Forno de grafitização
Forno vertical de grafitização a alta temperatura
Número do item : GF-05
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Volume (L)
- 125 / 196 / 282 / 550 / 1000 / 1500
- Área de aquecimento efectiva (mm)
- Φ400×1000 / Φ500×1000 / Φ600×1000 / Φ700×1400 / Φ900×1600 / Φ1000×2000
- Potência (KW)
- 150 / 200 / 300 / 500 / 600 / 800
- Frequência (HZ)
- 1500 / 1000
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O forno de grafitização vertical de alta temperatura é um forno de alta temperatura utilizado para experiências de grafitização e para a produção de vários materiais de carbono. Caracteriza-se pelo seu rápido aumento de temperatura, alta eficiência e distribuição uniforme de temperatura. O forno usa isolamento de tijolo de alumina de camada dupla para evitar curto-circuitos e garantir isolamento térmico, resistência ao fogo e estabilidade. Possui um sistema de monitorização de fluxo digital e um sistema de proteção e controlo automático PLC abrangente de água, eletricidade e gás.
Aplicações
Os fornos verticais de grafitização de alta temperatura são amplamente utilizados em várias indústrias, incluindo:
- Cozedura de cerâmica
- Crescimento de carboneto
- Carbonização
- Grafitização
- Sinterização
- Recozimento
- Brasagem
- Desgaseificação
Características
O forno vertical de grafitização a alta temperatura é uma peça de equipamento de laboratório topo de gama que oferece uma série de vantagens aos utilizadores. Estes benefícios incluem:
- Alta uniformidade de temperatura: O design único do forno assegura que a temperatura é distribuída uniformemente por toda a câmara do forno, o que é essencial para obter resultados consistentes.
- Baixo consumo de energia: O material de isolamento de tijolo de alumina de camada dupla do forno ajuda a minimizar a perda de calor, o que reduz o consumo de energia e os custos operacionais.
- Boa estabilidade: O contactor de média frequência de alto desempenho do forno e o sistema abrangente de proteção e controlo automático de água, eletricidade e gás PLC garantem que o forno funciona de forma estável e fiável.
- Sistema digital de monitorização do fluxo: O sistema de monitorização digital do caudal do forno permite a monitorização em tempo real do caudal de água no quadro elétrico, o que ajuda a evitar o sobreaquecimento e os danos no forno.
- Vários fornos podem ser ligados para aquecer e desligados para arrefecer, respetivamente, para obter um funcionamento contínuo: Esta caraterística permite que os utilizadores utilizem vários fornos em simultâneo, o que pode aumentar a produtividade e o rendimento.
Princípio de funcionamento
O forno de grafitização vertical de alta temperatura é um forno de vácuo de alta temperatura que utiliza grafite como elemento de aquecimento. O forno é constituído por uma câmara cilíndrica de grafite com uma camisa arrefecida a água. A câmara é aquecida pela passagem de uma corrente eléctrica através das paredes de grafite. A temperatura do forno é controlada através do ajuste do fluxo de corrente.
O forno vertical de grafitização a alta temperatura é utilizado para uma variedade de aplicações, incluindo
- Grafitização de materiais de carbono
- Sinterização de pós metálicos
- Tratamento térmico de metais e cerâmicas
- Recozimento de metais
- Crescimento de cristais
Vantagens
- Aquecimento e arrefecimento rápidos: As excelentes propriedades termomecânicas da grafite permitem mudanças rápidas de temperatura, reduzindo os ciclos do processo.
- Uniformidade de alta temperatura: O design único do forno assegura uma distribuição consistente da temperatura em toda a câmara do forno.
- Baixo consumo de energia: O isolamento de tijolo de alumina de camada dupla minimiza a perda de calor e aumenta a eficiência energética.
- Funcionamento de vários fornos: Uma única fonte de alimentação pode acomodar vários fornos, permitindo o funcionamento contínuo.
- Monitorização e controlo abrangentes: O sistema baseado em PLC permite a monitorização em tempo real e o controlo automático da água, eletricidade e gás.
- Económico: Os fornos de grafite de alta temperatura oferecem uma solução económica para aplicações de alta temperatura.
- Fácil manutenção: A substituição no terreno da zona quente de grafite é simples e rápida, minimizando o tempo de inatividade.
