Produtos Equipamento térmico MPCVD Sistema de Reator de Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico para Deposição Química de Vapor por Plasma de Micro-ondas e Crescimento de Diamante de Laboratório
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Sistema de Reator de Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico para Deposição Química de Vapor por Plasma de Micro-ondas e Crescimento de Diamante de Laboratório

MPCVD

Sistema de Reator de Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico para Deposição Química de Vapor por Plasma de Micro-ondas e Crescimento de Diamante de Laboratório

Número do item : KTWB315

O preço varia com base em especificações e personalizações


Potência de micro-ondas
Frequência de micro-ondas 2450±15MHZ
Potência de saída
1~10 KW continuamente ajustável
Vazamento de micro-ondas
≤2MW/cm2
Interface da guia de ondas de saída
WR340, 430 com flange padrão FD-340, 430
Suporte de amostra
Diâmetro da mesa de amostra ≥72mm, área de uso efetiva ≥66 mm
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MPCVD significa Deposição Química de Vapor por Plasma de Micro-ondas. É um método de cultivo de filmes de diamante de alta qualidade em laboratório, utilizando um gás contendo carbono e um plasma de micro-ondas.

KinTek MPCVD

Sistema MPCVD

O sistema MPCVD (Deposição Química de Vapor por Plasma de Micro-ondas) é um processo usado para depositar filmes finos em uma superfície de substrato. O sistema consiste em uma câmara de vácuo onde ocorre o processo de deposição, um gerador de micro-ondas e um sistema de entrega de gás. O gerador de micro-ondas é usado para gerar um plasma dentro da câmara de vácuo, que é usado para decompor e depositar as espécies gasosas no substrato.

O gerador de micro-ondas é tipicamente um magnetron ou klystron, que gera micro-ondas na faixa de 2,45 GHz. As micro-ondas são acopladas à câmara de vácuo através de uma janela de quartzo.

O sistema de entrega de gás consiste em controladores de fluxo de massa (MFCs) que controlam o fluxo de gás para a câmara de vácuo. Os MFCs são calibrados em centímetro cúbico padrão por minuto (sccm).

A temperatura do substrato é controlada pela posição do plasma e é medida por um termopar. O plasma é usado para aquecer o substrato, e a temperatura é monitorada pelo termopar para garantir que o substrato esteja na temperatura desejada durante o processo de deposição.

Aplicações

A MPCVD é uma tecnologia promissora para a produção de diamantes grandes de alta qualidade e baixo custo.

As propriedades únicas do diamante, incluindo sua dureza, rigidez, alta condutividade térmica, baixa expansão térmica, resistência à radiação e inércia química, o tornam um material valioso.

Apesar de seu grande potencial, o alto custo, o tamanho limitado e a dificuldade em controlar as impurezas dos diamantes naturais e sintéticos de alta pressão e alta temperatura limitaram suas aplicações.

A MPCVD é o equipamento principal usado para cultivar gemas e filmes de diamante. 

O crescimento de filmes de diamante pode ser monocristalino ou policristalino, e é amplamente utilizado na indústria de semicondutores para substratos de diamante de grande porte, bem como na indústria de ferramentas de corte ou perfuração de diamante. 

Em comparação com o método HPHT para diamantes cultivados em laboratório, o método de CVD por micro-ondas é vantajoso para o crescimento de diamantes de grande porte a um custo menor, tornando-o uma solução ideal para aplicações de diamantes semicondutores, crescimento de diamantes ópticos e as necessidades do mercado de diamantes de joalheria de grande porte.

Máquinas MPCVD KINTEK
Máquinas de diamante MPCVD KINTEK
Nova máquina de diamante MPCVD KINTEK modelo
Nova máquina de diamante MPCVD KINTEK modelo
Nova máquina de diamante MPCVD KINTEK modelo
Nova máquina de diamante MPCVD KINTEK modelo
Diamantes brutos cultivados por KINTEK MPCVD
Diamantes brutos cultivados por KINTEK MPCVD
Na Máquina MPCVD KinTek, diamantes estão crescendo
Na Máquina MPCVD KinTek, diamantes estão crescendo
Na Máquina MPCVD KinTek, diamantes estão crescendo
Na Máquina MPCVD KinTek, diamantes estão crescendo
Na Máquina MPCVD KinTek, diamantes estão crescendo
Na Máquina MPCVD KinTek, diamantes estão crescendo
Na Máquina MPCVD KinTek, diamantes estão crescendo
Na Máquina MPCVD KinTek, diamantes estão crescendo
Na Máquina MPCVD KinTek, diamantes estão crescendo
Na Máquina MPCVD KinTek, diamantes estão crescendo
Diamante bruto cultivado por máquina KINTEK MPCVD
Diamante bruto cultivado por máquina KINTEK MPCVD
Diamante bruto cultivado por máquina KINTEK MPCVD
Diamante bruto cultivado por máquina KINTEK MPCVD
Diamante bruto cultivado por máquina KINTEK MPCVD
Diamante bruto cultivado por máquina KINTEK MPCVD
Diamantes cultivados por MPCVD após polimento
Diamantes cultivados por MPCVD após polimento
Policristalino por KinTek MPCVD
Policristalino por KinTek MPCVD

