MPCVD
Máquina de diamante MPCVD com ressonador de jarro de sino para laboratório e crescimento de diamante
Número do item : KTMP315
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Potência de micro-ondas
- Frequência de micro-ondas 2450±15MHZ
- Potência de saída
- 1～10 KW continuamente ajustável
- Fuga de micro-ondas
- ≤2MW/cm2
- Interface de guia de ondas de saída
- WR340, 430 com flange padrão FD-340, 430
- Suporte de amostras
- Diâmetro da mesa de amostras≥70mm, área de utilização efectiva≥64 mm
Envio:
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Obtenha sua cotação agora! Deixe um recado Obtenha um orçamento rápido Via Chat OnlineMPCVD significa Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas. Produz películas de diamante de qualidade em laboratório, utilizando gás carbónico e plasma de micro-ondas.
Sistema MPCVD
O MPCVD é um sistema de deposição de películas finas num substrato que utiliza uma câmara de vácuo, um gerador de micro-ondas e um sistema de fornecimento de gás. O plasma é gerado no interior da câmara por um magnetrão ou klystron que gera micro-ondas a 2,45 GHz. O sistema de fornecimento de gás tem MFCs calibrados em sccm para controlar o fluxo de gás. A temperatura do substrato é controlada pelo plasma e medida por um termopar. O plasma aquece o substrato e a temperatura é monitorizada durante a deposição.
Aplicações
O MPCVD é promissor para a produção de diamantes grandes e de alta qualidade a um baixo custo.
As propriedades únicas do diamante, como a dureza, a rigidez, a elevada condutividade térmica, a baixa expansão térmica, a dureza à radiação e a inércia química, fazem dele um material valioso. No entanto, o custo elevado, o tamanho limitado e a dificuldade em controlar as impurezas dos diamantes naturais e sintéticos de alta pressão e alta temperatura têm limitado as suas aplicações.
O MPCVD é o principal equipamento para a produção de pedras preciosas e películas de diamante, que podem ser monocristalinas ou policristalinas. A indústria de semicondutores utiliza extensivamente o crescimento de películas de diamante para substratos de diamante de grandes dimensões, bem como a indústria de ferramentas de corte ou perfuração de diamante.
Em comparação com o método HPHT para diamantes cultivados em laboratório, o método CVD por micro-ondas é vantajoso para o crescimento de diamantes de grandes dimensões a um custo mais baixo, o que o torna uma solução ideal para diamantes semicondutores, crescimento de diamantes ópticos e para o mercado de diamantes de jóias de grandes dimensões.
Vantagens do MPCVD
O MPCVD é um método de síntese de diamantes com vantagens sobre o HFCVD e o DC-PJ CVD. Evita a contaminação e permite a utilização de vários gases. Oferece um ajuste suave da potência de micro-ondas e um controlo estável da temperatura, evitando a perda de cristais de sementes. O MPCVD é promissor para aplicações industriais devido a uma área de plasma grande e estável.
O MPCVD produz diamantes mais puros usando menos energia do que o HPHT. Ele também permite a produção de diamantes maiores.
Vantagens do nosso sistema MPCVD
Nós estamos profundamente envolvidos na indústria há muitos anos, e como resultado, temos uma vasta base de clientes que confiam e usam o nosso equipamento. O nosso equipamento MPCVD tem funcionado de forma estável por mais de 40.000 horas, demonstrando excecional estabilidade, confiabilidade, repetibilidade e custo-benefício. Outras vantagens do nosso sistema MPCVD incluem:
- Área de crescimento de substrato de 3 polegadas, carga máxima de lote de até 45 peças de diamante
- 1-10Kw potência de micro-ondas de saída ajustável para menor consumo de eletricidade
- Equipa de investigação experiente e rica com apoio de receitas de diamantes de fronteira
- Programa de suporte técnico exclusivo para a equipa de experiência de cultivo de diamantes Zero
Aproveitando a nossa tecnologia avançada acumulada, implementámos várias rondas de actualizações e melhorias no nosso sistema MPCVD, resultando numa eficiência significativamente melhorada e em custos de equipamento reduzidos. Como resultado, o nosso equipamento MPCVD está na vanguarda dos avanços tecnológicos e é oferecido a um preço competitivo. Bem-vindo a consultar-nos.
Processamento de trabalho
A máquina MPCVD controla o fluxo de cada caminho de gás e a pressão da cavidade enquanto introduz gases reagentes (como CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) na cavidade sob pressão específica. Depois de estabilizar o fluxo de ar, o gerador de micro-ondas de estado sólido de 6KW gera micro-ondas que são então introduzidas na cavidade através do guia de ondas.
O gás de reação transforma-se num estado de plasma sob o campo de micro-ondas, formando uma bola de plasma que paira sobre o substrato de diamante. A alta temperatura do plasma aquece o substrato até uma temperatura específica. O excesso de calor produzido na cavidade é dissipado pela unidade de arrefecimento a água.
