Conhecimento O que é o processo de Sputtering Metal? 7 etapas principais explicadas
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Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 2 meses

O que é o processo de Sputtering Metal? 7 etapas principais explicadas

A pulverização catódica de metal é um processo complexo que envolve várias etapas críticas.

Explicação das 7 etapas principais

O que é o processo de Sputtering Metal? 7 etapas principais explicadas

1. Criação de um campo elétrico elevado

É criado um campo elétrico elevado à volta do material de origem ou do alvo de interesse.

2. Formação de um plasma

Este campo elétrico ajuda a criar um plasma.

3. Introdução de gás inerte

O gás inerte, como o néon, o árgon ou o crípton, é dirigido para uma câmara de vácuo que contém o material de revestimento alvo e o substrato.

4. Ionização dos átomos de gás

Uma fonte de energia envia uma onda energética através do gás para ionizar os átomos de gás, dando-lhes uma carga positiva.

5. Atração de iões positivos

O material alvo carregado negativamente atrai os iões positivos.

6. Colisão e deslocamento

Ocorre uma colisão, na qual os iões positivos deslocam os átomos do alvo.

7. Sputtering e deposição

Os átomos do alvo deslocados dividem-se numa pulverização de partículas que "pulverizam" e atravessam a câmara de vácuo. Estas partículas pulverizadas aterram no substrato, depositando-se como um revestimento de película fina.

A taxa de pulverização depende de vários factores, incluindo a corrente, a energia do feixe e as propriedades físicas do material alvo.

A pulverização catódica é um processo físico em que os átomos de um alvo em estado sólido são libertados e passam para a fase gasosa por bombardeamento com iões energéticos, principalmente iões de gases nobres.

É normalmente utilizado para a deposição por pulverização catódica, uma técnica de revestimento baseada no alto vácuo, e para a preparação de superfícies de elevada pureza e análise da composição química da superfície.

Na pulverização catódica por magnetrão, é introduzido um fluxo controlado de gás, normalmente árgon, numa câmara de vácuo.

Um cátodo eletricamente carregado, a superfície do alvo, atrai os átomos do alvo para o plasma.

As colisões no interior do plasma fazem com que os iões energéticos desalojem moléculas do material, que depois atravessam a câmara de vácuo e revestem o substrato para criar uma película fina.

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