Vantagens da MPCVD

A MPCVD é um método de síntese de diamante que possui várias vantagens sobre outros métodos, como HFCVD e DC-PJ CVD. Evita a contaminação do diamante por fios quentes e permite o uso de múltiplos gases para atender a diferentes necessidades industriais. Em comparação com o DC-PJ CVD, permite o ajuste suave e contínuo da potência de micro-ondas e o controle estável da temperatura de reação, o que evita a queda de sementes de cristal do substrato devido a arcos e falhas de chama. Com uma grande área de plasma de descarga estável, o método MPCVD é considerado o método de síntese de diamante mais promissor para aplicações industriais.

Os diamantes produzidos através da MPCVD são de maior pureza em comparação com os produzidos usando o método HPHT, e o processo de produção consome menos energia. Além disso, o método MPCVD facilita a produção de diamantes maiores.

Vantagens do Nosso Sistema MPCVD

Estamos profundamente envolvidos na indústria há muitos anos e, como resultado, temos uma vasta base de clientes que confiam e utilizam nossos equipamentos. Nossos equipamentos MPCVD têm funcionado de forma estável por mais de 40.000 horas, demonstrando estabilidade, confiabilidade, repetibilidade e custo-benefício excepcionais. Mais vantagens do nosso sistema MPCVD incluem:

  • Área de crescimento de substrato de 3 polegadas, carga máxima de lote de até 45 peças de diamantes
  • Potência de micro-ondas de saída ajustável de 1-10Kw para menor consumo de eletricidade
  • Equipe de pesquisa com rica experiência e suporte de receita de crescimento de diamante de ponta
  • Programa exclusivo de suporte técnico para equipes com zero experiência em crescimento de diamante

Ao alavancar nossa tecnologia avançada acumulada, implementamos várias rodadas de atualizações e melhorias em nosso sistema MPCVD, resultando em eficiência significativamente melhorada e custos de equipamento reduzidos. Como resultado, nosso equipamento MPCVD está na vanguarda dos avanços tecnológicos e oferecido a um preço competitivo. Bem-vindo a nos consultar.

Simulação MPCVD KinTek
Simulação MPCVD KinTek

Processo de Trabalho

A máquina MPCVD controla o fluxo de cada caminho de gás e a pressão da cavidade enquanto introduz gases reagentes (como CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) na cavidade sob pressão específica. Após estabilizar o fluxo de ar, o gerador de micro-ondas de estado sólido de 6KW gera micro-ondas que são então introduzidas na cavidade através do guia de ondas.

O gás de reação se transforma em um estado de plasma sob o campo de micro-ondas, formando uma bola de plasma que paira acima do substrato de diamante. A alta temperatura do plasma aquece o substrato a uma temperatura específica. O calor excessivo produzido na cavidade é dissipado pela unidade de resfriamento a água.

Para garantir condições ideais de crescimento durante o processo de crescimento de diamante monocristalino MPCVD, ajustamos fatores como potência, composição da fonte de gás e pressão da cavidade. Além disso, como a bola de plasma não entra em contato com a parede da cavidade, o processo de crescimento de diamante é livre de impurezas, aumentando assim a qualidade do diamante.

