Forno CVD e PECVD
Forno de Tubo CVD de Câmara Dividida com Estação de Vácuo Sistema de Deposição Química em Fase de Vapor Equipamento Máquina
Número do item : KT-CTF12
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura máxima
- 1200 ℃
- Temperatura de trabalho constante
- 1100 ℃
- Diâmetro do tubo do forno
- 60 mm
- Comprimento da zona de aquecimento
- 1x450 mm
- Taxa de aquecimento
- 0-20 ℃/min
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Introdução
O Forno de Tubo CVD de Câmara Dividida com Estação de Vácuo é um equipamento de laboratório versátil e de alto desempenho projetado para aplicações de deposição química em fase de vapor (CVD). Ele apresenta uma câmara de forno dividida que permite fácil acesso às amostras de reação e resfriamento rápido. O tubo do forno é feito de quartzo de alta temperatura e tem um diâmetro de 60 mm. O sistema inclui um medidor de fluxo de massa MFC de 4 canais com gases de origem CH4, H2, O2 e N2, fornecendo controle preciso sobre as taxas de fluxo de gás. A estação de vácuo possui uma bomba de vácuo de palhetas rotativas de 4 L/S, atingindo uma pressão de vácuo máxima de 10 Pa. Com seus recursos e capacidades avançados, o Forno de Tubo CVD de Câmara Dividida com Estação de Vácuo é uma escolha ideal para várias aplicações de pesquisa e desenvolvimento em ciência de materiais, processamento de semicondutores e outros campos.
Detalhes e Peças
Aplicações
A Máquina CVD de Forno de Tubo CVD de Câmara Dividida com Estação de Vácuo é um equipamento versátil e avançado projetado para uma variedade de aplicações nas áreas de ciência de materiais, fabricação de semicondutores e pesquisa e desenvolvimento. Esta máquina é particularmente útil para processos que exigem controle preciso sobre temperatura, fluxo de gás e níveis de vácuo, tornando-a uma ferramenta essencial para síntese e processamento de materiais de alta qualidade.
- Síntese de Nanomateriais: O forno é ideal para o crescimento de nanofios, nanofilmes e outros materiais nanoestruturados, que são cruciais no desenvolvimento de dispositivos eletrônicos e optoeletrônicos avançados.
- Revestimento a Vácuo: É amplamente utilizado para a deposição de filmes finos em vários substratos, incluindo filmes metálicos, filmes cerâmicos e filmes compósitos, que são essenciais para melhorar as propriedades dos materiais em aplicações como óptica e eletrônica.
- Processamento de Materiais de Bateria: O forno é adequado para a secagem e sinterização de materiais de bateria, que é uma etapa crítica na produção de baterias de alto desempenho.
- Secagem e Sinterização de Materiais: É usado na sinterização de alta temperatura de cerâmicas, materiais refratários e materiais especiais, garantindo a consolidação e densificação desses materiais.
- Tratamento Térmico em Atmosfera e Vácuo: A configuração do forno de tubo vertical permite o resfriamento rápido, recozimento e têmpera de pequenas peças de aço, bem como revestimento CVD vertical, tornando-o um ativo valioso em processos metalúrgicos.
- Pesquisa e Desenvolvimento: É amplamente utilizado em universidades, institutos de pesquisa e empresas industriais e de mineração para a realização de experimentos de alta temperatura, sinterização em atmosfera, atmosfera redutora e experimentos CVD/CVI, contribuindo para o avanço da ciência e tecnologia de materiais.
Características
A Máquina CVD de Forno de Tubo CVD de Câmara Dividida com Estação de Vácuo é um equipamento sofisticado projetado para processos avançados de deposição química em fase de vapor (CVD). Este forno integra tecnologia de ponta para aumentar a eficiência e a qualidade da deposição de filmes, tornando-o ideal para aplicações de pesquisa e industriais. Aqui estão os principais recursos e seus benefícios:
- Alta Taxa de Deposição de Filmes: Utilizando tecnologia de descarga de radiofrequência, este forno aumenta significativamente a taxa de deposição de filmes, atingindo até 10Å/S. Essa deposição rápida é crucial para produção e pesquisa de alto rendimento, economizando tempo e aumentando a produtividade.
