob pressão normal ou condições de baixo vácuo, de modo que o revestimento tem boa difração, e as peças de trabalho com formas complexas podem ser uniformemente revestidas, o que é muito superior ao PVD.
- Devido à difusão mútua do gás de reação, do produto da reação e do substrato, pode obter-se um revestimento com boa força de adesão, o que é crucial para a preparação de películas reforçadas à superfície, tais como películas resistentes ao desgaste e anti-corrosão.
- Algumas películas crescem a uma temperatura muito inferior ao ponto de fusão do material da película. Sob a condição de crescimento a baixa temperatura, o gás de reação e a parede do reator e as impurezas contidas neles quase não reagem, de modo que um filme com alta pureza e boa cristalinidade pode ser obtido.
- A deposição química de vapor pode obter uma superfície de deposição lisa. Isso ocorre porque, em comparação com o LPE, a deposição de vapor químico (CVD) é realizada sob alta saturação, com alta taxa de nucleação, alta densidade de nucleação e distribuição uniforme em todo o plano, resultando em uma superfície lisa macroscópica. Ao mesmo tempo, na deposição de vapor químico, o caminho livre médio das moléculas (átomos) é muito maior do que o LPE, de modo que a distribuição espacial das moléculas é mais uniforme, o que favorece a formação de uma superfície de deposição lisa.
- Baixos danos por radiação, que é uma condição necessária para a fabricação de semicondutores de óxido metálico (MOS) e outros dispositivos
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno De Grafitização?
What Temperature Range Can A Graphite Vacuum Furnace Achieve?
O Que Significa PECVD?
O PECVD é uma tecnologia que utiliza o plasma para ativar o gás de reação, promover a reação química na superfície do substrato ou no espaço próximo da superfície e gerar uma película sólida. O princípio básico da tecnologia de deposição de vapor químico de plasma é que, sob a ação do campo elétrico de RF ou DC, o gás de origem é ionizado para formar um plasma, o plasma de baixa temperatura é usado como fonte de energia, uma quantidade apropriada de gás de reação é introduzida e a descarga de plasma é usada para ativar o gás de reação e realizar a deposição de vapor químico.
De acordo com o método de geração de plasma, ele pode ser dividido em plasma de RF, plasma de DC e plasma de micro-ondas CVD, etc ...
What Industries Benefit From Graphite Vacuum Furnaces?
Qual é A Diferença Entre CVD E PECVD?
A diferença entre o PECVD e a tecnologia CVD tradicional é que o plasma contém um grande número de electrões de alta energia, que podem fornecer a energia de ativação necessária no processo de deposição de vapor químico, alterando assim o modo de fornecimento de energia do sistema de reação. Uma vez que a temperatura dos electrões no plasma é tão elevada como 10000K, a colisão entre os electrões e as moléculas de gás pode promover a quebra de ligações químicas e a recombinação das moléculas de gás de reação para gerar grupos químicos mais activos, enquanto todo o sistema de reação mantém uma temperatura mais baixa.
Assim, em comparação com o processo CVD, o PECVD pode realizar o mesmo processo de deposição química de vapor com uma temperatura mais baixa.
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The furnace is very efficient and has uniform heating, which greatly improves our work efficiency.
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The furnace is easy to operate and can be controlled by a touch screen, which is very convenient.
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The furnace is very safe and reliable, with audible and visual alarm functions, which gives me a sense of security.
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