Forno de vácuo
Forno de arco de vácuo Forno de fusão por indução
Número do item : KT-VA
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Capacidade de carga
- 1-200 kg
- Tensão de funcionamento
- 20-40 V
- Pressão de vácuo
- 1.3-1.3x10-2
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O forno de arco de vácuo é utilizado principalmente para fundir metais activos como o titânio, o nióbio, o zircónio e metais refractários como o tungsténio e o molibdénio. Além disso, também é utilizado para fundir materiais à base de ferro, níquel, cobalto e outras ligas.
O forno de arco a vácuo é caracterizado por alta temperatura, alta velocidade de fusão, efeito de desgaseificação notável, livre de contaminação refractária do metal fundido e capaz de reduzir inclusões não metálicas no metal.
O forno de arco a vácuo é amplamente utilizado na fundição e purificação de materiais metálicos de temperatura ultra-alta, materiais de liga de alta entropia, materiais de liga de origem, materiais metálicos refractários, materiais de metais raros e preciosos em escolas, institutos de investigação e instituições. Pode remover eficazmente o oxigénio e as impurezas.
Detalhes e peças
Características
- O corpo do forno é todo em aço inoxidável, com um aspeto bonito e sem ferrugem.
- Adotar câmara de vácuo cilíndrica vertical
- Equipado com uma janela de observação de grande diâmetro, a situação de fundição no forno pode ser observada em tempo real
- A temperatura de fundição é elevada, a temperatura pode ser superior a 3500 graus,
- É adoptada uma fonte de alimentação de fusão especial para a fusão por arco.
- Equipado com um ecrã de simulação de operação, os dados de controlo são apresentados intuitivamente e a operação é intuitiva e simples
- Design de alto vácuo, o grau de vácuo pode atingir 5x10E-4Pa e acima
- Utiliza proteção contra temperaturas excessivas e adiciona um filtro de vidro para proteger os olhos
- O elétrodo de cobre arrefecido a água pode ser movido 360 graus e a operação é flexível. Ao mesmo tempo, o cadinho arrefecido a água é pequeno e substituível, e pode ser personalizado.
- Com dispositivo de viragem de material, para ultrapassar a situação de fusão desigual num dos lados do material
- Estação de fundição com fundição por sucção a vácuo
- Eficiência do equipamento: A maioria dos materiais metálicos é aquecida e refundida durante um minuto ou menos.
Especificações técnicas
| Modelo | KT-VA1 | KT-VA5 | KT-VA25 | KT-VA200 |
| Capacidade (Kg) | 1 | 5-15 | 25 | 200 |
| Tensão de funcionamento (V) | 20-40 | |||
| Corrente de trabalho (A) | 1000A | 3000A | 6000A | 12000A |
| Pressão de vácuo (Pa) | 1.3-1.3x10-2 | |||
| Tamanho do elétrodo (mm) | Φ25-40 x 400 | Φ10-45x1200 | Φ30-60x1350 | Φ56-150x1745 |
| Tamanho do lingote (mm) | Φ60x100 | Φ80x135 | Φ100x400mm | Φ200x670mm |
| Dimensões (m) | 0,8x0,35x1,8 | 3,81x3,0x5,21 | 4,43x3,33x4,93 | 7,4x3,4x6,72 |
Avisos
A segurança do operador é a questão mais importante! Por favor, opere o equipamento com cautelas. Trabalhar com gases inflamáveis, explosivos ou tóxicos é muito perigoso, os operadores devem tomar todas as precauções necessárias antes de iniciar o equipamento. Trabalhar com pressão positiva dentro dos reactores ou câmaras é perigoso, o operador deve seguir rigorosamente os procedimentos de segurança. Extra também deve ser tido cuidado ao operar com materiais reativos ao ar, especialmente sob vácuo. Uma fuga pode aspirar ar para dentro do aparelho e provocar ocorrer uma reação violenta.
Desenhado para si
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FAQ
O Que é Um Forno De Indução A Vácuo E Como Funciona?
Para Que é Utilizado Um Forno De Vácuo?
O Que é O Forno CVD?
A deposição química de vapor (CVD) é uma tecnologia que utiliza várias fontes de energia, como aquecimento, excitação de plasma ou radiação de luz para reagir quimicamente substâncias químicas gasosas ou de vapor na fase gasosa ou na interface gás-sólido para formar depósitos sólidos no reator por meio de reação química. simplificando, duas ou mais matérias-primas gasosas são introduzidas em uma câmara de reação e, em seguida, reagem entre si para formar um novo material e depositá-lo na superfície do substrato.
