MPCVD
Máquina de Diamante MPCVD 915MHz
Número do item : MP-CVD-101
O preço varia com base em specs and customizations
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A Máquina de Diamante MPCVD é uma tecnologia revolucionária que utiliza a Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas (MPCVD) para sintetizar diamantes. Este método avançado permite um crescimento mais rápido dos cristais, maior capacidade de produção e melhor qualidade dos diamantes em comparação com as técnicas tradicionais.
A Máquina de Diamante MPCVD permite um controlo preciso da potência de micro-ondas e da temperatura da reação, eliminando os problemas enfrentados noutros métodos CVD. Através da otimização do desenho da câmara de reação e dos parâmetros do processo, consegue-se uma descarga de plasma estável, crucial para a produção de diamantes monocristalinos de alta qualidade e tamanho grande.
A versatilidade da Máquina de Diamante MPCVD se estende à sua capacidade de criar diamantes em várias cores, incluindo branco, amarelo, rosa e azul. Além disso, ela oferece uma produção personalizada para atender às demandas específicas do mercado.
Aplicações
As máquinas de diamante MPCVD são amplamente utilizadas em várias indústrias devido às propriedades únicas dos diamantes, como a sua dureza, rigidez, alta condutividade térmica, baixa expansão térmica, dureza à radiação e inércia química. Aqui estão algumas das principais áreas de aplicação das máquinas de diamante MPCVD:
- Pedras preciosas de diamante: O MPCVD é o principal equipamento utilizado para produzir pedras preciosas de diamante de alta qualidade e de grandes dimensões.
- Filmes de diamante: O MPCVD é usado para produzir filmes de diamante para uma variedade de aplicações, incluindo substratos de diamante de grandes dimensões para a indústria de semicondutores e ferramentas de corte ou perfuração de diamante.
- Aplicações industriais: O MPCVD é utilizado para produzir revestimentos de diamante para ferramentas de corte, brocas e outras aplicações industriais em que são necessárias dureza e durabilidade extremas.
- Aplicações biomédicas: O MPCVD é utilizado para produzir revestimentos de diamante para implantes médicos, tais como articulações artificiais e implantes dentários, onde a biocompatibilidade e a durabilidade são essenciais.
- Optoelectrónica: O MPCVD é utilizado para produzir janelas e substratos de diamante para dispositivos optoelectrónicos, como lasers e detectores de alta potência, em que a elevada condutividade térmica e a baixa expansão térmica são essenciais.
Detalhes e peças
Princípio
A deposição de vapor químico por plasma de micro-ondas (MPCVD) é um processo de deposição de vapor químico que utiliza uma fonte de micro-ondas contínua para gerar e manter um plasma altamente reativo composto por produtos químicos reactivos e catalisadores essenciais. O MPCVD é amplamente utilizado para depositar camadas de diamante - o metano e o hidrogénio são introduzidos e utilizados para cultivar um novo diamante num substrato semeado com diamante.
Características
A máquina de diamante MPCVD apresenta várias vantagens que beneficiam os clientes:
- Velocidade mais rápida de crescimento de cristais: 10-100 vezes mais rápida do que os métodos tradicionais, resultando numa maior eficiência de produção.
- Maior capacidade de produção: Permite maior capacidade de produção num único lote, permitindo a síntese de diamantes em grande escala.
- Desempenho de qualidade superior: Produz diamantes com maior dureza e resistência do que os diamantes naturais, garantindo durabilidade e longevidade.
- Cores mais diversificadas: Suporta a produção de diamantes em uma variedade de cores, incluindo branco, amarelo, rosa e azul, atendendo a diversas demandas do mercado.
- Maior pureza do diamante: Produz diamantes com maior pureza do que o diamante natural Tipo II, garantindo propriedades ópticas excepcionais e adequação a várias aplicações.
- Personalização de vários estilos: Oferece designs personalizáveis para satisfazer os requisitos específicos do mercado, fornecendo soluções à medida para diferentes indústrias.
