Produtos Equipamento térmico MPCVD Equipamento de Sistema de Máquina HFCVD para Revestimento de Nano-Diamante em Matriz de Trefilação
Alternar categorias
Equipamento de Sistema de Máquina HFCVD para Revestimento de Nano-Diamante em Matriz de Trefilação

MPCVD

Equipamento de Sistema de Máquina HFCVD para Revestimento de Nano-Diamante em Matriz de Trefilação

Número do item : MP-CVD-100

O preço varia com base em especificações e personalizações


ISO & CE icon

Envio:

Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite Garantia de envio dentro do prazo.

Orçar

Por Que Nos Escolher

Parceiro Confiável

Processo de pedido fácil, produtos de qualidade e suporte dedicado para o sucesso do seu negócio.

Processo Fácil Qualidade Garantida Suporte Dedicado

Aplicação

O princípio de funcionamento da deposição química em fase vapor de diamante HFCVD é: misturar uma atmosfera contendo carbono com hidrogênio supersaturado, ativá-la de uma certa maneira e, em seguida, passá-la através de uma certa composição atmosférica, energia de ativação, temperatura do substrato e a distância entre o substrato e a fonte de ativação, etc. Sob essas condições, um filme de diamante é depositado na superfície inferior. Geralmente acredita-se que a nucleação e o crescimento de filmes de diamante podem ser divididos em três estágios:

  1. Gás contendo carbono e gás de radônio decompõem-se em átomos de carbono, hidrogênio e outros grupos livres ativos a uma certa temperatura. Eles se combinam com a matriz para formar primeiro uma camada de transição de carbeto muito fina.
  2. Átomos de carbono depositam núcleos de diamante na camada de transição formada no substrato.
  3. O núcleo de cristal de diamante formado cresce em um microitem de diamante sob um ambiente adequado e, em seguida, cresce em um filme de diamante.

Detalhes e Peças

Cena de trabalho do equipamento HFCVD de revestimento de nano diamante em matriz de trefilação, detalhe plataforma de revestimento detalhe 01 plataforma de revestimento detalhe 02 matriz de trefilação revestida com nano diamante detalhe 01 matriz de trefilação revestida com nano diamante detalhe 02

