Peças para deposição de película fina
Crisol e Barco de Evaporação de Cobre Livre de Oxigênio para Revestimento por Evaporação de Feixe de Elétrons
Número do item : KMS06
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Material
- Cobre livre de oxigênio
- Specification
- 35-50*17-25mm
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Introdução
O Crisol de Cobre Livre de Oxigênio para Revestimento por Evaporação de Feixe de Elétrons é um tipo de equipamento de laboratório usado para a deposição de filmes finos. Ele usa um feixe de elétrons para vaporizar um material, que é então depositado em um substrato. Este processo é usado para criar filmes finos de metais, dielétricos e outros materiais.
O Crisol de Cobre Livre de Oxigênio para Revestimento por Evaporação de Feixe de Elétrons é feito de cobre livre de oxigênio, que possui alta condutividade térmica e é resistente à oxidação. Isso o torna ideal para uso em aplicações de alta temperatura. O crisol também é resfriado a água para evitar o superaquecimento.
O Crisol de Cobre Livre de Oxigênio para Revestimento por Evaporação de Feixe de Elétrons é um equipamento versátil que pode ser usado para uma variedade de aplicações. É comumente usado na indústria de semicondutores, mas também pode ser usado em outras indústrias, como as indústrias óptica e médica.
Aplicação
O revestimento por evaporação por feixe de elétrons refere-se ao processo de uso de feixes de elétrons para evaporar materiais no processo de deposição de filmes finos, e então condensá-los no substrato para formar um filme fino. Ao usar técnicas de evaporação por feixe de elétrons, use crisóis de cobre livre de oxigênio para manter um ambiente livre de oxigênio ou com baixo teor de oxigênio para minimizar o risco de contaminação por oxigênio durante a evaporação. Isso ajuda a garantir que filmes de alta qualidade sejam depositados sem reações químicas indesejadas ou oxidação. Crisóis de cobre livre de oxigênio são frequentemente preferidos ao manusear materiais sensíveis ou depositar filmes finos onde alta pureza é necessária.
- Indústria de Semicondutores: Fabricação de circuitos integrados, dispositivos semicondutores e microeletrônica.
- Óptica e Fotônica: Revestimentos e filmes ópticos para lentes, espelhos, filtros, guias de onda e outros componentes ópticos.
- Energia Solar: A evaporação por feixe de elétrons é usada para fabricar células solares de filme fino, como células solares CIGS (cobre índio gálio selênio) e CdTe (cádmio telureto).
- Tecnologia de Displays: A evaporação por feixe de elétrons é usada para produzir filmes finos para vários tipos de displays, incluindo LCD (Liquid Crystal Display), OLED (Organic Light Emitting Diode) e tecnologias de microdisplay.
- Fabricação de Sensores e Eletrônicos: A evaporação por feixe de elétrons é usada para produzir filmes finos para sensores, eletrônicos e circuitos integrados.
Especificações Técnicas
| Diâmetro externo e Altura | 35*17mm | 40*17mm | 45*22mm | 50*25mm |
Os crisóis que exibimos estão disponíveis em diferentes tamanhos e tamanhos personalizados estão disponíveis mediante solicitação.
Características
O Crisol de Cobre Livre de Oxigênio para Revestimento por Evaporação de Feixe de Elétrons possui um forno de quatro cavidades que pode conter até quatro materiais de origem, permitindo a deposição sequencial de quatro camadas de material sem quebrar o vácuo. Isso facilita a aplicação de várias camadas de revestimento diferentes de diferentes materiais alvo, adaptando-se facilmente a uma variedade de técnicas de mascaramento de levantamento.
O crisol é resfriado a água para evitar que ele aqueça por energia térmica, e o aquecimento direto dos materiais de origem elimina o risco de danos por calor ao substrato. Isso torna a Evaporação por Feixe de Elétrons ideal para aplicações onde altas temperaturas e resistência ao desgaste são essenciais, como nas indústrias aeroespacial, automotiva e de ferramentas de corte.
A Evaporação por Feixe de Elétrons também é usada para filmes finos ópticos, desde óticas a laser, painéis solares, óculos e vidros arquitetônicos para lhes dar as qualidades condutivas, refletivas e transmissivas desejadas.
FAQ
O Que é A Deposição Física De Vapor (PVD)?
O Que é A Pulverização Catódica Por Magnetrão?
Quais São Os Métodos Utilizados Para Depositar Películas Finas?
Porquê A Pulverização Catódica Por Magnetrões?
O Que é O Equipamento De Deposição De Película Fina?
Quais São As Vantagens Da Utilização De Barcos De Evaporação?
Quais São Os Materiais Comuns Utilizados Para Cadinhos De Evaporação?
Quais São Os Materiais Utilizados Na Deposição De Película Fina?
A deposição de película fina utiliza normalmente metais, óxidos e compostos como materiais, cada um com as suas vantagens e desvantagens únicas. Os metais são preferidos pela sua durabilidade e facilidade de deposição, mas são relativamente caros. Os óxidos são altamente duráveis, suportam temperaturas elevadas e podem ser depositados a baixas temperaturas, mas podem ser frágeis e difíceis de trabalhar. Os compostos oferecem resistência e durabilidade, podem ser depositados a baixas temperaturas e adaptados para apresentarem propriedades específicas.
A seleção do material para um revestimento de película fina depende dos requisitos da aplicação. Os metais são ideais para a condução térmica e eléctrica, enquanto os óxidos são eficazes na proteção. Os compostos podem ser adaptados para satisfazer necessidades específicas. Em última análise, o melhor material para um determinado projeto dependerá das necessidades específicas da aplicação.
