A deposição de vapor é um método utilizado para criar revestimentos de película fina em vários substratos, normalmente num ambiente de vácuo parcial.
Esta técnica envolve a deposição de material a partir de uma fonte vaporizada numa superfície alvo, resultando num revestimento consistente e de elevada pureza.
Existem diferentes tipos de deposição de vapor, incluindo a deposição física de vapor (PVD), a deposição química de vapor (CVD) e a deposição de plasma.
5 métodos principais explicados
1. Deposição de vapor físico (PVD)
A deposição de vapor físico (PVD) engloba várias tecnologias de deposição em que o material é libertado de uma fonte e transferido para um substrato.
Um método comum de PVD é a evaporação térmica, que envolve o aquecimento de um material sólido no interior de uma câmara de alto vácuo, provocando a sua vaporização e a formação de uma nuvem de vapor.
O fluxo de vapor atravessa então a câmara e deposita-se no substrato sob a forma de um revestimento de película fina.
Os processos de PVD, como a evaporação resistiva, fornecem ferramentas económicas para a criação de películas finas de metais e não metais, com taxas de deposição mais elevadas e revestimentos mais espessos em comparação com os processos de pulverização catódica.
2. Deposição em fase vapor por processo químico (CVD)
A deposição em fase vapor por processo químico (CVD) consiste em colocar o substrato numa câmara de reação cheia de um material de revestimento gasoso.
O gás reage com o material alvo para criar a espessura de revestimento desejada.
Este método é diferente da deposição em fase vapor por processo químico, uma vez que se baseia em reacções químicas para formar o revestimento.
3. Deposição por plasma
A deposição de plasma envolve o sobreaquecimento do gás de revestimento numa forma iónica que reage com a superfície atómica da peça, normalmente a pressões elevadas.
Este processo resulta na formação de um revestimento com propriedades únicas.
4. Deposição de vapor por arco elétrico
A deposição de vapor por arco é um processo de deposição específico que utiliza um arco elétrico a alta corrente e baixa tensão para vaporizar um elétrodo catódico ou anódico.
O material vaporizado é então depositado num substrato, com uma proporção substancial dos átomos de metal a ficarem ionizados.
Este método é particularmente útil para formar revestimentos espessos e pode ser utilizado em operações de revestimento de superfícies decorativas duras.
5. Resumo da deposição em fase vapor
Em resumo, a deposição em fase vapor é uma técnica versátil para criar revestimentos de película fina em vários substratos, com diferentes métodos adaptados a aplicações específicas e às propriedades de revestimento pretendidas.
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