A máquina PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) é uma ferramenta utilizada na indústria de semicondutores para depositar películas finas num substrato. A máquina utiliza plasma a baixa temperatura para gerar uma descarga incandescente que aquece a amostra e introduz uma quantidade adequada de gás de processo. O processo envolve reacções químicas e de plasma para formar uma película sólida na superfície da amostra. O equipamento PECVD é composto principalmente por sistemas de controlo do vácuo e da pressão, sistemas de precipitação, controlo do gás e do fluxo, controlo informático e sistemas de proteção de segurança. A máquina é utilizada para o revestimento contínuo e a modificação de materiais em pó pelo método CVD num ambiente protegido por atmosfera.
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máquina pecvd
Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecido com plasma e radiofrequência
Número do item : KT-RFPE
Forno tubular Slide PECVD com gasificador líquido Máquina PECVD
Número do item : KT-PE12
Máquina de forno tubular rotativo inclinado para deposição química melhorada por plasma (PECVD)
Número do item : KT-PE16
Máquina de revestimento PECVD de deposição por evaporação reforçada por plasma
Número do item : KT-PED
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Obtenha sua cotação agora! Deixe um recado Obtenha um orçamento rápido Via WhatsappO nosso vasto portefólio garante que temos uma solução padrão adequada que irá satisfazer as suas necessidades. Também oferecemos serviços de design à medida para satisfazer os requisitos exclusivos dos clientes. As nossas máquinas PECVD são ferramentas essenciais no fabrico moderno de semicondutores, oferecendo uma excelente uniformidade de película, processamento a baixa temperatura e elevado rendimento. As nossas máquinas são utilizadas numa vasta gama de aplicações, incluindo a deposição de películas finas para dispositivos microelectrónicos, células fotovoltaicas e painéis de visualização.
Aplicações da máquina PECVD
- Deposição de películas finas para dispositivos microelectrónicos
- Produção de células fotovoltaicas
- Fabrico de painéis de visualização
- Deposição de películas de dióxido de silício
- Deposição de película de nitreto de silício
- Deposição de películas de silício amorfo
- Deposição de películas em substratos com baixo orçamento térmico
- Produção de dispositivos semicondutores de potência
- Produção de optoelectrónica
- Utilização em centros de dados
- Produção de equipamento para redes 5G
- Fabrico de equipamento para veículos autónomos
- Produção de dispositivos para energias renováveis
- Produção de equipamento de guerra eletrónica
- Fabrico de iluminação inteligente
Vantagens da máquina PECVD
- Baixas temperaturas de deposição
- Boa conformidade e cobertura de degraus em superfícies irregulares
- Maior controlo do processo de película fina
- Elevadas taxas de deposição
- Adequado para o fabrico de películas com diferentes composições e microestruturas, permitindo variar continuamente as características da película em função da profundidade
- Proporciona elevadas taxas de deposição, substancialmente superiores às de outras técnicas mais tradicionais baseadas no vácuo
- Diferentes formas de substrato (incluindo 3D) podem ser uniformemente revestidas
- As películas que estão a ser depositadas têm baixa tensão mecânica
- Boa cobertura conformacional do degrau e excelente uniformidade da espessura das películas sobre a borda do degrau e a superfície plana
- Deposita películas finas com boas propriedades dieléctricas
- Desempenho elétrico de alta eficiência e ligação de acordo com padrões muito elevados
A nossa máquina PECVD é uma solução económica para todas as suas necessidades de deposição de películas finas. Com a nossa extensa linha de produtos, fornecemos-lhe uma solução padrão que se adapta às suas necessidades e, para aplicações mais exclusivas, o nosso serviço de design personalizado ajudar-nos-á a satisfazer os seus requisitos específicos.
FAQ
O Que é O Método PECVD?
Para Que é Utilizado O PECVD?
Quais São As Vantagens Do PECVD?
Qual é A Diferença Entre ALD E PECVD?
Qual é A Diferença Entre PECVD E Pulverização Catódica?
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