O Que é A Tecnologia De Deposição De Película Fina?
Qual é O Tempo De Vida Típico De Um Barco De Evaporação?
Quais São As Vantagens De Utilizar Cadinhos De Evaporação?
Quais São Os Métodos Para Obter Uma Deposição óptima De Película Fina?
Para obter películas finas com propriedades desejáveis, são essenciais alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação de alta qualidade. A qualidade destes materiais pode ser influenciada por vários factores, tais como a pureza, o tamanho do grão e o estado da superfície.
A pureza dos alvos de pulverização catódica ou dos materiais de evaporação desempenha um papel crucial, uma vez que as impurezas podem causar defeitos na película fina resultante. O tamanho do grão também afecta a qualidade da película fina, sendo que os grãos maiores conduzem a propriedades de película pobres. Além disso, a condição da superfície é crucial, uma vez que as superfícies ásperas podem resultar em defeitos na película.
Para obter alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação da mais alta qualidade, é crucial selecionar materiais que possuam alta pureza, tamanho de grão pequeno e superfícies lisas.
Utilizações Da Deposição De Película Fina
Películas finas à base de óxido de zinco
As películas finas de ZnO encontram aplicações em várias indústrias, tais como térmica, ótica, magnética e eléctrica, mas a sua principal utilização é em revestimentos e dispositivos semicondutores.
Resistências de película fina
As resistências de película fina são cruciais para a tecnologia moderna e são utilizadas em receptores de rádio, placas de circuito, computadores, dispositivos de radiofrequência, monitores, routers sem fios, módulos Bluetooth e receptores de telemóveis.
Filmes finos magnéticos
Os filmes finos magnéticos são utilizados em eletrónica, armazenamento de dados, identificação por radiofrequência, dispositivos de micro-ondas, ecrãs, placas de circuitos e optoelectrónica como componentes-chave.
Filmes finos ópticos
Os revestimentos ópticos e a optoelectrónica são aplicações padrão dos filmes finos ópticos. A epitaxia por feixe molecular pode produzir dispositivos optoelectrónicos de película fina (semicondutores), em que as películas epitaxiais são depositadas um átomo de cada vez no substrato.
Filmes finos de polímeros
Os filmes finos de polímeros são utilizados em chips de memória, células solares e dispositivos electrónicos. As técnicas de deposição química (CVD) oferecem um controlo preciso dos revestimentos de películas de polímeros, incluindo a conformidade e a espessura do revestimento.
Baterias de película fina
As baterias de película fina alimentam dispositivos electrónicos, tais como dispositivos médicos implantáveis, e a bateria de iões de lítio avançou significativamente graças à utilização de películas finas.
Revestimentos de película fina
Os revestimentos de película fina melhoram as características químicas e mecânicas dos materiais alvo em várias indústrias e campos tecnológicos. Revestimentos antirreflexo, revestimentos anti-ultravioleta ou anti-infravermelhos, revestimentos anti-riscos e polarização de lentes são alguns exemplos comuns.
Células solares de película fina
As células solares de película fina são essenciais para a indústria da energia solar, permitindo a produção de eletricidade relativamente barata e limpa. Os sistemas fotovoltaicos e a energia térmica são as duas principais tecnologias aplicáveis.
Quais São As Vantagens Da Utilização De Equipamento De Deposição De Películas Finas?
Os Barcos De Evaporação Podem Ser Reutilizados?
Como é Que Os Cadinhos De Evaporação Devem Ser Manuseados E Mantidos?
Factores E Parâmetros Que Influenciam A Deposição De Películas Finas
Taxa de deposição:
A taxa a que a película é produzida, tipicamente medida em espessura dividida pelo tempo, é crucial para selecionar uma tecnologia adequada à aplicação. As taxas de deposição moderadas são suficientes para películas finas, enquanto as taxas de deposição rápidas são necessárias para películas espessas. É importante encontrar um equilíbrio entre a velocidade e o controlo preciso da espessura da película.
Uniformidade:
A consistência da película ao longo do substrato é conhecida como uniformidade, que normalmente se refere à espessura da película, mas também pode estar relacionada com outras propriedades, como o índice de refração. É importante ter um bom entendimento da aplicação para evitar sub ou superespecificar a uniformidade.
Capacidade de preenchimento:
A capacidade de preenchimento ou cobertura de etapas refere-se a quão bem o processo de deposição cobre a topografia do substrato. O método de deposição utilizado (por exemplo, CVD, PVD, IBD ou ALD) tem um impacto significativo na cobertura e no preenchimento dos degraus.
Características da película:
As características da película dependem dos requisitos da aplicação, que podem ser classificados como fotónicos, ópticos, electrónicos, mecânicos ou químicos. A maioria das películas tem de cumprir requisitos em mais do que uma categoria.
Temperatura do processo:
As características da película são significativamente afectadas pela temperatura do processo, que pode ser limitada pela aplicação.
Danos:
Cada tecnologia de deposição tem o potencial de danificar o material depositado, sendo as características mais pequenas mais susceptíveis a danos no processo. A poluição, a radiação UV e o bombardeamento de iões estão entre as potenciais fontes de danos. É crucial compreender as limitações dos materiais e ferramentas.
Que Factores Devem Ser Considerados Na Seleção Do Equipamento De Deposição De Película Fina?
Como Selecionar O Material Adequado Para A Embarcação De Evaporação?
Que Considerações De Segurança Estão Associadas à Operação De Equipamentos De Deposição De Película Fina?
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Esses cadinhos atuam como recipientes para o material de ouro evaporado pelo feixe de evaporação de elétrons, direcionando precisamente o feixe de elétrons para uma deposição precisa.
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