Especificações Técnicas

Composição técnica HFCVD
Parâmetros Técnicos Composição do Equipamento Configuração do Sistema
Câmara de Vácuo: Diâmetro 500mm, Altura 550mm, câmara de aço inoxidável SUS304; isolamento interno de pele de aço inoxidável, altura de elevação é de 350mm; Um conjunto de corpo principal da câmara de vácuo (câmara de vácuo) (estrutura de resfriamento a água encamisada) Corpo principal da câmara de vácuo (câmara de vácuo); A cavidade é feita de aço inoxidável 304 de alta qualidade; Câmara de vácuo vertical: a jaqueta de resfriamento a água é instalada em toda a periferia da câmara de vácuo. A parede interna da câmara de vácuo é isolada com pele de aço inoxidável, e a câmara de vácuo é fixada na lateral. Posicionamento preciso e estável; Janela de observação: disposta horizontalmente no meio da câmara de vácuo Janela de observação de 200mm, resfriamento a água, defletor, configuração lateral e superior com ângulo de chanfro de 45 graus, janela de observação de 50° (observa o mesmo ponto da janela de observação horizontal e da plataforma de suporte da amostra); as duas janelas de observação mantêm a posição e o tamanho existentes. O fundo da câmara de vácuo fica 20mm acima do plano da bancada, com resfriamento configurado; os furos reservados no plano, como válvulas grandes, válvulas de purga, medição de pressão de ar, válvulas de bypass, etc., são selados com malha metálica e reservados para a instalação de interfaces de eletrodos;
Mesa do Equipamento: C1550* L900*A1100mm Um conjunto de dispositivo de mesa de arrasto de amostra (adotando acionamento de eixo duplo) Dispositivo de suporte de amostra: Suporte de amostra de aço inoxidável (resfriamento a água por soldagem) dispositivo de 6 posições; pode ser ajustado separadamente, apenas ajuste para cima e para baixo, a faixa de ajuste para cima e para baixo é de 25mm, e o balanço esquerdo e direito deve ser inferior a 3% ao subir e descer (ou seja, o balanço esquerdo e direito de subir ou descer 1mm é inferior a 0,03mm), e o estágio da amostra não gira ao subir ou descer.
Grau de vácuo final: 2,0×10-1Pa; Um conjunto de sistema de vácuo Sistema de vácuo: Configuração do sistema de vácuo: bomba mecânica + válvula de vácuo + válvula de purga física + tubo de exaustão principal + bypass; (fornecido pelo fornecedor da bomba de vácuo), a válvula de vácuo usa uma válvula pneumática; Medição do sistema de vácuo: Pressão de membrana.
Taxa de aumento de pressão: ≤5Pa/h; Sistema de fornecimento de gás com medidor de fluxo de massa de dois canais Sistema de fornecimento de gás: O medidor de fluxo de massa é configurado pela Parte B, entrada de ar bidirecional, o fluxo é controlado pelo medidor de fluxo de massa, após a junção dos dois canais, entra na câmara de vácuo por cima, e o interior do tubo de entrada de ar é de 50mm
Movimento da mesa da amostra: faixa de subida e descida é de ± 25m; é necessário um rácio de balanço esquerdo e direito ao subir e descer de ± 3%; Um conjunto de dispositivo de eletrodo (2 canais) Dispositivo de eletrodo: A direção longitudinal dos quatro furos de eletrodo é paralela à direção longitudinal da plataforma de suporte, e a direção longitudinal está voltada para a janela de observação principal com um diâmetro de 200mm.
Pressão de trabalho: usa manômetro de membrana, faixa de medição: 0 ~ 10kPa; funciona constantemente em 1kPa ~ 5kPa, a variação do valor de pressão constante é de mais ou menos 0,1kPa; Um conjunto de sistema de água de resfriamento Sistema de água de resfriamento: A câmara de vácuo, os eletrodos e a placa inferior estão equipados com tubulações de resfriamento por circulação de água e um dispositivo de alarme de fluxo de água insuficiente 3.7: sistema de controle. Interruptores, instrumentos, medidores e fonte de alimentação para elevação da câmara de vácuo, purga, bomba de vácuo, linha principal, bypass, alarme, fluxo, pressão de ar, etc. estão localizados na lateral do suporte e são controlados por uma tela sensível ao toque de 14 polegadas; o equipamento possui um programa de controle totalmente automático sem intervenção manual e pode armazenar dados e chamar dados.
Posição de entrada de ar: entrada de ar na parte superior da câmara de vácuo, e a posição da porta de exaustão está localizada diretamente abaixo do suporte da amostra; Sistema de controle
Sistema de Controle: Controlador PLC + tela sensível ao toque de 10 polegadas Um conjunto de sistema automático de controle de pressão (válvula de controle de pressão original importada da Alemanha)
Sistema de inflação: medidor de fluxo de massa de 2 canais, faixa de fluxo: 0-2000sccm e 0-200sccm; válvula pneumática Medidor de Vácuo de Resistência
3.1.10 Bomba de vácuo: bomba de vácuo D16C

Vantagens

A matriz de trefilação com revestimento composto de nano-diamante utiliza carboneto cimentado (WC-Co) como substrato e o método de deposição química em fase vapor (método CVD, em resumo) para revestir o diamante convencional e o revestimento composto de nano-diamante na superfície do furo interno da matriz. E um produto totalmente novo obtido após retificação e polimento do revestimento. O revestimento composto de nano-diamante aplicado na superfície do furo interno não só possui as características de forte adesão e resistência ao desgaste do revestimento de diamante convencional, mas também as vantagens de superfície plana e lisa do revestimento de nano-diamante, baixo coeficiente de atrito e fácil retificação e polimento. A tecnologia de revestimento não só resolve o problema técnico da adesão do revestimento, mas também rompe o gargalo de que a superfície do revestimento de diamante não é fácil de polir, e remove os obstáculos para a industrialização do filme de diamante CVD.

