O processo de pulverização catódica de metal envolve as seguintes etapas:
1. É criado um campo elétrico elevado em torno do material de origem ou do alvo de interesse. Este campo elétrico cria um plasma.
2. O gás inerte, como o néon, o árgon ou o crípton, é dirigido para uma câmara de vácuo que contém o material de revestimento do alvo e o substrato.
3. Uma fonte de energia envia uma onda energética através do gás para ionizar os átomos de gás, dando-lhes uma carga positiva.
4. O material alvo carregado negativamente atrai os iões positivos. Ocorre uma colisão, na qual os iões positivos deslocam os átomos do alvo.
5. Os átomos do alvo deslocados partem-se num jato de partículas que "pulverizam" e atravessam a câmara de vácuo.
6. Estas partículas pulverizadas aterram no substrato, depositando-se como um revestimento de película fina.
A taxa de pulverização catódica depende de vários factores, incluindo a corrente, a energia do feixe e as propriedades físicas do material alvo.
A pulverização catódica é um processo físico em que os átomos de um alvo em estado sólido são libertados e passam para a fase gasosa por bombardeamento com iões energéticos, principalmente iões de gases nobres. É normalmente utilizado para a deposição por pulverização catódica, uma técnica de revestimento baseada no alto vácuo, e para a preparação de superfícies de elevada pureza e análise da composição química da superfície.
Na pulverização catódica por magnetrão, é introduzido um fluxo controlado de gás, normalmente árgon, numa câmara de vácuo. Um cátodo eletricamente carregado, a superfície do alvo, atrai os átomos do alvo para o plasma. As colisões no interior do plasma fazem com que os iões energéticos desalojem moléculas do material, que atravessam a câmara de vácuo e revestem o substrato para criar uma película fina.
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