Para garantir condições óptimas de crescimento durante o processo de crescimento de diamante monocristalino MPCVD, ajustamos factores como a potência, a composição da fonte de gás e a pressão da cavidade. Além disso, uma vez que a esfera de plasma não entra em contacto com a parede da cavidade, o processo de crescimento do diamante está isento de impurezas, melhorando assim a qualidade do diamante.
Detalhes e peças
Sistema de micro-ondas
Câmara de reação
Sistema de fluxo de gás
Sistema de vácuo e sensor
Especificações técnicas
| Sistema de micro-ondas |
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| Câmara de reação |
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| Suporte de amostras |
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| Sistema de fluxo de gás |
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| Sistema de arrefecimento |
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| Sensor de temperatura |
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| Sistema de controlo |
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| Função opcional |
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Avisos
A segurança do operador é a questão mais importante! Por favor, opere o equipamento com cautelas. Trabalhar com gases inflamáveis, explosivos ou tóxicos é muito perigoso, os operadores devem tomar todas as precauções necessárias antes de iniciar o equipamento. Trabalhar com pressão positiva dentro dos reactores ou câmaras é perigoso, o operador deve seguir rigorosamente os procedimentos de segurança. Extra também deve ser tido cuidado ao operar com materiais reativos ao ar, especialmente sob vácuo. Uma fuga pode aspirar ar para dentro do aparelho e provocar ocorrer uma reação violenta.
Desenhado para si
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FAQ
Que materiais podem ser cortados por uma máquina de corte de diamante?
O que é o forno CVD?
A deposição química de vapor (CVD) é uma tecnologia que utiliza várias fontes de energia, como aquecimento, excitação de plasma ou radiação de luz para reagir quimicamente substâncias químicas gasosas ou de vapor na fase gasosa ou na interface gás-sólido para formar depósitos sólidos no reator por meio de reação química. simplificando, duas ou mais matérias-primas gasosas são introduzidas em uma câmara de reação e, em seguida, reagem entre si para formar um novo material e depositá-lo na superfície do substrato.
O forno CVD é um sistema de forno combinado com unidade de forno tubular de alta temperatura, unidade de controle de gases e unidade de vácuo, é amplamente utilizado para experimentos e produção de preparação de material composto, processo microeletrônico, optoeletrônico semicondutor, utilização de energia solar, comunicação de fibra ótica, tecnologia de supercondutor, campo de revestimento protetor.
O que é CVD (Chemical Vapor Deposition) e quais são as suas principais vantagens?
O que é o método PECVD?
O que é a máquina de diamante CVD?
Que tipos de máquinas de crescimento de diamantes estão disponíveis?
O que é o Mpcvd?
Qual é o princípio básico da CVD?
O que é RF PECVD?
Como é que o PACVD funciona?
Qual é o princípio subjacente a uma máquina de corte diamantado?
Quais são os métodos utilizados para depositar películas finas?
Como é que o forno CVD funciona?
O sistema de forno CVD consiste em uma unidade de forno de tubo de alta temperatura, unidade de controle preciso da fonte de gás reagente, estação de bomba de vácuo e peças de montagem correspondentes.
A bomba de vácuo é para remover o ar do tubo de reação e garantir que não haja gases indesejados dentro do tubo de reação, depois que o forno de tubo aquecerá o tubo de reação a uma temperatura alvo, então a unidade de controle preciso da fonte de gás reagente pode introduzir gases diferentes com uma proporção definida no tubo do forno para a reação química, a deposição de vapor químico será formada no forno CVD.
Quais são algumas das aplicações comuns dos materiais CVD?
Para que é utilizado o PECVD?
Como é que uma máquina de diamante CVD funciona?
Quais são as vantagens dos diamantes cultivados em laboratório?
O que é a máquina Mpcvd?
Quais são os diferentes tipos de métodos CVD?
Como é que o PECVD RF funciona?
PACVD é PECVD?
Quais são as vantagens de utilizar uma máquina de corte de diamante?
O que é o equipamento de deposição de película fina?
Que gás é utilizado no processo CVD?
Existem tremendas fontes de gás que podem ser usadas no processo CVD, as reações químicas comuns do CVD incluem pirólise, fotólise, redução, oxidação, redox, de modo que os gases envolvidos nessas reações químicas podem ser usados no processo CVD.
Tomamos o crescimento de grafeno CVD como exemplo, os gases usados no processo CVD serão CH4, H2, O2 e N2.
Que tipos de materiais CVD estão disponíveis?
Quais são as vantagens do PECVD?
Quais são as vantagens de utilizar máquinas de diamante CVD?
Qual é o preço da máquina de produção de diamantes CVD?
Quais são as vantagens do Mpcvd?
Quais são as vantagens da utilização de máquinas de deposição química de vapor?
Quais são as vantagens do RF PECVD?
Quais são as vantagens da utilização do PACVD?
Que tipos de máquinas de corte diamantadas estão disponíveis?
O que é a tecnologia de deposição de película fina?
