O método de Deposição Química em Vapor (CVD) é um processo sofisticado utilizado para criar películas finas e revestimentos em vários substratos.
Este método envolve várias etapas críticas que garantem a formação de um depósito sólido estável.
Quais são os 5 passos principais do método CVD?
1. Ativação de reagentes gasosos
No processo CVD, os reagentes gasosos são activados.
Esta ativação é normalmente conseguida através do aquecimento, da exposição à luz ou de uma descarga eléctrica, dependendo do tipo de CVD utilizado.
Esta etapa é crucial, uma vez que dá início às reacções químicas necessárias para a deposição.
2. Reação química
Os gases activados sofrem reacções químicas.
Estas reacções podem ser homogéneas, ocorrendo na fase gasosa, ou heterogéneas, ocorrendo na superfície aquecida do substrato ou perto dela.
Estas reacções conduzem à formação dos materiais sólidos desejados.
3. Formação de um depósito sólido estável
Após as reacções químicas, forma-se um depósito sólido estável no substrato.
Este depósito pode ser uma película, um pó ou uma camada de material, dependendo da aplicação específica e das condições do processo CVD.
4. Pormenores do processo de deposição
O processo de CVD é descrito em pormenor em três fases:
- Difusão do gás de reação na superfície do substrato: Os gases reagentes difundem-se na superfície do substrato.
- Adsorção do gás de reação na superfície do substrato: Os gases são adsorvidos na superfície do substrato, onde estão prontos para sofrer reacções químicas.
- Reação química na superfície do substrato para formar um depósito sólido: Os gases adsorvidos reagem quimicamente na superfície do substrato, formando um depósito sólido. Os subprodutos destas reacções são libertados de volta para a fase gasosa e podem ser removidos do sistema.
5. Caraterísticas da CVD
A CVD oferece várias vantagens:
- A capacidade de depositar uma grande variedade de materiais (películas metálicas, películas não metálicas, ligas multicomponentes e camadas cerâmicas ou compostas).
- A capacidade de revestir uniformemente formas complexas.
- A produção de revestimentos de alta pureza, densos e de baixa tensão com boa cristalização.
Este método é versátil e pode ser adaptado a vários esquemas de reactores, incluindo reactores fechados e abertos, dependendo dos requisitos específicos do processo de deposição.
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