Detalhes e Peças

Sistema de micro-ondas

Sistema de micro-ondas

Câmara de reação

Câmara de reação

Sistema de fluxo de gás

Sistema de fluxo de gás

Sistema de vácuo e sensor

Sistema de vácuo e sensor

Especificações técnicas

Sistema de micro-ondas
  • Frequência de micro-ondas 2450±15MHZ,
  • Potência de saída 1~10 KW continuamente ajustável
  • Estabilidade da potência de saída de micro-ondas: <±1%
  • Vazamento de micro-ondas ≤2MW/cm2
  • Interface do guia de ondas de saída: WR340, 430 com flange padrão FD-340, 430
  • Fluxo de água de resfriamento: 6-12L/min
  • Coeficiente de onda estacionária do sistema: VSWR ≤ 1,5
  • Ajustador manual de 3 pinos de micro-ondas, cavidade de excitação, carga de alta potência
  • Fonte de alimentação de entrada: 380VAC/50Hz ± 10%, trifásica 
Câmara de reação
  • Taxa de vazamento de vácuo<5 × 10-9 Pa .m3/s
  • A pressão limite é inferior a 0,7 Pa (configuração padrão com medidor de vácuo Pirani) 
  • O aumento de pressão da câmara não deve exceder 50Pa após 12 horas de manutenção da pressão
  • Modo de trabalho da câmara de reação: modo TM021 ou TM023
  • Tipo de cavidade: Cavidade ressonante cilíndrica, com potência máxima de suporte de 10KW, feita de aço inoxidável 304, com camada intermediária resfriada a água e método de vedação com placa de quartzo de alta pureza.
  • Modo de entrada de ar: Entrada de ar uniforme anular superior
  • Vedação a vácuo: A conexão inferior da câmara principal e a porta de injeção são vedadas com anéis de borracha, a bomba de vácuo e o fole são vedados com KF, a placa de quartzo é vedada com um anel C metálico e o restante é vedado com CF
  • Janela de observação e medição de temperatura: 8 portas de observação
  • Porta de carga de amostra na frente da câmara
  • Descarga estável na faixa de pressão de 0,7 KPa ~ 30 KPa (a potência e a pressão devem corresponder)
Suporte de amostra
  • Diâmetro da mesa de amostra≥72mm, área de uso efetiva≥66 mm
  • Estrutura de sanduíche resfriada a água da plataforma da placa base
  • O suporte de amostra pode ser levantado e abaixado uniformemente eletricamente na cavidade
Sistema de fluxo de gás
  • Disco de ar com solda totalmente metálica
  • Juntas de solda ou VCR devem ser usadas em todos os circuitos de gás internos do equipamento.
  • Medidor de fluxo MFC de 5 canais, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 sccm; CH4: 100 sccm; O2: 2 sccm; N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm
  • Pressão de trabalho 0,05-0,3MPa, precisão ±2%
  • Controle independente de válvula pneumática para cada medidor de fluxo de canal
Sistema de resfriamento
  • 3 linhas de resfriamento a água, monitoramento em tempo real de temperatura e fluxo.
  • O fluxo de água de resfriamento do sistema é ≤ 50L/min
  • A pressão da água de resfriamento é <4KG, e a temperatura da água de entrada é de 20-25 ℃.
Sensor de temperatura
  • O termômetro infravermelho externo tem uma faixa de temperatura de 300-1400 ℃ 
  • Precisão do controle de temperatura < 2 ℃ ou 2%
Sistema de controle
  • Adota controle PLC Siemens smart 200 e tela sensível ao toque. 
  • O sistema possui uma variedade de programas, que podem realizar o equilíbrio automático da temperatura de crescimento, controle preciso da pressão do ar de crescimento, aumento automático de temperatura, queda automática de temperatura e outras funções. 
  • A operação estável do equipamento e a proteção abrangente do equipamento podem ser alcançadas através do monitoramento de fluxo de água, temperatura, pressão e outros parâmetros, e a confiabilidade e segurança da operação podem ser garantidas através de intertravamento funcional. 
Função opcional
  • Sistema de monitoramento central
  • Potência de base do substrato

Avisos

A segurança do operador é a questão mais importante! Por favor, opere o equipamento com cautelas. Trabalhar com gases inflamáveis, explosivos ou tóxicos é muito perigoso, os operadores devem tomar todas as precauções necessárias antes de iniciar o equipamento. Trabalhar com pressão positiva dentro dos reactores ou câmaras é perigoso, o operador deve seguir rigorosamente os procedimentos de segurança. Extra também deve ser tido cuidado ao operar com materiais reativos ao ar, especialmente sob vácuo. Uma fuga pode aspirar ar para dentro do aparelho e provocar ocorrer uma reação violenta.