Tabela comparativa entre matriz de trefilação tradicional e revestida com nano diamante

Indicadores Técnicos

Matriz de trefilação tradicional

Matriz de trefilação revestida com nano diamante

Tamanho do Grão da Superfície de Revestimento

nenhum

20~80nm

Conteúdo de Diamante no Revestimento

nenhum

≥99%

Espessura do Revestimento de Diamante

nenhum

10 ~ 15mm

Rugosidade da Superfície

Ra≤0.1mm

Classe A: Ra≤0.1mm

Classe B: Ra≤0.05mm

Faixa de diâmetro do furo interno da matriz de trefilação revestida

Ф3 ~ Ф70mm

Ф3 ~ Ф70mm

Vida útil

A vida útil depende das condições de trabalho

6-10 vezes maior

Coeficiente de atrito superficial

0.8

0.1

  • Para o paralelismo e retilinidade da plataforma de elevação da matriz do equipamento, nossa empresa produziu especialmente ferramentas especiais. O método de elevação biaxial é suficiente para permitir que as duas extremidades sejam elevadas e abaixadas em cerca de ±2 fios, de modo que matrizes menores possam ser feitas.
  • Para as ferramentas do equipamento, nossa empresa integra a localização de cada empresa nas ferramentas, visando as ferramentas e o processo da matriz. Boas ferramentas e fixação, estáveis e confiáveis, alta precisão, fáceis de operar.
  • Para a válvula de corte do equipamento, outros fabricantes usam válvulas de defletor, que não podem ser ajustadas linearmente (ou seja, a folga aumenta rapidamente assim que é aberta). Nossa empresa a projeta de acordo com o princípio da válvula de corte e controle de pressão estável, de modo que a folga de corte possa ser ajustada linearmente para alcançar um controle de pressão estável;
  • O sistema de controle totalmente automático controla automaticamente a pressão de acordo com algoritmos de computador; pode reduzir a aleatoriedade do operador e tornar o processo mais confidencial. Economiza mão de obra e a consistência da qualidade da matriz de especificações iguais é mais ideal;
  • Para a estabilidade da câmara de vácuo de elevação, nossa empresa usa rolamentos autolubrificantes, que tornam a rotação mais flexível e livre de travamentos. Processo básico, o revestimento de diamante pode ser feito de acordo com o processo de revestimento de diamante de cada cliente.

Avisos

A segurança do operador é a questão mais importante! Por favor, opere o equipamento com cautelas. Trabalhar com gases inflamáveis, explosivos ou tóxicos é muito perigoso, os operadores devem tomar todas as precauções necessárias antes de iniciar o equipamento. Trabalhar com pressão positiva dentro dos reactores ou câmaras é perigoso, o operador deve seguir rigorosamente os procedimentos de segurança. Extra também deve ser tido cuidado ao operar com materiais reativos ao ar, especialmente sob vácuo. Uma fuga pode aspirar ar para dentro do aparelho e provocar ocorrer uma reação violenta.

Desenhado para si

A KinTek fornece serviços e equipamentos personalizados a clientes em todo o mundo, o nosso trabalho em equipa especializado e engenheiros experientes são capazes de realizar os requisitos de equipamento de hardware e software de alfaiataria personalizada, e ajudar o nosso cliente a construir equipamentos e equipamentos exclusivos e personalizados solução!

Por favor, deixe as suas ideias para nós, os nossos engenheiros estão prontos para si agora!

Veja mais perguntas frequentes sobre este produto

4.8

out of

5

The HFCVD Equipment is a game-changer in diamond coating technology. It's efficient, precise, and delivers superior results. Highly recommended!

Munetaka Takeda

4.9

out of

5

I'm thoroughly impressed with the quality and performance of the HFCVD Equipment. It has significantly improved our diamond coating process, resulting in exceptional results. A must-have for any lab!

Dr. Carla Rodriguez

4.7

out of

5

The HFCVD Equipment has exceeded my expectations. It's user-friendly, reliable, and produces high-quality diamond coatings consistently. A valuable addition to our laboratory.

Eng. Valentina Ivanova

4.9

out of

5

The HFCVD Equipment is a technological marvel. It has revolutionized our diamond coating research, enabling us to achieve remarkable results. Highly recommended for advanced materials research.