Parâmetros técnicos e especificações
Uniformidade da temperatura do corpo do forno: Utilizando o aquecimento por indução de média frequência, a temperatura sobe rapidamente e a eficiência é elevada. O design exclusivo do forno melhora muito a uniformidade da temperatura do corpo do forno;
Baixo consumo de energia e boa estabilidade: O material de isolamento de tijolo de alumina de camada dupla é utilizado para evitar curto-circuitos entre o feltro de carbono e a bobina, bom isolamento térmico e resistência ao fogo, pequena perda de calor e boa estabilidade do equipamento;
De acordo com as necessidades do tempo do processo de sinterização, uma única fonte de alimentação pode ser configurada com vários fornos eléctricos, e os vários fornos podem ser ligados para aquecer e desligados para arrefecer, respetivamente, para conseguir um funcionamento contínuo;
Sistema digital de monitorização do fluxo, cada canal de monitorização e proteção do fluxo de água no quadro elétrico, conversão do forno utilizando um contactor de média frequência de alto desempenho; sistema abrangente de controlo automático e proteção da água, eletricidade e gás PLC.
| Especificações do modelo do produto | GF-05-Ф40×100 | GF-05-Ф50×100 | GF-05-Ф60×100 | GF-05-Ф70×140 | GF-05-Ф90×160 | GF-05-Ф100×200 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Volume (L) | 125 | 196 | 282 | 550 | 1000 | 1500 |
| Temperatura nominal (C) | 2800 | 2800 | 2800 | 2800 | 2800 | 2600 |
| Temperatura limite (C) | 3100 | 3100 | 3100 | 3100 | 300 | 2800 |
| Área de aquecimento efectiva (mm) | Ф400×1000 | Ф500×1000 | Ф600×1000 | Ф700×1400 | Ф900×1600 | Ф1000×2000 |
| Potência (KW) | 150 | 200 | 300 | 500 | 600 | 800 |
| Frequência (HZ) | 1500 | 1000 | 1000 | 1000 | 1000 | 1000 |
| Método de controlo da temperatura | Termóstato elétrico Shima do Japão | |||||
| Método de aquecimento | Aquecimento por indução | |||||
| Sistema de vácuo | Bomba de vácuo de palhetas rotativas (para requisitos de vácuo elevado, são necessárias uma bomba de vácuo Roots e uma bomba de difusão de óleo) | |||||
| atmosfera de sinterização | N² Ar e outros gases | |||||
| Tensão nominal de alimentação (V) | 380 | |||||
| Tensão nominal de aquecimento (V) | 750 | |||||
| Limite de vácuo (Pa) | 100 (estado frio de vácuo) | |||||
FAQ
O que é um forno de grafitização?
O que é o forno CVD?
A deposição química de vapor (CVD) é uma tecnologia que utiliza várias fontes de energia, como aquecimento, excitação de plasma ou radiação de luz para reagir quimicamente substâncias químicas gasosas ou de vapor na fase gasosa ou na interface gás-sólido para formar depósitos sólidos no reator por meio de reação química. simplificando, duas ou mais matérias-primas gasosas são introduzidas em uma câmara de reação e, em seguida, reagem entre si para formar um novo material e depositá-lo na superfície do substrato.
O forno CVD é um sistema de forno combinado com unidade de forno tubular de alta temperatura, unidade de controle de gases e unidade de vácuo, é amplamente utilizado para experimentos e produção de preparação de material composto, processo microeletrônico, optoeletrônico semicondutor, utilização de energia solar, comunicação de fibra ótica, tecnologia de supercondutor, campo de revestimento protetor.
Para que é utilizado um forno de vácuo?
O que é um forno tubular?
O forno tubular de laboratório é um forno tubular clássico de aquecimento externo de alta temperatura, também chamado de forno de aquecimento de parede quente.
De acordo com a temperatura de trabalho diferente, o material do tubo do forno geralmente pode ser tubos de quartzo transparentes, tubos de cerâmica de alumina de alta pureza e tubos de liga metálica de alta resistência.
Para atender a diferentes propósitos de pesquisa térmica, o forno de tubo pode ser projetado com várias zonas de aquecimento, de modo a ter um controle flexível do gradiente de temperatura na câmara de trabalho do tubo; o tubo do forno pode funcionar com um ambiente de trabalho de atmosfera controlada ou um ambiente de trabalho de alto vácuo.
Para que são utilizados os fornos de mufla?
O que são os fornos dentários?
Quais são os principais tipos de máquinas de processamento de borracha?
Quais são as diferenças entre o forno de grafitização vertical de alta temperatura e o forno de grafite de alta temperatura (HTG)?
Qual é o objetivo do forno de grafitização vertical de alta temperatura?
Quais são as principais aplicações dos fornos de grafitização?
Como é que o forno CVD funciona?
