Forno de tubos
Forno tubular multi-zona
Número do item : KT-MTF
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura máxima
- 1700 ℃
- Temperatura de trabalho constante
- 1650 ℃
- Diâmetro do tubo do forno
- 30 / 40 / 60 / 80 / 100 / 150 / 230 mm
- Comprimento da zona de aquecimento
- 300 / 450 / 600 / 800 mm
- Quantidade de zonas de aquecimento
- 1-10 zonas
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Um forno tubular multi-zona é um equipamento de laboratório versátil concebido para aplicações de alta temperatura. Possui múltiplas zonas de aquecimento controladas de forma independente, permitindo gradientes de temperatura precisos ou aquecimento uniforme. O forno está normalmente equipado com tubos de quartzo ou alumina de alta pureza para contenção e aquecimento de amostras.
Este sistema avançado oferece uma ampla gama de temperaturas (300-1600℃), um controlo preciso da temperatura e um isolamento térmico eficiente. Suas aplicações incluem processos de sinterização, revestimento, decomposição térmica e deposição de vapor químico (CVD) em ambientes de vácuo ou gás inerte. As múltiplas zonas de aquecimento permitem perfis de temperatura personalizados, aumentando a eficiência e a precisão dos testes e análises térmicas.
Aplicações
Os fornos tubulares multi-zona são amplamente utilizados em várias aplicações, incluindo
- Sinterização
- Revestimento
- Decomposição térmica
- Processo CVD
- Ensaios de arrefecimento
- Medições de temperatura
- Deposição de vapor químico
- Tratamento térmico a alta temperatura
- Materiais metálicos
- Materiais cerâmicos
- Nano-materiais
- Materiais semicondutores
- Metalurgia do pó
- Novos materiais
- Petroquímica
- Indústria aeroespacial
Características
O forno tubular multi-zona oferece uma gama de características avançadas concebidas para aumentar a eficiência e a precisão dos seus processos laboratoriais:
- Controlo preciso da temperatura: O controlo independente de cada zona de aquecimento assegura uma distribuição precisa da temperatura e minimiza os gradientes de temperatura.
- Capacidade de alta temperatura: Com uma temperatura máxima de 1600 ℃, este forno é adequado para uma ampla gama de aplicações de alta temperatura.
- Zonas de aquecimento versáteis: Disponível em 2, 3 ou 5 zonas de aquecimento, o forno permite perfis de temperatura personalizados e requisitos de aquecimento personalizados.
- Isolamento térmico eficiente: O design do invólucro duplo do forno com circulação de ar forçada minimiza a perda de calor e mantém uma temperatura de superfície baixa.
- Fácil operação: O controlo de temperatura programável PID e um ecrã tátil de fácil utilização simplificam a operação e a monitorização.
- Controlo remoto: O controlo remoto e as capacidades de controlo centralizado permitem uma operação conveniente e eficiente.
- Compatibilidade com vácuo elevado: A flange de vácuo em aço inoxidável com várias portas assegura uma excelente vedação e uma pressão de vácuo elevada para aplicações baseadas no vácuo.
- Registo e análise de dados: O controlador de ecrã tátil TFT permite uma fácil definição de programas, análise de dados históricos e armazenamento de receitas.
Princípio de funcionamento
O forno tubular multi-zona funciona através do aquecimento de uma amostra num ambiente controlado. O forno tem várias zonas de aquecimento, cada uma das quais pode ser controlada de forma independente para criar um gradiente de temperatura específico. Isto permite um controlo preciso do processo de aquecimento e pode ser utilizado para uma variedade de aplicações, tais como recozimento, sinterização e CVD. O forno está também equipado com uma bomba de vácuo para criar um ambiente de vácuo, que pode ser utilizado para remover gases da amostra ou para criar uma atmosfera controlada.
Vantagens
- Controlo preciso da temperatura: Cada zona de aquecimento pode ser controlada de forma independente, permitindo gradientes de temperatura precisos e um aquecimento uniforme em todo o tubo.
- Capacidade para altas temperaturas: Com uma temperatura máxima de 1600 ℃, o forno tubular multi-zona pode lidar com aplicações exigentes que requerem altas temperaturas.
