A Deposição Química em Vapor (CVD) é um processo que utiliza reagentes gasosos ou líquidos para formar uma película sólida num substrato.
Explicação das 6 etapas principais
1. Introdução de reagentes
O processo inicia-se com a introdução de reagentes. Estes encontram-se normalmente na forma gasosa ou líquida volátil e contêm os elementos necessários para formar a película desejada.
2. Câmara de Reação
Os reagentes são então introduzidos numa câmara de reação. Esta câmara está frequentemente sob vácuo para controlar o ambiente e garantir a pureza do processo de deposição.
3. Aplicação de energia
São aplicadas várias formas de energia para iniciar e manter as reacções químicas. Isto pode incluir o aumento da temperatura, a utilização de plasma ou a utilização de radiação luminosa.
4. Reacções químicas
Na superfície do substrato, os reagentes sofrem reacções químicas. Estas reacções levam à formação de uma nova substância sólida, que se deposita como uma película no substrato.
5. Deposição e formação da película
À medida que as reacções continuam, o material da película desejada acumula-se no substrato. Este processo é cuidadosamente controlado para garantir uma película uniforme e bem aderida.
6. Vantagens e aplicações
A CVD é conhecida pela sua versatilidade e capacidade de produzir películas de elevada pureza com um controlo preciso das suas propriedades. É amplamente utilizada em sectores como o dos semicondutores e da ciência dos materiais.
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