Forno de vácuo
2200 ℃ Forno de vácuo de grafite
Número do item : KT-VG
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura máxima
- 2200 ℃
- Temperatura de trabalho constante
- 2100 ℃
- Taxa de aquecimento
- 0-10 ℃/min
- Volume efetivo
- 12-150 L
Envio:
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O forno a vácuo de grafite 2200 ℃ é um forno de alta temperatura que utiliza feltro de grafite como material de isolamento térmico e hastes resistentes a grafite como elemento de aquecimento. Ele pode atingir uma temperatura máxima de trabalho de até 2200 ℃, tornando-o ideal para sinterização por reação a vácuo de vários materiais, como liga de tungstênio, carboneto de silício, liga de molibdênio, liga de titânio, carboneto cimentado e materiais de carbono.
O forno apresenta um desempenho de vácuo elevado, com um nível de vácuo máximo de até 6*10-3Pa, e não produz gases a alta temperatura. Também tem um excelente desempenho de manutenção da pressão de vácuo, com uma taxa de aumento da pressão de vácuo de 0,67Pa/h.
As características de segurança do forno incluem proteção contra sobrecorrente e função de alarme de sobretemperatura, com desligamento automático. Tem também uma função de deteção de par térmico incorporada, com paragem automática do aquecimento e alarme em caso de rutura ou deteção de falha.
Aplicações
O forno de vácuo de grafite KT-VG é um forno de alta temperatura excecional que é amplamente utilizado em várias indústrias para o tratamento a alta temperatura de materiais num ambiente de vácuo ou atmosfera protetora. Aqui estão algumas das suas principais áreas de aplicação:
- Sinterização por reação em vácuo de vários materiais, tais como liga de tungsténio, carboneto de silício, liga de molibdénio, liga de titânio, carboneto cimentado e materiais de carbono
- Brasagem e soldadura a alta temperatura
- Recozimento e tratamento térmico de metais e ligas
- Desbaste e sinterização de materiais cerâmicos
- Crescimento de cristais
- Revestimento e deposição em vácuo
- Investigação e desenvolvimento de novos materiais
Características
O forno de grafite a vácuo do tipo horizontal é um forno de alto desempenho ideal para aplicações de sinterização a vácuo e em atmosfera controlada. Com as suas características e capacidades avançadas, este forno oferece inúmeras vantagens aos utilizadores, incluindo
- Temperatura de trabalho super alta: ** Capaz de atingir temperaturas de até 2200 ℃, tornando-o adequado para o tratamento de alta temperatura de vários materiais.
- Alto desempenho de vácuo:** Atinge um nível máximo de vácuo de até 6 * 10-3Pa, garantindo um ambiente limpo e controlado para o processamento de materiais.
- Excelente desempenho de manutenção da pressão de vácuo:** Mantém um ambiente de vácuo estável com uma taxa de aumento de pressão de apenas 0,67Pa/h, evitando a contaminação e garantindo a integridade do processo.
- Design de camada dupla do corpo do invólucro de vácuo:** Possui um revestimento de camada dupla para arrefecimento rápido da circulação de água fria, reduzindo eficazmente a temperatura da superfície exterior do invólucro para maior segurança e conforto do operador.
- Portas independentes de entrada e saída de ar:** Permite o trabalho em atmosfera controlada, permitindo aos utilizadores adaptar o ambiente do forno aos requisitos específicos do processo.
- Válvulas de vácuo pneumáticas manuais e automáticas opcionais:** Proporciona flexibilidade no controlo de vácuo, acomodando diferentes requisitos de trabalho e necessidades de automação.
- Sistema de controlo de temperatura com microprocessador programável PID:** Assegura um controlo preciso da temperatura, optimizando os resultados do processo e reduzindo os defeitos do produto.
- Configuração profissional dos elementos de aquecimento:** Optimizada para radiação de calor e longevidade, maximizando o desempenho e prolongando a vida útil.
- Sistema de interbloqueio de segurança:** Desliga o forno quando a porta está aberta ou em casos de sobreaquecimento ou falha do sensor, garantindo a segurança do operador e evitando acidentes.
Princípio de funcionamento
O forno de grafite a vácuo 2200 ℃ utiliza um elemento de aquecimento de grafite a alta temperatura dentro de uma câmara de grafite isolada. Este design especializado permite um controlo preciso da temperatura e uma distribuição uniforme do aquecimento. O forno funciona em condições de vácuo, permitindo o processamento em atmosfera controlada de materiais a temperaturas elevadas. O ambiente de vácuo minimiza a contaminação por gás, a oxidação e a desgaseificação, garantindo a pureza e a integridade dos materiais tratados.
