Os catalisadores utilizados nas técnicas PVD (Physical Vapor Deposition) e CVD (Chemical Vapor Deposition) são o cobalto, o ferro, o níquel e as suas ligas. Estes catalisadores são normalmente utilizados na produção de nanotubos de carbono através de métodos CVD [10, 11]. Na CVD, podem ser utilizadas diferentes vias de ativação, como a CVD com tocha de plasma, a deposição de vapor químico por filamento quente (HFCVD) e a deposição de vapor químico por plasma de micro-ondas (MPCVD) [10]. Estes métodos podem ser utilizados para produzir películas de diamante de diferentes qualidades em vários substratos, dependendo da aplicação pretendida [10].
Na PVD, a técnica é diferente da CVD, uma vez que envolve o bombardeamento de materiais de origem sólida em átomos e a deposição destes átomos em substratos, em vez de utilizar moléculas de gás para depositar revestimentos sólidos [29]. Por conseguinte, a PVD não utiliza normalmente catalisadores da mesma forma que a CVD.
Em resumo, os catalisadores utilizados na técnica CVD, incluindo os métodos PVD e CVD, são o cobalto, o ferro, o níquel e as suas ligas. Estes catalisadores desempenham um papel crucial no crescimento de nanotubos de carbono e na deposição de películas de diamante de alta qualidade.
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