- Uniformidade de Grande Área: Com tecnologia avançada de alimentação de RF multiponto e distribuição especializada de caminho de gás, o forno garante uniformidade de filme de até 8%. Essa uniformidade é essencial para criar revestimentos consistentes e de alta qualidade em substratos grandes, aumentando a confiabilidade dos materiais produzidos.
- Deposição Consistente: O design incorpora conceitos avançados da indústria de semicondutores, resultando em um desvio de menos de 2% entre os substratos. Esse alto nível de consistência é vital para aplicações que exigem resultados precisos e repetíveis, como na produção de componentes eletrônicos.
- Controle de Processo Estável: A alta estabilidade do equipamento garante a continuidade e a consistência do processo CVD. Essa confiabilidade é crítica para manter a integridade do processo e reduzir o risco de defeitos ou falhas durante a operação.
- Sistema de Controle Inteligente: Patenteado pela Bonage, o sistema de controle integrado inclui um sistema de controle de temperatura de alto desempenho que usa um mecanismo de feedback negativo em malha fechada. Este sistema, combinado com componentes elétricos importados de alta qualidade, aumenta o desempenho geral e a confiabilidade do equipamento, tornando-o virtualmente livre de manutenção.
- Aplicações Versáteis: Adequado para depositar vários tipos de filmes, incluindo filmes metálicos, cerâmicos e compósitos, o forno suporta processos de crescimento contínuo e pode ser facilmente expandido com funções adicionais como limpeza e gravação por plasma. Essa versatilidade o torna um ativo valioso para diversas necessidades de pesquisa e produção.
Princípio
A Máquina CVD de Forno de Tubo CVD de Câmara Dividida com Estação de Vácuo é um forno a vácuo de alta temperatura usado para processos de deposição química em fase de vapor (CVD). CVD é um processo no qual um filme fino de material é depositado em um substrato pela reação química de um gás ou vapor. A Máquina CVD de Forno de Tubo CVD de Câmara Dividida com Estação de Vácuo usa uma câmara de forno dividida para permitir fácil acesso ao substrato durante o processo CVD. A estação de vácuo é usada para criar um vácuo na câmara do forno, o que ajuda a remover impurezas e melhorar a qualidade do filme depositado.
Vantagens
- Observação intuitiva de amostras e resfriamento rápido: A câmara do forno dividida permite a observação direta das amostras de reação e resfriamento rápido.
- Capacidade de alta temperatura: Temperatura máxima de trabalho de até 1200℃ para aplicações versáteis.
- Controle preciso de gás: Medidor de fluxo de massa MFC de 4 canais com fontes CH4, H2, O2 e N2 garante um fornecimento de gás preciso e estável.
- Compatibilidade com vácuo: A estação de vácuo com uma bomba de vácuo de palhetas rotativas de 4 L/S atinge uma pressão de vácuo máxima de até 10 Pa, permitindo vários processos de vácuo.
- Aquecimento e resfriamento de alta velocidade: O sistema de deslizamento da câmara do forno facilita o aquecimento e resfriamento rápidos para processamento eficiente de amostras.
- Controle avançado de temperatura: Controle de temperatura programável PID com excelente precisão, controle remoto e capacidades de controle centralizado.
- Interface amigável: O controlador CTF Pro com tela sensível ao toque TFT de 7 polegadas oferece configuração intuitiva de programas e análise de dados.
- Configuração de vácuo versátil: Flange de vácuo de aço inoxidável com portas adaptáveis acomoda diferentes estações de bomba de vácuo para ambientes de vácuo personalizados.
- Eficiência energética: O sistema de resfriamento a água e o design de fluxo de gás pós-tratamento minimizam o consumo de energia.
- Ampla aplicabilidade: Adequado para CVD, difusão e outros tratamentos térmicos sob vácuo e proteção de atmosfera.