Especificações técnicas
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Sistema de micro-ondas (de acordo com a fonte de alimentação opcional) |
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Sistema de vácuo e câmara de reação |
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Sistema de suporte de amostras |
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Sistema de gás |
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Arrefecimento do sistema |
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Método de medição da temperatura |
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SL901A Lista de peças-chave do equipamento
| Número de série | Nome do módulo | Observações |
|---|---|---|
| 1 | Fonte de alimentação de micro-ondas | Magnetrão doméstico padrão: Yingjie Electric / Fonte de alimentação distinta Fonte doméstica de estado sólido: Watson (+30.000) Magnetrão importado: MKS/ pastoral (+100.000) |
| 2 | Guia de onda, três pinos, conversor de modo, ressonador superior | Fabricação própria |
| 3 | Câmara de reação em vácuo (câmara superior, câmara inferior, conectores) | De fabrico próprio |
| 4 | Termómetros de infravermelhos, componentes de deslocamento ótico, suportes | Termómetros de infravermelhos, componentes de deslocamento ótico, suportes Fuji Gold Siemens + Schneider |
| 5 | Componentes de movimento de mesa arrefecidos a água (cilindros, peças, etc.) | |
| 6 | Medidor de vácuo de película fina de cerâmica, medidor de vácuo Pirani | Inficon |
| 7 | Componentes de válvulas de vácuo (válvula de ultra-alto vácuo, válvula pneumática de precisão*2, válvula diferencial de carga de vácuo electromagnética) | Fujikin + Zhongke + Himat |
| 8 | Bomba de vácuo e acessórios para tubos de ligação, T, foles KF25*2, adaptador | Bomba: Flyover 16L |
| 9 | Anel de vedação metálico para micro-ondas*2; anel de vedação metálico para vácuo*1; placa de quartzo | Quartzo: Shanghai Feilihua Quartzo de alta pureza para semicondutores |
| 10 | Componentes de circulação de água (juntas, blocos de desvio, detectores de fluxo) | SMC/CKD japonês |
| 11 | Componentes pneumáticos (filtro CKD, válvula solenoide multidirecional airtac, acessórios para tubos e adaptadores) | |
| 12 | Conector de gás, tubo de gás EP, conetor VCR, filtro 0,0023μm *1, filtro 10μm*2 | Fujikin |
| 13 | Caixa da máquina, mesa de aço inoxidável, rodas universais, pés, parafusos de fixação do suporte, etc | processamento personalizado |
| 14 | Medidor de fluxo de gás*6 (incluindo um controlo de pressão) | Standard sete estrelas, opcional Fuji Gold (+34.000) / Alicat (42.000) |
| 15 | Processamento de placas de gás (gás de 5 vias, filtro*5, válvula pneumática*5, válvula manual*6, soldadura de condutas) | Fuji Gold |
| 16 | Controlo automático PLC | Siemens + Schneider |
| 17 | Mesa de molibdénio | |
Vantagens
- Velocidade de crescimento de cristais mais rápida - 10-100 vezes mais rápida do que os métodos tradicionais
- Maior capacidade de produção - maior capacidade de produção num único lote
- Desempenho de qualidade superior - maior dureza e resistência do que os diamantes naturais
- Cores mais diversificadas - branco, amarelo, rosa, azul, etc.
- Maior pureza do diamante - mais puro do que o tipo de diamante natural
- A personalização de vários estilos pode ser personalizada de acordo com diferentes mercados
FAQ
O que é o forno CVD?
A deposição química de vapor (CVD) é uma tecnologia que utiliza várias fontes de energia, como aquecimento, excitação de plasma ou radiação de luz para reagir quimicamente substâncias químicas gasosas ou de vapor na fase gasosa ou na interface gás-sólido para formar depósitos sólidos no reator por meio de reação química. simplificando, duas ou mais matérias-primas gasosas são introduzidas em uma câmara de reação e, em seguida, reagem entre si para formar um novo material e depositá-lo na superfície do substrato.
