Forno de vácuo
Forno de brasagem por vácuo
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Um forno de brasagem a vácuo é um tipo de forno industrial utilizado para brasagem, um processo de trabalho em metal que une duas peças de metal utilizando um metal de adição que funde a uma temperatura inferior à dos metais de base. Os fornos de brasagem a vácuo são normalmente utilizados para aplicações de alta qualidade em que é necessária uma junta forte e limpa.
Os fornos de brasagem por vácuo funcionam através da criação de vácuo no interior da câmara do forno, o que remove o oxigénio e outros gases que podem interferir com o processo de brasagem. Isto cria um ambiente limpo que promove juntas fortes e fiáveis. Os fornos de brasagem por vácuo também são capazes de atingir temperaturas muito elevadas, o que permite a brasagem de uma grande variedade de metais, incluindo aço inoxidável, titânio e alumínio.
Detalhes e peças
Aplicações
Os fornos de brasagem a vácuo são amplamente utilizados em várias indústrias e aplicações devido à sua capacidade de criar juntas fortes e à prova de fugas. Algumas das principais áreas de aplicação incluem:
- Conjuntos de aquecimento e arrefecimento
- Permutadores de calor de microcanais
- Componentes de aeronaves
- Sensores
- Dispositivos médicos
- Componentes estruturais
- Outros produtos térmicos
Características
O forno de brasagem a vácuo oferece inúmeras vantagens que aumentam a sua funcionalidade e valor para os clientes:
- Uniformidade de temperatura excecional: O design do forno garante um aquecimento uniforme em toda a câmara, resultando em resultados de brasagem consistentes e precisos.
- Sistema de aquecimento eficiente: O forno utiliza um sistema de aquecimento de alto desempenho que atinge e mantém rapidamente a temperatura desejada, reduzindo os tempos de ciclo e aumentando a produtividade.
- Sistema de vácuo avançado: O forno está equipado com um sofisticado sistema de vácuo que remove eficazmente o oxigénio e outros contaminantes da câmara, assegurando um ambiente de brasagem limpo e controlado.
- Interface de fácil utilização: O forno possui uma interface intuitiva e fácil de utilizar que simplifica a operação e a monitorização, minimizando a necessidade de formação extensiva.
- Construção robusta: O forno é construído com materiais e componentes duráveis, garantindo longevidade e fiabilidade em ambientes laboratoriais exigentes.
Princípio de funcionamento
O forno de brasagem a vácuo é um corpo de forno horizontal, composto por um invólucro do forno, revestimento do forno, elemento de aquecimento, tanque do forno, tabuleiro de material, sistema de vácuo e sistema de controlo eletrónico. O invólucro do forno é soldado com chapas de aço-carbono e aço de secção. É revestido com tijolos de isolamento de alta qualidade e tijolos refractários e é construído em três zonas. Os elementos de aquecimento são feitos de fio de ferro-crómio-alumínio e estão dispostos em forma de espiral nos tijolos de arame em ambos os lados e no fundo do forno. O sistema de vácuo utiliza uma bomba de vácuo de três fases, que é composta por uma unidade de vácuo, uma bomba de difusão de óleo, uma bomba Roots, uma bomba mecânica, uma válvula deflectora pneumática e uma válvula de borboleta manual.
Vantagens
- Juntas de alta qualidade com o mínimo de vazios e excelentes propriedades mecânicas
- Sem necessidade de fluxo, o que elimina a potencial contaminação e a limpeza pós-brasagem
- Redução da oxidação e da incrustação, resultando em juntas mais limpas
- Controlo preciso da temperatura, que permite a união de materiais com diferentes pontos de fusão
- Adequado para unir componentes e conjuntos complexos
- Processo amigo do ambiente com produção mínima de resíduos
Especificações técnicas
| Potência nominal | 100 Kw |
| Temperatura nominal | 700 ℃ |
| Alimentação eléctrica | 380 V, 50 Hz |
| Tamanho da área de trabalho | Φ820×1700㎜ |
| Vácuo final a frio | 6,67×10-3Pa |
| Taxa de aumento de pressão | 2pa/h |
| Precisão do controlo de temperatura | ±1℃ |
FAQ
Para que é utilizado um forno de vácuo?
O que é o forno CVD?
A deposição química de vapor (CVD) é uma tecnologia que utiliza várias fontes de energia, como aquecimento, excitação de plasma ou radiação de luz para reagir quimicamente substâncias químicas gasosas ou de vapor na fase gasosa ou na interface gás-sólido para formar depósitos sólidos no reator por meio de reação química. simplificando, duas ou mais matérias-primas gasosas são introduzidas em uma câmara de reação e, em seguida, reagem entre si para formar um novo material e depositá-lo na superfície do substrato.
O forno CVD é um sistema de forno combinado com unidade de forno tubular de alta temperatura, unidade de controle de gases e unidade de vácuo, é amplamente utilizado para experimentos e produção de preparação de material composto, processo microeletrônico, optoeletrônico semicondutor, utilização de energia solar, comunicação de fibra ótica, tecnologia de supercondutor, campo de revestimento protetor.
O que são os fornos dentários?
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Quais são as vantagens da brasagem por vácuo?
Que materiais podem ser soldados a vácuo?
Qual é a diferença entre um forno de vácuo de parede fria e um forno de vácuo de parede quente?
Qual é o processo de um forno de vácuo?
Qual é o objetivo de um forno de prensagem a quente por vácuo?
O que é o processo de fusão por arco a vácuo?
Como funciona um forno de fusão por indução no vácuo?