Vantagem de Segurança
- O forno de tubo Kindle Tech possui proteção contra sobrecorrente e função de alarme de sobretemperatura, o forno desligará a energia automaticamente
- Função de detecção de termopar integrada no forno, o forno parará de aquecer e o alarme será ativado assim que for detectada uma quebra ou falha
- O KT-CTF12 Pro suporta a função de reinicialização após falha de energia, o forno retomará o programa de aquecimento do forno quando a energia for recebida após a falha
Especificações técnicas
| Modelo do forno | KT-CTF12-60 |
|---|---|
| Temperatura máx. | 1200℃ |
| Temperatura de trabalho constante | 1100℃ |
| Material do tubo do forno | Quartzo de alta pureza |
| Diâmetro do tubo do forno | 60mm |
| Comprimento da zona de aquecimento | 1x450mm |
| Material da câmara | Fibra de alumina do Japão |
| Elemento de aquecimento | Bobina de fio Cr2Al2Mo2 |
| Taxa de aquecimento | 0-20℃/min |
| Termopar | Tipo K embutido |
| Controlador de temperatura | Controlador digital PID/Controlador PID de tela sensível ao toque |
| Precisão do controle de temperatura | ±1℃ |
| Distância de deslizamento | 600mm |
| Unidade de controle preciso de gás | |
| Medidor de fluxo | Medidor de fluxo de massa MFC |
| Canais de gás | 4 canais |
| Taxa de fluxo | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearidade | ±0,5% F.S. |
| Repetibilidade | ±0,2% F.S. |
| Tubulação e válvula | Aço inoxidável |
| Pressão máxima de operação | 0,45 MPa |
| Controlador de medidor de fluxo | Controlador de botão digital/Controlador de tela sensível ao toque |
| Unidade de vácuo padrão (Opcional) | |
| Bomba de vácuo | Bomba de vácuo de palhetas rotativas |
| Taxa de fluxo da bomba | 4L/S |
| Porta de sucção a vácuo | KF25 |
| Manômetro de vácuo | Manômetro de vácuo Pirani/Resistência de silício |
| Pressão de vácuo nominal | 10Pa |
| Unidade de alto vácuo (Opcional) | |
| Bomba de vácuo | Bomba de palhetas rotativas + Bomba molecular |
| Taxa de fluxo da bomba | 4L/S+110L/S |
| Porta de sucção a vácuo | KF25 |
| Manômetro de vácuo | Manômetro de vácuo composto |
| Pressão de vácuo nominal | 6x10-5Pa |
| As especificações e configurações acima podem ser personalizadas | |
Pacote Padrão
| Nº | Descrição | Quantidade |
|---|---|---|
| 1 | Forno | 1 |
| 2 | Tubo de quartzo | 1 |
| 3 | Flange de vácuo | 2 |
| 4 | Bloco térmico do tubo | 2 |
| 5 | Gancho do bloco térmico do tubo | 1 |
| 6 | Luva resistente ao calor | 1 |
| 7 | Controle preciso de gás | 1 |
| 8 | Unidade de vácuo | 1 |
| 9 | Manual de operação | 1 |
Configuração Opcional
- Detecção e monitoramento de gases no tubo, como H2, O2 e assim por diante
- Monitoramento e gravação independentes da temperatura do forno
- Porta de comunicação RS 485 para controle remoto do PC e exportação de dados
- Controle de fluxo de alimentação de gases de inserção, como medidor de fluxo de massa e medidor de fluxo de flutuação
- Controlador de temperatura de tela sensível ao toque com funções versáteis e amigáveis ao operador
- Configurações de bomba de alto vácuo, como bomba de vácuo de palhetas, bomba molecular, bomba de difusão
Avisos
A segurança do operador é a questão mais importante! Por favor, opere o equipamento com cautelas. Trabalhar com gases inflamáveis, explosivos ou tóxicos é muito perigoso, os operadores devem tomar todas as precauções necessárias antes de iniciar o equipamento. Trabalhar com pressão positiva dentro dos reactores ou câmaras é perigoso, o operador deve seguir rigorosamente os procedimentos de segurança. Extra também deve ser tido cuidado ao operar com materiais reativos ao ar, especialmente sob vácuo. Uma fuga pode aspirar ar para dentro do aparelho e provocar ocorrer uma reação violenta.
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FAQ
O Que é O Forno CVD?