O forno CVD é um sistema de forno combinado com unidade de forno tubular de alta temperatura, unidade de controle de gases e unidade de vácuo, é amplamente utilizado para experimentos e produção de preparação de material composto, processo microeletrônico, optoeletrônico semicondutor, utilização de energia solar, comunicação de fibra ótica, tecnologia de supercondutor, campo de revestimento protetor.
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos De Indução De Vácuo?
Como Funciona Um Forno De Fusão Por Indução No Vácuo?
O Que é O Processo De Fusão Por Arco A Vácuo?
Qual é O Processo De Um Forno De Vácuo?
Como é Que O Forno CVD Funciona?
O sistema de forno CVD consiste em uma unidade de forno de tubo de alta temperatura, unidade de controle preciso da fonte de gás reagente, estação de bomba de vácuo e peças de montagem correspondentes.
A bomba de vácuo é para remover o ar do tubo de reação e garantir que não haja gases indesejados dentro do tubo de reação, depois que o forno de tubo aquecerá o tubo de reação a uma temperatura alvo, então a unidade de controle preciso da fonte de gás reagente pode introduzir gases diferentes com uma proporção definida no tubo do forno para a reação química, a deposição de vapor químico será formada no forno CVD.
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno De Indução A Vácuo?
Quais São As Vantagens Da Fusão Por Indução A Vácuo?
O Que é O Forno VAR (Vacuum Arc Remelting)?
Que Gás é Utilizado Num Forno De Vácuo?
Que Gás é Utilizado No Processo CVD?
Existem tremendas fontes de gás que podem ser usadas no processo CVD, as reações químicas comuns do CVD incluem pirólise, fotólise, redução, oxidação, redox, de modo que os gases envolvidos nessas reações químicas podem ser usados no processo CVD.
Tomamos o crescimento de grafeno CVD como exemplo, os gases usados no processo CVD serão CH4, H2, O2 e N2.
Que Tipos De Materiais Podem Ser Processados Num Forno De Indução De Vácuo?
Como é Que O Vácuo Ajuda No Forno De Fusão Por Indução?
Como é Que O Forno De Fusão Por Arco De Vácuo Funciona?
Qual é O Elemento De Aquecimento Utilizado Num Forno De Vácuo?
Qual é A Vantagem Do Sistema CVD?
- Pode ser produzida uma vasta gama de películas, películas metálicas, películas não metálicas e películas de ligas multicomponentes, conforme necessário. Ao mesmo tempo, pode preparar cristais de alta qualidade que são difíceis de obter por outros métodos, como GaN, BP, etc.
- A velocidade de formação da película é rápida, geralmente vários microns por minuto ou mesmo centenas de microns por minuto. É possível depositar simultaneamente grandes quantidades de revestimentos com composição uniforme, o que é incomparável com outros métodos de preparação de filmes, como epitaxia de fase líquida (LPE) e epitaxia de feixe molecular (MBE).
- As condições de trabalho são realizadas sob pressão normal ou condições de baixo vácuo, de modo que o revestimento tem boa difração, e as peças de trabalho com formas complexas podem ser uniformemente revestidas, o que é muito superior ao PVD.
- Devido à difusão mútua do gás de reação, do produto da reação e do substrato, pode obter-se um revestimento com boa força de adesão, o que é crucial para a preparação de películas reforçadas à superfície, tais como películas resistentes ao desgaste e anti-corrosão.
- Algumas películas crescem a uma temperatura muito inferior ao ponto de fusão do material da película. Sob a condição de crescimento a baixa temperatura, o gás de reação e a parede do reator e as impurezas contidas neles quase não reagem, de modo que um filme com alta pureza e boa cristalinidade pode ser obtido.
- A deposição química de vapor pode obter uma superfície de deposição lisa. Isso ocorre porque, em comparação com o LPE, a deposição de vapor químico (CVD) é realizada sob alta saturação, com alta taxa de nucleação, alta densidade de nucleação e distribuição uniforme em todo o plano, resultando em uma superfície lisa macroscópica. Ao mesmo tempo, na deposição de vapor químico, o caminho livre médio das moléculas (átomos) é muito maior do que o LPE, de modo que a distribuição espacial das moléculas é mais uniforme, o que favorece a formação de uma superfície de deposição lisa.