Vantagens
- Temperatura de trabalho super elevada em vácuo e sinterização em atmosfera controlada
- Alto desempenho de vácuo, com um nível máximo de vácuo de até 6*10-3Pa, e sem gaseificação a alta temperatura
- Excelente desempenho de manutenção da pressão de vácuo, com uma taxa de aumento da pressão de vácuo de 0,67Pa/h
- Design de camada dupla do corpo do invólucro de vácuo, com um revestimento para arrefecimento rápido da circulação de água fria
- Portas independentes de entrada e saída de ar, com uma função de trabalho em atmosfera controlada também disponível
- Válvulas de vácuo pneumáticas manuais e automáticas opcionais para diferentes requisitos de trabalho
- Sistema de controlo da temperatura por microprocessador programável PID, garantindo um controlo preciso da temperatura
- Configuração profissional dos elementos de aquecimento para otimizar as propriedades de radiação térmica e garantir uma vida útil mais longa
- Sistema de interbloqueio de segurança, que desliga o forno quando a porta está aberta, ou em casos de temperatura excessiva ou falha do sensor
Vantagens de segurança
- Proteção contra sobrecorrente e função de alarme de sobretemperatura, com desligamento automático
- Função de deteção de par térmico incorporada, com paragem automática do aquecimento e alarme em caso de rutura ou deteção de falha
- Função de reinício por falha de energia, que retoma o programa de aquecimento do forno quando a energia é restabelecida após uma falha de energia
Especificações técnicas
| Modelo do forno | KT-VG | ||
| Temperatura máxima | 2200 ℃ | ||
| Temperatura de trabalho constante | 2100 ℃ | ||
| Material de isolamento da câmara | Feltro de grafite | ||
| Elemento de aquecimento | Vareta resistente de grafite | ||
| Taxa de aquecimento | 0-10℃/min | ||
| Sensor de temperatura | Termopar T/R e termómetro de infravermelhos | ||
| Controlador de temperatura | Controlador PID com ecrã tátil e PLC | ||
| Precisão do controlo de temperatura | ±1℃ | ||
| Fonte de alimentação eléctrica | AC110-440V,50/60HZ | ||
| Tamanhos de câmara padrão Ações | |||
| Tamanho da câmara (mm) | Volume efetivo (L) | Tamanho da câmara (mm) | Volume efetivo (L) |
| 200x200x300 | 12 | 400x400x600 | 96 |
| 300x300x400 | 36 | 500x500x700 | 150 |
| São aceites tamanhos e volumes concebidos pelo cliente | |||
Configuração opcional
- Monitorização e registo independentes da temperatura do forno
- Porta de comunicação RS 485 para controlo remoto por PC e exportação de dados
- Ligação opcional da válvula de vácuo pneumática com o controlador de temperatura
- Controlador de temperatura de ecrã tátil com funções versáteis e fáceis de utilizar
- Máquina de arrefecimento por circulação de água fria para o sistema de arrefecimento do revestimento do forno
Avisos
A segurança do operador é a questão mais importante! Por favor, opere o equipamento com cautelas. Trabalhar com gases inflamáveis, explosivos ou tóxicos é muito perigoso, os operadores devem tomar todas as precauções necessárias antes de iniciar o equipamento. Trabalhar com pressão positiva dentro dos reactores ou câmaras é perigoso, o operador deve seguir rigorosamente os procedimentos de segurança. Extra também deve ser tido cuidado ao operar com materiais reativos ao ar, especialmente sob vácuo. Uma fuga pode aspirar ar para dentro do aparelho e provocar ocorrer uma reação violenta.
Desenhado para si
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FAQ
Para que é utilizado um forno de vácuo?
O que é um forno de grafitização?
O que é o forno CVD?
A deposição química de vapor (CVD) é uma tecnologia que utiliza várias fontes de energia, como aquecimento, excitação de plasma ou radiação de luz para reagir quimicamente substâncias químicas gasosas ou de vapor na fase gasosa ou na interface gás-sólido para formar depósitos sólidos no reator por meio de reação química. simplificando, duas ou mais matérias-primas gasosas são introduzidas em uma câmara de reação e, em seguida, reagem entre si para formar um novo material e depositá-lo na superfície do substrato.