A deposição química de vapor (CVD) é uma tecnologia que utiliza várias fontes de energia, como aquecimento, excitação de plasma ou radiação de luz para reagir quimicamente substâncias químicas gasosas ou de vapor na fase gasosa ou na interface gás-sólido para formar depósitos sólidos no reator por meio de reação química. simplificando, duas ou mais matérias-primas gasosas são introduzidas em uma câmara de reação e, em seguida, reagem entre si para formar um novo material e depositá-lo na superfície do substrato.
O forno CVD é um sistema de forno combinado com unidade de forno tubular de alta temperatura, unidade de controle de gases e unidade de vácuo, é amplamente utilizado para experimentos e produção de preparação de material composto, processo microeletrônico, optoeletrônico semicondutor, utilização de energia solar, comunicação de fibra ótica, tecnologia de supercondutor, campo de revestimento protetor.
O Que é Um Forno Tubular?
O forno tubular de laboratório é um forno tubular clássico de aquecimento externo de alta temperatura, também chamado de forno de aquecimento de parede quente.
De acordo com a temperatura de trabalho diferente, o material do tubo do forno geralmente pode ser tubos de quartzo transparentes, tubos de cerâmica de alumina de alta pureza e tubos de liga metálica de alta resistência.
Para atender a diferentes propósitos de pesquisa térmica, o forno de tubo pode ser projetado com várias zonas de aquecimento, de modo a ter um controle flexível do gradiente de temperatura na câmara de trabalho do tubo; o tubo do forno pode funcionar com um ambiente de trabalho de atmosfera controlada ou um ambiente de trabalho de alto vácuo.
Para Que é Utilizado Um Forno De Vácuo?
Como é Que O Forno CVD Funciona?
O sistema de forno CVD consiste em uma unidade de forno de tubo de alta temperatura, unidade de controle preciso da fonte de gás reagente, estação de bomba de vácuo e peças de montagem correspondentes.
A bomba de vácuo é para remover o ar do tubo de reação e garantir que não haja gases indesejados dentro do tubo de reação, depois que o forno de tubo aquecerá o tubo de reação a uma temperatura alvo, então a unidade de controle preciso da fonte de gás reagente pode introduzir gases diferentes com uma proporção definida no tubo do forno para a reação química, a deposição de vapor químico será formada no forno CVD.
Como é Que Um Forno Tubular Funciona?
Os elementos de aquecimento do forno tubular são colocados em torno da cavidade cilíndrica, o forno só pode aquecer as amostras na cavidade cilíndrica através de radiação térmica indireta, uma vez que o tubo do forno pode impedir que o material da amostra entre em contato com os elementos de aquecimento do forno e os materiais de isolamento, de modo que o forno tubular cria uma câmara de calor isolada e limpa e reduz os riscos de contaminação do material da amostra pelo forno.
O Que é O Mpcvd?
Qual é O Processo De Um Forno De Vácuo?
Que Gás é Utilizado No Processo CVD?
Existem tremendas fontes de gás que podem ser usadas no processo CVD, as reações químicas comuns do CVD incluem pirólise, fotólise, redução, oxidação, redox, de modo que os gases envolvidos nessas reações químicas podem ser usados no processo CVD.
Tomamos o crescimento de grafeno CVD como exemplo, os gases usados no processo CVD serão CH4, H2, O2 e N2.
Qual é A Aplicação Do Forno Tubular?
O forno tubular é usado principalmente em metalurgia, vidro, tratamento térmico, ânodo de lítio e materiais catódicos, novas energias, abrasivos e outras indústrias, e é um equipamento profissional para medir materiais sob certas condições de temperatura.
O forno tubular apresenta estrutura simples, operação fácil, controle fácil e produção contínua.
O forno tubular também é amplamente aplicado nos sistemas CVD (deposição de vapor químico) e CVD aprimorado por plasma.
O Que é A Máquina Mpcvd?
Que Gás é Utilizado Num Forno De Vácuo?
Qual é A Vantagem Do Sistema CVD?
- Pode ser produzida uma vasta gama de películas, películas metálicas, películas não metálicas e películas de ligas multicomponentes, conforme necessário. Ao mesmo tempo, pode preparar cristais de alta qualidade que são difíceis de obter por outros métodos, como GaN, BP, etc.