- Compatibilidade com vácuo e gás inerte: O forno pode ser usado sob vácuo ou em condições de fluxo de gás inerte, tornando-o adequado para vários processos, como têmpera, sinterização e CVD.
- Materiais de elevada pureza: O tubo do forno é feito de quartzo ou alumina de elevada pureza, garantindo uma contaminação mínima e medições de temperatura exactas.
- Isolamento térmico eficiente: O design de concha dupla do forno e o fluxo de ar forçado entre as conchas interior e exterior minimizam a perda de calor e mantêm uma temperatura de superfície baixa.
- Interface de fácil utilização: O controlador de ecrã tátil TFT com programação intuitiva e capacidades de análise de dados simplifica a operação e a monitorização.
- Versatilidade: Adequado para várias aplicações em ambientes de investigação, desenvolvimento e produção, incluindo processamento de materiais, medições de temperatura e testes.
Vantagens de segurança
- O forno tubular Kindle Tech possui proteção contra sobrecarga de corrente e função de alarme de temperatura excessiva, o forno desliga-se automaticamente quando é detectada uma sobrecarga de corrente
- O forno possui uma função de deteção de par térmico, o forno pára de aquecer e o alarme é ativado assim que o par térmico é quebrado ou detectada uma falha
- O TFM Pro suporta a função de reinício por falha de energia, o forno retoma o programa de aquecimento do forno quando a energia é recebida após a falha
Especificações técnicas
| Modelo do forno | KT-MTF | KT-MTF Pro |
| Controlador de temperatura | Controlador digital PID | Controlador PID com ecrã tátil |
| Predefinição de vários programas | não | sim |
| Reinício por falha de energia | não | sim |
| Temperatura máxima | 1700℃ | |
| Temperatura de trabalho constante | 1650℃ | |
| Material do tubo do forno | Quartzo de alta qualidade / Al2O3 alumina | |
| Diâmetro do tubo do forno | 30 / 40 / 60 / 80 / 100 / 150 / 230 mm | |
| Comprimento da zona de aquecimento | 300 / 450 / 600 / 800 mm | |
| Quantidade de zonas de aquecimento | 1-10 zonas | |
| Solução de vedação a vácuo | Flange SS 304 com anel em O | |
| Pressão de vácuo nominal | 0,001Pa/10E5 torr | |
| Pressão positiva nominal | 0,02Mpa/150 torr | |
| Material da câmara | Fibra de alumina Al2O3 do Japão | |
| Elemento de aquecimento | Bobina de fio Cr2Al2Mo2 | |
| Par térmico | Tipo K /S/B | |
| Precisão do controlo da temperatura | ±1℃ | |
| Uniformidade da temperatura | ±5℃ | |
| Fonte de alimentação eléctrica | AC110-220V,50/60HZ | |
| Outro tamanho de tubo de alumina Al2O3 e comprimento da zona de aquecimento podem ser personalizados | ||
Pacote padrão
| Não. | Descrição | Quantidade |
| 1 | Forno | 1 |
| 2 | Tubo de alumina | 1 |
| 3 | Flange de vácuo | 2 |
| 4 | Bloco térmico do tubo | 2 |
| 5 | Gancho do bloco térmico do tubo | 1 |
| 6 | Luva resistente ao calor | 1 |
| 7 | Manual de instruções | 1 |
Configuração opcional
- Deteção e monitorização de gases no tubo, como H2, O2, etc.
- Monitorização e registo independentes da temperatura do forno
- Porta de comunicação RS 485 para controlo remoto por PC e exportação de dados
- Controlo do caudal de alimentação de gases de inserção, como o caudalímetro de massa e o caudalímetro de flutuador
- Controlador de temperatura de ecrã tátil com funções versáteis e fáceis de utilizar
- Configurações de estação de bomba de alto vácuo, como bomba de vácuo de palhetas, bomba molecular, bomba de difusão
Avisos
A segurança do operador é a questão mais importante! Por favor, opere o equipamento com cautelas. Trabalhar com gases inflamáveis, explosivos ou tóxicos é muito perigoso, os operadores devem tomar todas as precauções necessárias antes de iniciar o equipamento. Trabalhar com pressão positiva dentro dos reactores ou câmaras é perigoso, o operador deve seguir rigorosamente os procedimentos de segurança. Extra também deve ser tido cuidado ao operar com materiais reativos ao ar, especialmente sob vácuo. Uma fuga pode aspirar ar para dentro do aparelho e provocar ocorrer uma reação violenta.
Desenhado para si
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FAQ
O Que é Um Forno Tubular?
O forno tubular de laboratório é um forno tubular clássico de aquecimento externo de alta temperatura, também chamado de forno de aquecimento de parede quente.
De acordo com a temperatura de trabalho diferente, o material do tubo do forno geralmente pode ser tubos de quartzo transparentes, tubos de cerâmica de alumina de alta pureza e tubos de liga metálica de alta resistência.
Para atender a diferentes propósitos de pesquisa térmica, o forno de tubo pode ser projetado com várias zonas de aquecimento, de modo a ter um controle flexível do gradiente de temperatura na câmara de trabalho do tubo; o tubo do forno pode funcionar com um ambiente de trabalho de atmosfera controlada ou um ambiente de trabalho de alto vácuo.
O Que é O Forno CVD?
A deposição química de vapor (CVD) é uma tecnologia que utiliza várias fontes de energia, como aquecimento, excitação de plasma ou radiação de luz para reagir quimicamente substâncias químicas gasosas ou de vapor na fase gasosa ou na interface gás-sólido para formar depósitos sólidos no reator por meio de reação química. simplificando, duas ou mais matérias-primas gasosas são introduzidas em uma câmara de reação e, em seguida, reagem entre si para formar um novo material e depositá-lo na superfície do substrato.
O forno CVD é um sistema de forno combinado com unidade de forno tubular de alta temperatura, unidade de controle de gases e unidade de vácuo, é amplamente utilizado para experimentos e produção de preparação de material composto, processo microeletrônico, optoeletrônico semicondutor, utilização de energia solar, comunicação de fibra ótica, tecnologia de supercondutor, campo de revestimento protetor.
Como é Que Um Forno Tubular Funciona?
Os elementos de aquecimento do forno tubular são colocados em torno da cavidade cilíndrica, o forno só pode aquecer as amostras na cavidade cilíndrica através de radiação térmica indireta, uma vez que o tubo do forno pode impedir que o material da amostra entre em contato com os elementos de aquecimento do forno e os materiais de isolamento, de modo que o forno tubular cria uma câmara de calor isolada e limpa e reduz os riscos de contaminação do material da amostra pelo forno.
Como é Que O Forno CVD Funciona?
O sistema de forno CVD consiste em uma unidade de forno de tubo de alta temperatura, unidade de controle preciso da fonte de gás reagente, estação de bomba de vácuo e peças de montagem correspondentes.
A bomba de vácuo é para remover o ar do tubo de reação e garantir que não haja gases indesejados dentro do tubo de reação, depois que o forno de tubo aquecerá o tubo de reação a uma temperatura alvo, então a unidade de controle preciso da fonte de gás reagente pode introduzir gases diferentes com uma proporção definida no tubo do forno para a reação química, a deposição de vapor químico será formada no forno CVD.
Qual é A Aplicação Do Forno Tubular?
O forno tubular é usado principalmente em metalurgia, vidro, tratamento térmico, ânodo de lítio e materiais catódicos, novas energias, abrasivos e outras indústrias, e é um equipamento profissional para medir materiais sob certas condições de temperatura.
O forno tubular apresenta estrutura simples, operação fácil, controle fácil e produção contínua.
O forno tubular também é amplamente aplicado nos sistemas CVD (deposição de vapor químico) e CVD aprimorado por plasma.
Que Gás é Utilizado No Processo CVD?
Existem tremendas fontes de gás que podem ser usadas no processo CVD, as reações químicas comuns do CVD incluem pirólise, fotólise, redução, oxidação, redox, de modo que os gases envolvidos nessas reações químicas podem ser usados no processo CVD.
Tomamos o crescimento de grafeno CVD como exemplo, os gases usados no processo CVD serão CH4, H2, O2 e N2.
Quantos Tipos Diferentes De Fornos Tubulares?
O forno tubular pode trabalhar com diferentes funções mecânicas sem problemas, por isso existem muitos tipos diferentes de variações de forno tubular para diferentes fins experimentais, os fornos típicos são os seguintes:
- Forno de tubo horizontal
- Forno de tubo vertical
- Forno de tubo dividido
- Forno de tubo rotativo
- Forno de tubo basculante
- Forno de tubo deslizante
- Forno de tubo de aquecimento e resfriamento rápido
- Forno de tubo de alimentação e descarga contínua
Qual é A Vantagem Do Sistema CVD?
- Pode ser produzida uma vasta gama de películas, películas metálicas, películas não metálicas e películas de ligas multicomponentes, conforme necessário. Ao mesmo tempo, pode preparar cristais de alta qualidade que são difíceis de obter por outros métodos, como GaN, BP, etc.
- A velocidade de formação da película é rápida, geralmente vários microns por minuto ou mesmo centenas de microns por minuto. É possível depositar simultaneamente grandes quantidades de revestimentos com composição uniforme, o que é incomparável com outros métodos de preparação de filmes, como epitaxia de fase líquida (LPE) e epitaxia de feixe molecular (MBE).
- As condições de trabalho são realizadas sob pressão normal ou condições de baixo vácuo, de modo que o revestimento tem boa difração, e as peças de trabalho com formas complexas podem ser uniformemente revestidas, o que é muito superior ao PVD.
- Devido à difusão mútua do gás de reação, do produto da reação e do substrato, pode obter-se um revestimento com boa força de adesão, o que é crucial para a preparação de películas reforçadas à superfície, tais como películas resistentes ao desgaste e anti-corrosão.
- Algumas películas crescem a uma temperatura muito inferior ao ponto de fusão do material da película. Sob a condição de crescimento a baixa temperatura, o gás de reação e a parede do reator e as impurezas contidas neles quase não reagem, de modo que um filme com alta pureza e boa cristalinidade pode ser obtido.
- A deposição química de vapor pode obter uma superfície de deposição lisa. Isso ocorre porque, em comparação com o LPE, a deposição de vapor químico (CVD) é realizada sob alta saturação, com alta taxa de nucleação, alta densidade de nucleação e distribuição uniforme em todo o plano, resultando em uma superfície lisa macroscópica. Ao mesmo tempo, na deposição de vapor químico, o caminho livre médio das moléculas (átomos) é muito maior do que o LPE, de modo que a distribuição espacial das moléculas é mais uniforme, o que favorece a formação de uma superfície de deposição lisa.
- Baixos danos por radiação, que é uma condição necessária para a fabricação de semicondutores de óxido metálico (MOS) e outros dispositivos
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular?
O Que Significa PECVD?
O PECVD é uma tecnologia que utiliza o plasma para ativar o gás de reação, promover a reação química na superfície do substrato ou no espaço próximo da superfície e gerar uma película sólida. O princípio básico da tecnologia de deposição de vapor químico de plasma é que, sob a ação do campo elétrico de RF ou DC, o gás de origem é ionizado para formar um plasma, o plasma de baixa temperatura é usado como fonte de energia, uma quantidade apropriada de gás de reação é introduzida e a descarga de plasma é usada para ativar o gás de reação e realizar a deposição de vapor químico.
De acordo com o método de geração de plasma, ele pode ser dividido em plasma de RF, plasma de DC e plasma de micro-ondas CVD, etc ...
Que Precauções De Segurança Devem Ser Tomadas Quando Se Utiliza Um Forno Tubular?
Qual é A Diferença Entre CVD E PECVD?
A diferença entre o PECVD e a tecnologia CVD tradicional é que o plasma contém um grande número de electrões de alta energia, que podem fornecer a energia de ativação necessária no processo de deposição de vapor químico, alterando assim o modo de fornecimento de energia do sistema de reação. Uma vez que a temperatura dos electrões no plasma é tão elevada como 10000K, a colisão entre os electrões e as moléculas de gás pode promover a quebra de ligações químicas e a recombinação das moléculas de gás de reação para gerar grupos químicos mais activos, enquanto todo o sistema de reação mantém uma temperatura mais baixa.
Assim, em comparação com o processo CVD, o PECVD pode realizar o mesmo processo de deposição química de vapor com uma temperatura mais baixa.
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