O forno CVD é um sistema de forno combinado com unidade de forno tubular de alta temperatura, unidade de controle de gases e unidade de vácuo, é amplamente utilizado para experimentos e produção de preparação de material composto, processo microeletrônico, optoeletrônico semicondutor, utilização de energia solar, comunicação de fibra ótica, tecnologia de supercondutor, campo de revestimento protetor.
Como é que o forno CVD funciona?
O sistema de forno CVD consiste em uma unidade de forno de tubo de alta temperatura, unidade de controle preciso da fonte de gás reagente, estação de bomba de vácuo e peças de montagem correspondentes.
A bomba de vácuo é para remover o ar do tubo de reação e garantir que não haja gases indesejados dentro do tubo de reação, depois que o forno de tubo aquecerá o tubo de reação a uma temperatura alvo, então a unidade de controle preciso da fonte de gás reagente pode introduzir gases diferentes com uma proporção definida no tubo do forno para a reação química, a deposição de vapor químico será formada no forno CVD.
O que é o Mpcvd?
O que é a máquina de diamante CVD?
Que tipos de máquinas de crescimento de diamantes estão disponíveis?
Qual é o princípio básico da CVD?
Quais são os métodos utilizados para depositar películas finas?
Que gás é utilizado no processo CVD?
Existem tremendas fontes de gás que podem ser usadas no processo CVD, as reações químicas comuns do CVD incluem pirólise, fotólise, redução, oxidação, redox, de modo que os gases envolvidos nessas reações químicas podem ser usados no processo CVD.
Tomamos o crescimento de grafeno CVD como exemplo, os gases usados no processo CVD serão CH4, H2, O2 e N2.
O que é a máquina Mpcvd?
Como é que uma máquina de diamante CVD funciona?
Quais são as vantagens dos diamantes cultivados em laboratório?
Quais são os diferentes tipos de métodos CVD?
O que é o equipamento de deposição de película fina?
Qual é a vantagem do sistema CVD?
- Pode ser produzida uma vasta gama de películas, películas metálicas, películas não metálicas e películas de ligas multicomponentes, conforme necessário. Ao mesmo tempo, pode preparar cristais de alta qualidade que são difíceis de obter por outros métodos, como GaN, BP, etc.
- A velocidade de formação da película é rápida, geralmente vários microns por minuto ou mesmo centenas de microns por minuto. É possível depositar simultaneamente grandes quantidades de revestimentos com composição uniforme, o que é incomparável com outros métodos de preparação de filmes, como epitaxia de fase líquida (LPE) e epitaxia de feixe molecular (MBE).
- As condições de trabalho são realizadas sob pressão normal ou condições de baixo vácuo, de modo que o revestimento tem boa difração, e as peças de trabalho com formas complexas podem ser uniformemente revestidas, o que é muito superior ao PVD.
- Devido à difusão mútua do gás de reação, do produto da reação e do substrato, pode obter-se um revestimento com boa força de adesão, o que é crucial para a preparação de películas reforçadas à superfície, tais como películas resistentes ao desgaste e anti-corrosão.
- Algumas películas crescem a uma temperatura muito inferior ao ponto de fusão do material da película. Sob a condição de crescimento a baixa temperatura, o gás de reação e a parede do reator e as impurezas contidas neles quase não reagem, de modo que um filme com alta pureza e boa cristalinidade pode ser obtido.
- A deposição química de vapor pode obter uma superfície de deposição lisa. Isso ocorre porque, em comparação com o LPE, a deposição de vapor químico (CVD) é realizada sob alta saturação, com alta taxa de nucleação, alta densidade de nucleação e distribuição uniforme em todo o plano, resultando em uma superfície lisa macroscópica. Ao mesmo tempo, na deposição de vapor químico, o caminho livre médio das moléculas (átomos) é muito maior do que o LPE, de modo que a distribuição espacial das moléculas é mais uniforme, o que favorece a formação de uma superfície de deposição lisa.