- A velocidade de formação da película é rápida, geralmente vários microns por minuto ou mesmo centenas de microns por minuto. É possível depositar simultaneamente grandes quantidades de revestimentos com composição uniforme, o que é incomparável com outros métodos de preparação de filmes, como epitaxia de fase líquida (LPE) e epitaxia de feixe molecular (MBE).
- As condições de trabalho são realizadas sob pressão normal ou condições de baixo vácuo, de modo que o revestimento tem boa difração, e as peças de trabalho com formas complexas podem ser uniformemente revestidas, o que é muito superior ao PVD.
- Devido à difusão mútua do gás de reação, do produto da reação e do substrato, pode obter-se um revestimento com boa força de adesão, o que é crucial para a preparação de películas reforçadas à superfície, tais como películas resistentes ao desgaste e anti-corrosão.
- Algumas películas crescem a uma temperatura muito inferior ao ponto de fusão do material da película. Sob a condição de crescimento a baixa temperatura, o gás de reação e a parede do reator e as impurezas contidas neles quase não reagem, de modo que um filme com alta pureza e boa cristalinidade pode ser obtido.
- A deposição química de vapor pode obter uma superfície de deposição lisa. Isso ocorre porque, em comparação com o LPE, a deposição de vapor químico (CVD) é realizada sob alta saturação, com alta taxa de nucleação, alta densidade de nucleação e distribuição uniforme em todo o plano, resultando em uma superfície lisa macroscópica. Ao mesmo tempo, na deposição de vapor químico, o caminho livre médio das moléculas (átomos) é muito maior do que o LPE, de modo que a distribuição espacial das moléculas é mais uniforme, o que favorece a formação de uma superfície de deposição lisa.
- Baixos danos por radiação, que é uma condição necessária para a fabricação de semicondutores de óxido metálico (MOS) e outros dispositivos
Quantos Tipos Diferentes De Fornos Tubulares?
O forno tubular pode trabalhar com diferentes funções mecânicas sem problemas, por isso existem muitos tipos diferentes de variações de forno tubular para diferentes fins experimentais, os fornos típicos são os seguintes:
- Forno de tubo horizontal
- Forno de tubo vertical
- Forno de tubo dividido
- Forno de tubo rotativo
- Forno de tubo basculante
- Forno de tubo deslizante
- Forno de tubo de aquecimento e resfriamento rápido
- Forno de tubo de alimentação e descarga contínua
Quais São As Vantagens Do Mpcvd?
Qual é O Elemento De Aquecimento Utilizado Num Forno De Vácuo?
O Que Significa PECVD?
O PECVD é uma tecnologia que utiliza o plasma para ativar o gás de reação, promover a reação química na superfície do substrato ou no espaço próximo da superfície e gerar uma película sólida. O princípio básico da tecnologia de deposição de vapor químico de plasma é que, sob a ação do campo elétrico de RF ou DC, o gás de origem é ionizado para formar um plasma, o plasma de baixa temperatura é usado como fonte de energia, uma quantidade apropriada de gás de reação é introduzida e a descarga de plasma é usada para ativar o gás de reação e realizar a deposição de vapor químico.
De acordo com o método de geração de plasma, ele pode ser dividido em plasma de RF, plasma de DC e plasma de micro-ondas CVD, etc ...
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular?
Os Diamantes CVD São Reais Ou Falsos?
Qual é A Diferença Entre CVD E PECVD?
A diferença entre o PECVD e a tecnologia CVD tradicional é que o plasma contém um grande número de electrões de alta energia, que podem fornecer a energia de ativação necessária no processo de deposição de vapor químico, alterando assim o modo de fornecimento de energia do sistema de reação. Uma vez que a temperatura dos electrões no plasma é tão elevada como 10000K, a colisão entre os electrões e as moléculas de gás pode promover a quebra de ligações químicas e a recombinação das moléculas de gás de reação para gerar grupos químicos mais activos, enquanto todo o sistema de reação mantém uma temperatura mais baixa.
Assim, em comparação com o processo CVD, o PECVD pode realizar o mesmo processo de deposição química de vapor com uma temperatura mais baixa.
Que Precauções De Segurança Devem Ser Tomadas Quando Se Utiliza Um Forno Tubular?
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