O sistema de forno CVD consiste em uma unidade de forno de tubo de alta temperatura, unidade de controle preciso da fonte de gás reagente, estação de bomba de vácuo e peças de montagem correspondentes.
A bomba de vácuo é para remover o ar do tubo de reação e garantir que não haja gases indesejados dentro do tubo de reação, depois que o forno de tubo aquecerá o tubo de reação a uma temperatura alvo, então a unidade de controle preciso da fonte de gás reagente pode introduzir gases diferentes com uma proporção definida no tubo do forno para a reação química, a deposição de vapor químico será formada no forno CVD.
O que é um forno de pirólise?
Que tipos de materiais podem ser processados num forno rotativo?
Qual é o processo de um forno de vácuo?
Qual é o objetivo de um forno de prensagem a quente por vácuo?
Como é que um forno tubular funciona?
Os elementos de aquecimento do forno tubular são colocados em torno da cavidade cilíndrica, o forno só pode aquecer as amostras na cavidade cilíndrica através de radiação térmica indireta, uma vez que o tubo do forno pode impedir que o material da amostra entre em contato com os elementos de aquecimento do forno e os materiais de isolamento, de modo que o forno tubular cria uma câmara de calor isolada e limpa e reduz os riscos de contaminação do material da amostra pelo forno.
O que é um forno tubular rotativo?
Quais são os tipos de forno de mufla?
Quais são os diferentes tipos de fornos para medicina dentária?
O que é o forno rotativo elétrico?
Qual é o princípio de funcionamento de uma máquina de granulação de plástico com extrusora de parafuso duplo?
Quais são os diferentes tipos de fornos de grafitização?
Que gás é utilizado no processo CVD?
Existem tremendas fontes de gás que podem ser usadas no processo CVD, as reações químicas comuns do CVD incluem pirólise, fotólise, redução, oxidação, redox, de modo que os gases envolvidos nessas reações químicas podem ser usados no processo CVD.
Tomamos o crescimento de grafeno CVD como exemplo, os gases usados no processo CVD serão CH4, H2, O2 e N2.
Como é que um forno de pirólise funciona?
Quais são os tipos de fornos rotativos?
Que gás é utilizado num forno de vácuo?
Quais são as vantagens de um forno de prensagem a quente a vácuo?
Qual é a aplicação do forno tubular?
O forno tubular é usado principalmente em metalurgia, vidro, tratamento térmico, ânodo de lítio e materiais catódicos, novas energias, abrasivos e outras indústrias, e é um equipamento profissional para medir materiais sob certas condições de temperatura.
O forno tubular apresenta estrutura simples, operação fácil, controle fácil e produção contínua.
O forno tubular também é amplamente aplicado nos sistemas CVD (deposição de vapor químico) e CVD aprimorado por plasma.
Como funciona um forno tubular rotativo?
O que é a mufla em química?
Qual é a temperatura de um forno dentário?
Como funciona um forno rotativo elétrico?
Qual é o objetivo de uma prensa de vulcanização de placas no processamento de borracha?
Porquê a pirólise da biomassa?
Como é que um forno de grafitização funciona?
Qual é a vantagem do sistema CVD?
- Pode ser produzida uma vasta gama de películas, películas metálicas, películas não metálicas e películas de ligas multicomponentes, conforme necessário. Ao mesmo tempo, pode preparar cristais de alta qualidade que são difíceis de obter por outros métodos, como GaN, BP, etc.
- A velocidade de formação da película é rápida, geralmente vários microns por minuto ou mesmo centenas de microns por minuto. É possível depositar simultaneamente grandes quantidades de revestimentos com composição uniforme, o que é incomparável com outros métodos de preparação de filmes, como epitaxia de fase líquida (LPE) e epitaxia de feixe molecular (MBE).
- As condições de trabalho são realizadas sob pressão normal ou condições de baixo vácuo, de modo que o revestimento tem boa difração, e as peças de trabalho com formas complexas podem ser uniformemente revestidas, o que é muito superior ao PVD.
- Devido à difusão mútua do gás de reação, do produto da reação e do substrato, pode obter-se um revestimento com boa força de adesão, o que é crucial para a preparação de películas reforçadas à superfície, tais como películas resistentes ao desgaste e anti-corrosão.
- Algumas películas crescem a uma temperatura muito inferior ao ponto de fusão do material da película. Sob a condição de crescimento a baixa temperatura, o gás de reação e a parede do reator e as impurezas contidas neles quase não reagem, de modo que um filme com alta pureza e boa cristalinidade pode ser obtido.