- Baixos danos por radiação, que é uma condição necessária para a fabricação de semicondutores de óxido metálico (MOS) e outros dispositivos
Quais são as vantagens do Mpcvd?
Quais são as vantagens de utilizar máquinas de diamante CVD?
Qual é o preço da máquina de produção de diamantes CVD?
Quais são as vantagens da utilização de máquinas de deposição química de vapor?
O que é a tecnologia de deposição de película fina?
O que significa PECVD?
O PECVD é uma tecnologia que utiliza o plasma para ativar o gás de reação, promover a reação química na superfície do substrato ou no espaço próximo da superfície e gerar uma película sólida. O princípio básico da tecnologia de deposição de vapor químico de plasma é que, sob a ação do campo elétrico de RF ou DC, o gás de origem é ionizado para formar um plasma, o plasma de baixa temperatura é usado como fonte de energia, uma quantidade apropriada de gás de reação é introduzida e a descarga de plasma é usada para ativar o gás de reação e realizar a deposição de vapor químico.
De acordo com o método de geração de plasma, ele pode ser dividido em plasma de RF, plasma de DC e plasma de micro-ondas CVD, etc ...
Os diamantes CVD são reais ou falsos?
Que considerações devem ser feitas ao selecionar uma máquina de diamante CVD?
Quais são as aplicações das máquinas de deposição química de vapor?
Quais são as vantagens da utilização de equipamento de deposição de películas finas?
Qual é a diferença entre CVD e PECVD?
A diferença entre o PECVD e a tecnologia CVD tradicional é que o plasma contém um grande número de electrões de alta energia, que podem fornecer a energia de ativação necessária no processo de deposição de vapor químico, alterando assim o modo de fornecimento de energia do sistema de reação. Uma vez que a temperatura dos electrões no plasma é tão elevada como 10000K, a colisão entre os electrões e as moléculas de gás pode promover a quebra de ligações químicas e a recombinação das moléculas de gás de reação para gerar grupos químicos mais activos, enquanto todo o sistema de reação mantém uma temperatura mais baixa.
Assim, em comparação com o processo CVD, o PECVD pode realizar o mesmo processo de deposição química de vapor com uma temperatura mais baixa.
Quais são as aplicações comuns dos diamantes produzidos pelas máquinas de diamante CVD?
Que factores devem ser considerados na seleção de uma máquina de deposição de vapor químico?
Que factores devem ser considerados na seleção do equipamento de deposição de película fina?
As máquinas de deposição química de vapor podem ser utilizadas para a deposição de películas finas com várias camadas?
Que considerações de segurança estão associadas à operação de equipamentos de deposição de película fina?
4.8
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5
I'm marvelled by the MPCVD machine's ability to produce high-purity diamonds with minimal energy consumption.
4.9
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5
The MPCVD machine has revolutionized diamond synthesis, enabling the production of larger diamonds with exceptional quality.
4.7
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5
I highly recommend the MPCVD machine for its durability and cost-effectiveness. It's a game-changer in diamond synthesis.
4.6
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The MPCVD machine is user-friendly and requires minimal maintenance. It's a valuable asset for any laboratory.
4.8
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5
The MPCVD machine has enabled us to produce high-quality diamonds for various industrial applications. It's a reliable and efficient machine.
4.9
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The MPCVD machine's ability to adjust microwave power and control reaction temperature precisely is remarkable. It ensures consistent and high-quality diamond synthesis.
4.7
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5
The MPCVD machine stands out with its large-area stable discharge plasma, which enables the production of high-quality, large-sized single crystal diamonds.
4.6
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5
I'm thoroughly impressed with the MPCVD machine's ability to avoid contamination and produce purer diamonds compared to traditional methods.
4.8
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5
The MPCVD machine is an excellent choice for laboratories seeking to produce high-quality diamonds for research and industrial applications.
4.9
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5
The MPCVD machine has exceeded our expectations. It's a valuable addition to our laboratory, enabling us to produce diamonds with remarkable properties.
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