Como é que o forno CVD funciona?
O sistema de forno CVD consiste em uma unidade de forno de tubo de alta temperatura, unidade de controle preciso da fonte de gás reagente, estação de bomba de vácuo e peças de montagem correspondentes.
A bomba de vácuo é para remover o ar do tubo de reação e garantir que não haja gases indesejados dentro do tubo de reação, depois que o forno de tubo aquecerá o tubo de reação a uma temperatura alvo, então a unidade de controle preciso da fonte de gás reagente pode introduzir gases diferentes com uma proporção definida no tubo do forno para a reação química, a deposição de vapor químico será formada no forno CVD.
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Que gás é utilizado no processo CVD?
Existem tremendas fontes de gás que podem ser usadas no processo CVD, as reações químicas comuns do CVD incluem pirólise, fotólise, redução, oxidação, redox, de modo que os gases envolvidos nessas reações químicas podem ser usados no processo CVD.
Tomamos o crescimento de grafeno CVD como exemplo, os gases usados no processo CVD serão CH4, H2, O2 e N2.
Qual é a temperatura de um forno dentário?
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Qual é o elemento de aquecimento utilizado num forno de vácuo?
Como é que um forno de prensagem a quente a vácuo funciona?
Como é que o forno de fusão por arco de vácuo funciona?
Como é que o vácuo ajuda no forno de fusão por indução?
Qual é a vantagem do sistema CVD?
- Pode ser produzida uma vasta gama de películas, películas metálicas, películas não metálicas e películas de ligas multicomponentes, conforme necessário. Ao mesmo tempo, pode preparar cristais de alta qualidade que são difíceis de obter por outros métodos, como GaN, BP, etc.
- A velocidade de formação da película é rápida, geralmente vários microns por minuto ou mesmo centenas de microns por minuto. É possível depositar simultaneamente grandes quantidades de revestimentos com composição uniforme, o que é incomparável com outros métodos de preparação de filmes, como epitaxia de fase líquida (LPE) e epitaxia de feixe molecular (MBE).
- As condições de trabalho são realizadas sob pressão normal ou condições de baixo vácuo, de modo que o revestimento tem boa difração, e as peças de trabalho com formas complexas podem ser uniformemente revestidas, o que é muito superior ao PVD.
- Devido à difusão mútua do gás de reação, do produto da reação e do substrato, pode obter-se um revestimento com boa força de adesão, o que é crucial para a preparação de películas reforçadas à superfície, tais como películas resistentes ao desgaste e anti-corrosão.
- Algumas películas crescem a uma temperatura muito inferior ao ponto de fusão do material da película. Sob a condição de crescimento a baixa temperatura, o gás de reação e a parede do reator e as impurezas contidas neles quase não reagem, de modo que um filme com alta pureza e boa cristalinidade pode ser obtido.
- A deposição química de vapor pode obter uma superfície de deposição lisa. Isso ocorre porque, em comparação com o LPE, a deposição de vapor químico (CVD) é realizada sob alta saturação, com alta taxa de nucleação, alta densidade de nucleação e distribuição uniforme em todo o plano, resultando em uma superfície lisa macroscópica. Ao mesmo tempo, na deposição de vapor químico, o caminho livre médio das moléculas (átomos) é muito maior do que o LPE, de modo que a distribuição espacial das moléculas é mais uniforme, o que favorece a formação de uma superfície de deposição lisa.
- Baixos danos por radiação, que é uma condição necessária para a fabricação de semicondutores de óxido metálico (MOS) e outros dispositivos
Qual é a utilização do forno de porcelana?
Quais são as aplicações comuns dos fornos de prensagem a quente a vácuo?
Quais são as aplicações dos fornos de fusão por arco em vácuo?
O que é o forno de fusão por indução a vácuo?
O que significa PECVD?
O PECVD é uma tecnologia que utiliza o plasma para ativar o gás de reação, promover a reação química na superfície do substrato ou no espaço próximo da superfície e gerar uma película sólida. O princípio básico da tecnologia de deposição de vapor químico de plasma é que, sob a ação do campo elétrico de RF ou DC, o gás de origem é ionizado para formar um plasma, o plasma de baixa temperatura é usado como fonte de energia, uma quantidade apropriada de gás de reação é introduzida e a descarga de plasma é usada para ativar o gás de reação e realizar a deposição de vapor químico.
De acordo com o método de geração de plasma, ele pode ser dividido em plasma de RF, plasma de DC e plasma de micro-ondas CVD, etc ...
Que factores devem ser considerados na seleção de um forno de prensagem a quente por vácuo?
Quais são as vantagens da utilização de fornos de fusão por arco a vácuo?
Qual é a diferença entre CVD e PECVD?
A diferença entre o PECVD e a tecnologia CVD tradicional é que o plasma contém um grande número de electrões de alta energia, que podem fornecer a energia de ativação necessária no processo de deposição de vapor químico, alterando assim o modo de fornecimento de energia do sistema de reação. Uma vez que a temperatura dos electrões no plasma é tão elevada como 10000K, a colisão entre os electrões e as moléculas de gás pode promover a quebra de ligações químicas e a recombinação das moléculas de gás de reação para gerar grupos químicos mais activos, enquanto todo o sistema de reação mantém uma temperatura mais baixa.
Assim, em comparação com o processo CVD, o PECVD pode realizar o mesmo processo de deposição química de vapor com uma temperatura mais baixa.
Que precauções de segurança devem ser seguidas quando se utiliza um forno de fusão por arco sob vácuo?
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