A pulverização catódica por magnetrão é um processo de revestimento versátil utilizado para depositar películas finas de vários materiais, normalmente com uma espessura que varia entre alguns nanómetros e um máximo de 5 micrómetros. Este processo é altamente preciso, permitindo uma uniformidade de espessura com variações inferiores a 2% ao longo do substrato.
Explicação pormenorizada:
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Visão geral do processo:
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A pulverização catódica por magnetrão envolve a utilização de um material alvo (como metais, ligas ou compostos) que é bombardeado com iões energéticos de gases inertes como o árgon ou o hélio. Este bombardeamento ejecta átomos do alvo, que depois se depositam num substrato, formando uma película fina. O processo é conduzido em vácuo para garantir a deposição eficiente de materiais sem contaminação.Controlo da espessura:
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A espessura da película depositada pode ser controlada com precisão através de vários parâmetros, como a tensão de pulverização catódica, a corrente e a taxa de deposição. Por exemplo, num revestidor de pulverização catódica magnetrónica moderno típico, a taxa de deposição pode variar entre 0 e 25 nm/min, permitindo a criação de películas tão finas como 10 nm com uma excelente granulometria e um aumento mínimo da temperatura. Este nível de controlo garante que o revestimento é uniforme e adere bem ao substrato.
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Aplicações e materiais:
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O processo é utilizado em várias indústrias para criar revestimentos com propriedades específicas, tais como resistência ao desgaste, baixa fricção, resistência à corrosão e propriedades ópticas ou eléctricas específicas. Os materiais mais comuns utilizados na pulverização catódica por magnetrão incluem a prata, o cobre, o titânio e vários nitretos. Estes materiais são seleccionados com base nas propriedades funcionais pretendidas para o revestimento final.Uniformidade e precisão:
Uma das vantagens significativas da pulverização catódica por magnetrões é a sua capacidade de obter uma elevada uniformidade na espessura da película. Isto é crucial para aplicações em que é necessário um controlo preciso da espessura, como na eletrónica ou na ótica. O processo pode manter as variações de espessura abaixo de 2%, garantindo um desempenho consistente em toda a superfície revestida.
Utilização comercial e industrial:
