Quando se trata de depositar películas finas em substratos, existem dois métodos principais: a deposição química e a deposição física.
5 pontos-chave para compreender a diferença entre a deposição química e a deposição física
1. Métodos e processos
A deposição química envolve reacções químicas que consomem materiais antigos e produzem novas substâncias.
A deposição física utiliza meios físicos, como a transformação dos estados da substância (gasoso, sólido, líquido), sem produzir novas substâncias.
2. Deposição química
A deposição química, incluindo a deposição de vapor químico (CVD) e a deposição de camadas atómicas (ALD), utiliza substâncias precursoras misturadas com gases do material de origem.
Estes precursores são submetidos a reacções químicas que formam uma película fina sobre o substrato.
As reacções consomem materiais antigos e produzem novas substâncias que aderem ao substrato.
3. Deposição física
A deposição física, especificamente a deposição física de vapor (PVD), envolve técnicas de alta energia que vaporizam materiais sólidos no vácuo para deposição num material alvo.
Os métodos de PVD incluem a pulverização catódica e a evaporação.
Na pulverização catódica, os iões de plasma interagem com o material, fazendo com que os átomos sejam pulverizados sobre o substrato, formando uma película fina.
A evaporação envolve o aquecimento do material até este se transformar num vapor, que depois se condensa no substrato.
Ao contrário da deposição química, a deposição física não envolve a produção de novas substâncias; baseia-se apenas na transformação física do material de um estado para outro.
4. Comparação e impacto ambiental
Os métodos de deposição física são geralmente mais caros e demorados devido à necessidade de processos de vácuo.
No entanto, oferecem taxas de deposição elevadas e taxas de utilização de amostras elevadas.
A deposição química, embora potencialmente menos dispendiosa, envolve reacções químicas que podem levar à produção de novas substâncias e potencialmente mais poluição ambiental.
A deposição física de vapor é cada vez mais favorecida na atual sociedade ambientalmente consciente devido ao seu impacto mínimo na poluição.
5. Escolher o método correto
A escolha entre a deposição química e a deposição física depende dos requisitos específicos da aplicação, incluindo o custo, a eficiência e as considerações ambientais.
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