- A deposição química de vapor pode obter uma superfície de deposição lisa. Isso ocorre porque, em comparação com o LPE, a deposição de vapor químico (CVD) é realizada sob alta saturação, com alta taxa de nucleação, alta densidade de nucleação e distribuição uniforme em todo o plano, resultando em uma superfície lisa macroscópica. Ao mesmo tempo, na deposição de vapor químico, o caminho livre médio das moléculas (átomos) é muito maior do que o LPE, de modo que a distribuição espacial das moléculas é mais uniforme, o que favorece a formação de uma superfície de deposição lisa.
- Baixos danos por radiação, que é uma condição necessária para a fabricação de semicondutores de óxido metálico (MOS) e outros dispositivos
Quais são as aplicações dos fornos de pirólise?
Quais são as vantagens do forno de rotor?
Qual é o elemento de aquecimento utilizado num forno de vácuo?
Como é que um forno de prensagem a quente a vácuo funciona?
Quantos tipos diferentes de fornos tubulares?
O forno tubular pode trabalhar com diferentes funções mecânicas sem problemas, por isso existem muitos tipos diferentes de variações de forno tubular para diferentes fins experimentais, os fornos típicos são os seguintes:
- Forno de tubo horizontal
- Forno de tubo vertical
- Forno de tubo dividido
- Forno de tubo rotativo
- Forno de tubo basculante
- Forno de tubo deslizante
- Forno de tubo de aquecimento e resfriamento rápido
- Forno de tubo de alimentação e descarga contínua
Quais são as vantagens de um forno tubular rotativo?
Qual é a função do forno tubular rotativo?
Qual é a utilização da mufla para cinzas?
Qual é a utilização do forno de porcelana?
Quais são as vantagens do forno rotativo elétrico?
Como funciona um moinho de mistura aberto para borracha?
Quais são as vantagens da pirólise da biomassa?
Quais são as vantagens de utilizar um forno de grafitização?
O que significa PECVD?
O PECVD é uma tecnologia que utiliza o plasma para ativar o gás de reação, promover a reação química na superfície do substrato ou no espaço próximo da superfície e gerar uma película sólida. O princípio básico da tecnologia de deposição de vapor químico de plasma é que, sob a ação do campo elétrico de RF ou DC, o gás de origem é ionizado para formar um plasma, o plasma de baixa temperatura é usado como fonte de energia, uma quantidade apropriada de gás de reação é introduzida e a descarga de plasma é usada para ativar o gás de reação e realizar a deposição de vapor químico.
De acordo com o método de geração de plasma, ele pode ser dividido em plasma de RF, plasma de DC e plasma de micro-ondas CVD, etc ...
Quais são as vantagens da utilização de fornos de pirólise?
Qual é a eficiência de um forno rotativo?
Quais são as aplicações comuns dos fornos de prensagem a quente a vácuo?
Quais são as vantagens de utilizar um forno tubular?
Quais são as vantagens do forno tubular rotativo?
Qual é a temperatura do forno de mufla?
para que pode ser utilizado o forno rotativo elétrico?
Quais são as vantagens de utilizar um misturador interno de borracha para laboratório?
Quais são as etapas da pirólise da biomassa?
Qual é a diferença entre CVD e PECVD?
A diferença entre o PECVD e a tecnologia CVD tradicional é que o plasma contém um grande número de electrões de alta energia, que podem fornecer a energia de ativação necessária no processo de deposição de vapor químico, alterando assim o modo de fornecimento de energia do sistema de reação. Uma vez que a temperatura dos electrões no plasma é tão elevada como 10000K, a colisão entre os electrões e as moléculas de gás pode promover a quebra de ligações químicas e a recombinação das moléculas de gás de reação para gerar grupos químicos mais activos, enquanto todo o sistema de reação mantém uma temperatura mais baixa.
Assim, em comparação com o processo CVD, o PECVD pode realizar o mesmo processo de deposição química de vapor com uma temperatura mais baixa.
Que factores devem ser considerados na seleção de um forno de pirólise?
Pode um forno rotativo ser utilizado para produção contínua?
Que factores devem ser considerados na seleção de um forno de prensagem a quente por vácuo?
Que precauções de segurança devem ser tomadas quando se utiliza um forno tubular?
Que aplicações tem uma pequena calandra de borracha de laboratório?
Que biomassa é adequada para a pirólise?
Que precauções de segurança devem ser seguidas quando se utiliza um forno de pirólise?
Como pode ser optimizado o desempenho de um forno rotativo?
Como funciona uma máquina automática de prensagem a quente a alta temperatura?
O que torna útil uma máquina de extrusão de película soprada de laboratório?
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PDF - Forno vertical de grafitização a alta temperatura
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