Prof. Olivier Dubois

4.8

out of

5

The HFCVD Equipment has transformed our laboratory's capabilities. It delivers exceptional diamond coatings with remarkable precision and efficiency. A valuable investment for any research institution.

Dr. Maria Fernandez

4.7

out of

5

I'm highly satisfied with the HFCVD Equipment. It has significantly improved our diamond coating process, resulting in enhanced product quality and reduced production time. Highly recommended!

Eng. Carlos Oliveira

4.9

out of

5

The HFCVD Equipment is a testament to cutting-edge technology. It has enabled us to achieve unprecedented results in diamond coating, opening up new possibilities for research and innovation.

Prof. Ahmed Hassan

4.8

out of

5

The HFCVD Equipment has proven to be an invaluable asset to our laboratory. It delivers consistent, high-quality diamond coatings, making it an essential tool for our research.

Dr. Svetlana Petrova

4.7

out of

5

I'm thoroughly impressed with the HFCVD Equipment. It's user-friendly, efficient, and produces exceptional diamond coatings. A must-have for any laboratory involved in materials research.

Eng. Juan Garcia

4.9

out of

5

The HFCVD Equipment is a remarkable piece of technology. It has enabled us to achieve breakthrough results in diamond coating, pushing the boundaries of materials science.

Prof. Li Wei

Produtos

Equipamento de Sistema de Máquina HFCVD para Revestimento de Nano-Diamante em Matriz de Trefilação

PDF Formato Catálogo
Baixar

Categoria

Mpcvd

PDF Formato Catálogo
Baixar

SOLICITAR UM ORÇAMENTO

Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!

Produtos relacionados

Sistema Reator de Deposição Química em Fase Vapor por Plasma de Micro-ondas MPCVD para Laboratório e Crescimento de Diamante

Sistema Reator de Deposição Química em Fase Vapor por Plasma de Micro-ondas MPCVD para Laboratório e Crescimento de Diamante

Obtenha filmes de diamante de alta qualidade com nossa máquina MPCVD com Ressonador de Sino, projetada para laboratório e crescimento de diamante. Descubra como a Deposição Química em Fase Vapor por Plasma de Micro-ondas funciona para o crescimento de diamantes usando gás de carbono e plasma.

Máquina de Forno de Tubo CVD com Múltiplas Zonas de Aquecimento, Sistema de Câmara de Deposição Química a Vapor

Máquina de Forno de Tubo CVD com Múltiplas Zonas de Aquecimento, Sistema de Câmara de Deposição Química a Vapor

Forno CVD de Múltiplas Zonas KT-CTF14 - Controle Preciso de Temperatura e Fluxo de Gás para Aplicações Avançadas. Temperatura máx. até 1200℃, medidor de fluxo de massa MFC de 4 canais e controlador de tela sensível ao toque TFT de 7".

Instrumento de peneiramento eletromagnético tridimensional

Instrumento de peneiramento eletromagnético tridimensional

O KT-VT150 é um instrumento de processamento de amostras de bancada para peneiramento e moagem. A moagem e o peneiramento podem ser usados a seco e a úmido. A amplitude de vibração é de 5 mm e a frequência de vibração é de 3000-3600 vezes/min.

Molde de Prensagem Anti-Rachadura para Uso em Laboratório

Molde de Prensagem Anti-Rachadura para Uso em Laboratório

O molde de prensagem anti-rachadura é um equipamento especializado projetado para moldar várias formas e tamanhos de filmes usando alta pressão e aquecimento elétrico.

Pequena Máquina de Moldagem por Injeção para Uso em Laboratório

Pequena Máquina de Moldagem por Injeção para Uso em Laboratório

A pequena máquina de moldagem por injeção possui movimentos rápidos e estáveis; boa controlabilidade e repetibilidade, super economia de energia; o produto pode ser dispensado e formado automaticamente; o corpo da máquina é baixo, conveniente para alimentação, fácil de manter e sem restrições de altura no local de instalação.