Desenhado para si

A KinTek fornece serviços e equipamentos personalizados a clientes em todo o mundo, o nosso trabalho em equipa especializado e engenheiros experientes são capazes de realizar os requisitos de equipamento de hardware e software de alfaiataria personalizada, e ajudar o nosso cliente a construir equipamentos e equipamentos exclusivos e personalizados solução!

Por favor, deixe as suas ideias para nós, os nossos engenheiros estão prontos para si agora!

FAQ

O Que é O Mpcvd?

MPCVD significa Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas e é um processo de deposição de películas finas numa superfície. Utiliza uma câmara de vácuo, um gerador de micro-ondas e um sistema de distribuição de gás para criar um plasma constituído por produtos químicos em reação e pelos catalisadores necessários. A MPCVD é muito utilizada na rede ANFF para depositar camadas de diamante utilizando metano e hidrogénio para fazer crescer novo diamante num substrato semeado com diamante. É uma tecnologia promissora para a produção de grandes diamantes de baixo custo e alta qualidade e é amplamente utilizada na indústria de semicondutores e de corte de diamantes.

O Que é A Máquina Mpcvd?

A máquina MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) é um equipamento de laboratório utilizado para produzir películas de diamante de alta qualidade. Utiliza um gás contendo carbono e um plasma de micro-ondas para criar uma bola de plasma acima do substrato de diamante, que o aquece a uma temperatura específica. A bola de plasma não entra em contacto com a parede da cavidade, tornando o processo de crescimento do diamante isento de impurezas e melhorando a qualidade do diamante. O sistema MPCVD é constituído por uma câmara de vácuo, um gerador de micro-ondas e um sistema de fornecimento de gás que controla o fluxo de gás para a câmara.

Quais São As Vantagens Do Mpcvd?

O MPCVD tem várias vantagens sobre outros métodos de produção de diamantes, como maior pureza, menor consumo de energia e a capacidade de produzir diamantes maiores.

Os Diamantes CVD São Reais Ou Falsos?

Os diamantes CVD são diamantes verdadeiros e não falsos. Eles são cultivados em laboratório através de um processo chamado Deposição Química de Vapor (CVD). Ao contrário dos diamantes naturais que são extraídos da superfície da terra, os diamantes CVD são criados usando tecnologia avançada em laboratórios. Estes diamantes são 100% carbono e são a forma mais pura de diamantes, conhecidos como diamantes Tipo IIa. Eles têm as mesmas propriedades ópticas, térmicas, físicas e químicas que os diamantes naturais. A única diferença é que os diamantes CVD são criados em um laboratório e não extraídos da terra.
Veja mais perguntas frequentes sobre este produto

4.9

out of

5

KINTEK's MPCVD machine is a game-changer! Its 1-10Kw adjustable output microwave power feature not only saves electricity but also ensures precise control over the diamond growth process.

Harshitha Gujjar

4.8

out of

5

As a lab manager, I appreciate the stability and reliability of the KINTEK MPCVD system. It has been running non-stop for over 40,000 hours, providing us with consistent, high-quality diamond growth.

Elvin Wang

4.7

out of

5

The rich experience and frontier diamond growing recipe support from KINTEK's research team have been invaluable. Their expertise has helped us optimize our MPCVD process and achieve exceptional results.

Sophia Mitchell

4.8

out of

5

KINTEK's exclusive technical support program for teams with zero diamond growing experience is a lifesaver. Their guidance and assistance have been instrumental in our successful adoption of the MPCVD system.

Mustafa Kamal

5.0

out of

5

The 3 inches substrate growing area and max. batch load of up to 45 pieces diamonds make the KINTEK MPCVD machine a highly efficient and productive choice for our lab. We can now produce more diamonds in less time.

Isabella Garcia

4.9

out of

5

The KINTEK MPCVD system is a technological marvel. Its advanced features and continuous upgrades have kept us at the forefront of diamond growth innovation.

Oliver Chen

4.7

out of

5

The competitive price of the KINTEK MPCVD equipment makes it an affordable and accessible solution for labs like ours. We're grateful for the opportunity to leverage its cutting-edge technology without breaking the bank.

Aisha Khan

5.0

out of

5

The KINTEK MPCVD machine has exceeded our expectations. Its user-friendly interface, stable performance, and exceptional diamond quality have made it an indispensable tool in our lab.

Elijah Harper

Produtos

Sistema de Reator de Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico para Deposição Química de Vapor por Plasma de Micro-ondas e Crescimento de Diamante de Laboratório

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