Qual é a vantagem do sistema CVD?
- Pode ser produzida uma vasta gama de películas, películas metálicas, películas não metálicas e películas de ligas multicomponentes, conforme necessário. Ao mesmo tempo, pode preparar cristais de alta qualidade que são difíceis de obter por outros métodos, como GaN, BP, etc.
- A velocidade de formação da película é rápida, geralmente vários microns por minuto ou mesmo centenas de microns por minuto. É possível depositar simultaneamente grandes quantidades de revestimentos com composição uniforme, o que é incomparável com outros métodos de preparação de filmes, como epitaxia de fase líquida (LPE) e epitaxia de feixe molecular (MBE).
- As condições de trabalho são realizadas sob pressão normal ou condições de baixo vácuo, de modo que o revestimento tem boa difração, e as peças de trabalho com formas complexas podem ser uniformemente revestidas, o que é muito superior ao PVD.
- Devido à difusão mútua do gás de reação, do produto da reação e do substrato, pode obter-se um revestimento com boa força de adesão, o que é crucial para a preparação de películas reforçadas à superfície, tais como películas resistentes ao desgaste e anti-corrosão.
- Algumas películas crescem a uma temperatura muito inferior ao ponto de fusão do material da película. Sob a condição de crescimento a baixa temperatura, o gás de reação e a parede do reator e as impurezas contidas neles quase não reagem, de modo que um filme com alta pureza e boa cristalinidade pode ser obtido.
- A deposição química de vapor pode obter uma superfície de deposição lisa. Isso ocorre porque, em comparação com o LPE, a deposição de vapor químico (CVD) é realizada sob alta saturação, com alta taxa de nucleação, alta densidade de nucleação e distribuição uniforme em todo o plano, resultando em uma superfície lisa macroscópica. Ao mesmo tempo, na deposição de vapor químico, o caminho livre médio das moléculas (átomos) é muito maior do que o LPE, de modo que a distribuição espacial das moléculas é mais uniforme, o que favorece a formação de uma superfície de deposição lisa.
- Baixos danos por radiação, que é uma condição necessária para a fabricação de semicondutores de óxido metálico (MOS) e outros dispositivos
Como é que o diamante CVD melhora o desempenho das ferramentas de corte?
Qual é a diferença entre ALD e PECVD?
Que considerações devem ser feitas ao selecionar uma máquina de diamante CVD?
Os diamantes CVD são reais ou falsos?
Quais são as aplicações das máquinas de deposição química de vapor?
Quais são as aplicações mais comuns do PACVD?
Como é que uma máquina de corte com diamante garante um corte de alta precisão?
Quais são as vantagens da utilização de equipamento de deposição de películas finas?
O que significa PECVD?
O PECVD é uma tecnologia que utiliza o plasma para ativar o gás de reação, promover a reação química na superfície do substrato ou no espaço próximo da superfície e gerar uma película sólida. O princípio básico da tecnologia de deposição de vapor químico de plasma é que, sob a ação do campo elétrico de RF ou DC, o gás de origem é ionizado para formar um plasma, o plasma de baixa temperatura é usado como fonte de energia, uma quantidade apropriada de gás de reação é introduzida e a descarga de plasma é usada para ativar o gás de reação e realizar a deposição de vapor químico.
De acordo com o método de geração de plasma, ele pode ser dividido em plasma de RF, plasma de DC e plasma de micro-ondas CVD, etc ...
O que torna as cúpulas de diamante CVD adequadas para altifalantes de alto desempenho?
Qual é a diferença entre PECVD e pulverização catódica?
Quais são as aplicações comuns dos diamantes produzidos pelas máquinas de diamante CVD?
Que factores devem ser considerados na seleção de uma máquina de deposição de vapor químico?
Que factores devem ser considerados na seleção de um sistema PACVD?
Qual é a gama de aplicações de uma máquina de corte de diamante?
Que factores devem ser considerados na seleção do equipamento de deposição de película fina?
Qual é a diferença entre CVD e PECVD?
A diferença entre o PECVD e a tecnologia CVD tradicional é que o plasma contém um grande número de electrões de alta energia, que podem fornecer a energia de ativação necessária no processo de deposição de vapor químico, alterando assim o modo de fornecimento de energia do sistema de reação. Uma vez que a temperatura dos electrões no plasma é tão elevada como 10000K, a colisão entre os electrões e as moléculas de gás pode promover a quebra de ligações químicas e a recombinação das moléculas de gás de reação para gerar grupos químicos mais activos, enquanto todo o sistema de reação mantém uma temperatura mais baixa.
Assim, em comparação com o processo CVD, o PECVD pode realizar o mesmo processo de deposição química de vapor com uma temperatura mais baixa.
Como é que o diamante CVD melhora a gestão térmica dos dispositivos electrónicos?
As máquinas de deposição química de vapor podem ser utilizadas para a deposição de películas finas com várias camadas?
Que considerações de segurança estão associadas à operação de equipamentos de deposição de película fina?
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