Artigos relacionados

Dominando os medidores de espessura de revestimento portáteis: Um Guia Abrangente para Aplicações Industriais e Automotivas

Dominando os medidores de espessura de revestimento portáteis: Um Guia Abrangente para Aplicações Industriais e Automotivas

Explore os meandros dos medidores de espessura de revestimento portáteis, as suas aplicações em galvanoplastia, pintura automóvel e revestimentos em pó. Saiba como escolher e utilizar estes instrumentos de forma eficaz para controlo de qualidade e eficiência de custos.

Descubra mais
Introdução à deposição química de vapor (CVD)

Introdução à deposição química de vapor (CVD)

A deposição de vapor químico, ou CVD, é um processo de revestimento que envolve a utilização de reagentes gasosos para produzir películas finas e revestimentos de alta qualidade.

Descubra mais
Vantagens e Desvantagens da Deposição Química de Vapor (CVD)

Vantagens e Desvantagens da Deposição Química de Vapor (CVD)

A deposição de vapor químico (CVD) é uma técnica versátil de deposição de película fina amplamente utilizada em vários sectores. Explore as suas vantagens, desvantagens e potenciais novas aplicações.

Descubra mais
O processo de fabricação de um diamante CVD pela máquina MPCVD

O processo de fabricação de um diamante CVD pela máquina MPCVD

As máquinas de diamante CVD ganharam uma importância significativa em várias indústrias e na investigação científica.

Descubra mais
Medidores de espessura de revestimento portáteis: Medição precisa para galvanoplastia e revestimentos industriais

Medidores de espessura de revestimento portáteis: Medição precisa para galvanoplastia e revestimentos industriais

Descubra as melhores práticas e tecnologias para medir a espessura do revestimento usando medidores portáteis. Ideal para galvanoplastia, pintura automóvel e revestimentos em pó.

Descubra mais
Forno CVD para o crescimento de nanotubos de carbono

Forno CVD para o crescimento de nanotubos de carbono

A tecnologia de forno de deposição de vapor químico (CVD) é um método amplamente utilizado para o crescimento de nanotubos de carbono.

Descubra mais
Deposição de vapor químico enriquecida com plasma (PECVD): Um guia completo

Deposição de vapor químico enriquecida com plasma (PECVD): Um guia completo

Aprenda tudo o que precisa de saber sobre a Deposição de Vapor Químico Melhorada por Plasma (PECVD), uma técnica de deposição de película fina utilizada na indústria de semicondutores. Explore os seus princípios, aplicações e benefícios.

Descubra mais
Compreender a PECVD: Um Guia para Deposição de Vapor Químico Melhorado por Plasma

Compreender a PECVD: Um Guia para Deposição de Vapor Químico Melhorado por Plasma

A PECVD é uma técnica útil para criar revestimentos de película fina porque permite a deposição de uma grande variedade de materiais, incluindo óxidos, nitretos e carbonetos.

Descubra mais
Comparação do desempenho de PECVD e HPCVD em aplicações de revestimento

Comparação do desempenho de PECVD e HPCVD em aplicações de revestimento

Embora tanto o PECVD como o HFCVD sejam utilizados para aplicações de revestimento, diferem em termos de métodos de deposição, desempenho e adequação a aplicações específicas.

Descubra mais
Máquinas CVD para deposição de película fina

Máquinas CVD para deposição de película fina

A deposição química em fase vapor (CVD) é uma técnica amplamente utilizada para a deposição de películas finas em vários substratos.

Descubra mais
Deposição química em fase vapor (CVD) de grafeno Desafios e soluções

Deposição química em fase vapor (CVD) de grafeno Desafios e soluções

A deposição química em fase vapor (CVD) é um método amplamente adotado para a produção de grafeno de alta qualidade.

Descubra mais
Entendendo a máquina de diamante CVD e como ela funciona

Entendendo a máquina de diamante CVD e como ela funciona

O processo de criação de diamantes por CVD (Chemical Vapor Deposition) envolve a deposição de átomos de carbono sobre um substrato através de uma reação química em fase gasosa. O processo começa com a seleção de uma semente de diamante de alta qualidade, que é depois colocada numa câmara de crescimento juntamente com uma mistura de gás rica em carbono.

Descubra mais