- Baixos danos por radiação, que é uma condição necessária para a fabricação de semicondutores de óxido metálico (MOS) e outros dispositivos
Como é Que O Ambiente De Vácuo Num Forno De Indução A Vácuo Melhora As Propriedades Dos Materiais?
O Que é O Forno De Fusão Por Indução A Vácuo?
Quais São As Aplicações Dos Fornos De Fusão Por Arco Em Vácuo?
O Que Significa PECVD?
O PECVD é uma tecnologia que utiliza o plasma para ativar o gás de reação, promover a reação química na superfície do substrato ou no espaço próximo da superfície e gerar uma película sólida. O princípio básico da tecnologia de deposição de vapor químico de plasma é que, sob a ação do campo elétrico de RF ou DC, o gás de origem é ionizado para formar um plasma, o plasma de baixa temperatura é usado como fonte de energia, uma quantidade apropriada de gás de reação é introduzida e a descarga de plasma é usada para ativar o gás de reação e realizar a deposição de vapor químico.
De acordo com o método de geração de plasma, ele pode ser dividido em plasma de RF, plasma de DC e plasma de micro-ondas CVD, etc ...
Quais São As Vantagens Da Utilização De Fornos De Fusão Por Arco A Vácuo?
Qual é A Diferença Entre CVD E PECVD?
A diferença entre o PECVD e a tecnologia CVD tradicional é que o plasma contém um grande número de electrões de alta energia, que podem fornecer a energia de ativação necessária no processo de deposição de vapor químico, alterando assim o modo de fornecimento de energia do sistema de reação. Uma vez que a temperatura dos electrões no plasma é tão elevada como 10000K, a colisão entre os electrões e as moléculas de gás pode promover a quebra de ligações químicas e a recombinação das moléculas de gás de reação para gerar grupos químicos mais activos, enquanto todo o sistema de reação mantém uma temperatura mais baixa.
Assim, em comparação com o processo CVD, o PECVD pode realizar o mesmo processo de deposição química de vapor com uma temperatura mais baixa.
Que Precauções De Segurança Devem Ser Seguidas Quando Se Utiliza Um Forno De Fusão Por Arco Sob Vácuo?
4.8
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Vacuum arc furnace is a great tool for melting active metals and preparing bulk amorphous materials by vacuum suction casting.
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The vacuum induction furnace allows for the smelting of refractory metals and the production of special corrosion-resistant and heat-resistant alloys.
4.7
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Vacuum induction melting furnace has the advantages of no air and vacuum induction furnace slag pollution, pure alloy, and low gas content.
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The vacuum induction furnace is widely used in the smelting and purification of various metal materials in schools, research institutes, and institutions.
4.9
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Vacuum arc furnace is characterized by high temperature, high speed melting, remarkable degassing effect, and free of refractory contamination of molten metal.
4.7
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The vacuum induction melting furnace is mainly composed of a furnace shell, inductor, crucible, furnace tilting mechanism, mold mechanism, power supply device, and a water cooling system.
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The vacuum arc furnace is mainly used to melt active metals such as titanium, niobium, zirconium and refractory metals such as tungsten and molybdenum.
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Vacuum induction melting technology and induction smelting technology have been applied in different occasions.
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The development and progress of vacuum induction furnace are mainly reflected in the gradual improvement of the overall structure of the equipment, the increasingly obvious trend of modularization and the more intelligent control system.
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Vacuum arc furnace is suitable for scientific research and small batch preparation of new vacuum metallurgy materials in universities and scientific research institutes.
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The vacuum induction furnace is widely used in the smelting and purification of ultra-high temperature metal materials, high entropy alloy materials, parent alloy materials, refractory metal materials, rare and precious metal materials.
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The vacuum arc furnace can effectively remove oxygen and impurities.
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The vacuum induction furnace is mainly used to melt active metals, such as titanium alloy, etc.
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The vacuum induction furnace can prevent melting of metals and alloys, and react with non-metallic inclusions.
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The vacuum induction furnace can remove the harmful dissolved gases and pollutants in molten metals.
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The vacuum induction furnace has the advantages of no air and vacuum induction furnace slag pollution, pure alloy, and low gas content.
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The vacuum arc furnace is widely used in the smelting and purification of various metal materials in schools, research institutes, and institutions.
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The vacuum induction melting furnace is mainly composed of a furnace shell, inductor, crucible, furnace tilting mechanism, mold mechanism, power supply device, and a water cooling system.
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