O forno CVD é um sistema de forno combinado com unidade de forno tubular de alta temperatura, unidade de controle de gases e unidade de vácuo, é amplamente utilizado para experimentos e produção de preparação de material composto, processo microeletrônico, optoeletrônico semicondutor, utilização de energia solar, comunicação de fibra ótica, tecnologia de supercondutor, campo de revestimento protetor.
O que é um forno tubular?
O forno tubular de laboratório é um forno tubular clássico de aquecimento externo de alta temperatura, também chamado de forno de aquecimento de parede quente.
De acordo com a temperatura de trabalho diferente, o material do tubo do forno geralmente pode ser tubos de quartzo transparentes, tubos de cerâmica de alumina de alta pureza e tubos de liga metálica de alta resistência.
Para atender a diferentes propósitos de pesquisa térmica, o forno de tubo pode ser projetado com várias zonas de aquecimento, de modo a ter um controle flexível do gradiente de temperatura na câmara de trabalho do tubo; o tubo do forno pode funcionar com um ambiente de trabalho de atmosfera controlada ou um ambiente de trabalho de alto vácuo.
Qual é o processo de um forno de vácuo?
Qual é o objetivo de um forno de prensagem a quente por vácuo?
Quais são as principais aplicações dos fornos de grafitização?
Como funciona um forno de fusão por indução no vácuo?
O que é o processo de fusão por arco a vácuo?
Como é que o forno CVD funciona?
O sistema de forno CVD consiste em uma unidade de forno de tubo de alta temperatura, unidade de controle preciso da fonte de gás reagente, estação de bomba de vácuo e peças de montagem correspondentes.
A bomba de vácuo é para remover o ar do tubo de reação e garantir que não haja gases indesejados dentro do tubo de reação, depois que o forno de tubo aquecerá o tubo de reação a uma temperatura alvo, então a unidade de controle preciso da fonte de gás reagente pode introduzir gases diferentes com uma proporção definida no tubo do forno para a reação química, a deposição de vapor químico será formada no forno CVD.
O que é um forno atmosférico?
Como é que um forno tubular funciona?
Os elementos de aquecimento do forno tubular são colocados em torno da cavidade cilíndrica, o forno só pode aquecer as amostras na cavidade cilíndrica através de radiação térmica indireta, uma vez que o tubo do forno pode impedir que o material da amostra entre em contato com os elementos de aquecimento do forno e os materiais de isolamento, de modo que o forno tubular cria uma câmara de calor isolada e limpa e reduz os riscos de contaminação do material da amostra pelo forno.
Que gás é utilizado num forno de vácuo?
Quais são as vantagens de um forno de prensagem a quente a vácuo?
Quais são os diferentes tipos de fornos de grafitização?
Quais são as vantagens da fusão por indução a vácuo?
O que é o forno VAR (Vacuum Arc Remelting)?
Que gás é utilizado no processo CVD?
Existem tremendas fontes de gás que podem ser usadas no processo CVD, as reações químicas comuns do CVD incluem pirólise, fotólise, redução, oxidação, redox, de modo que os gases envolvidos nessas reações químicas podem ser usados no processo CVD.
Tomamos o crescimento de grafeno CVD como exemplo, os gases usados no processo CVD serão CH4, H2, O2 e N2.
Qual é a utilização do forno atmosférico?
Qual é a aplicação do forno tubular?
O forno tubular é usado principalmente em metalurgia, vidro, tratamento térmico, ânodo de lítio e materiais catódicos, novas energias, abrasivos e outras indústrias, e é um equipamento profissional para medir materiais sob certas condições de temperatura.
O forno tubular apresenta estrutura simples, operação fácil, controle fácil e produção contínua.
O forno tubular também é amplamente aplicado nos sistemas CVD (deposição de vapor químico) e CVD aprimorado por plasma.
Qual é o elemento de aquecimento utilizado num forno de vácuo?
Como é que um forno de prensagem a quente a vácuo funciona?
Como é que um forno de grafitização funciona?
Como é que o vácuo ajuda no forno de fusão por indução?
Como é que o forno de fusão por arco de vácuo funciona?
Qual é a vantagem do sistema CVD?
- Pode ser produzida uma vasta gama de películas, películas metálicas, películas não metálicas e películas de ligas multicomponentes, conforme necessário. Ao mesmo tempo, pode preparar cristais de alta qualidade que são difíceis de obter por outros métodos, como GaN, BP, etc.
- A velocidade de formação da película é rápida, geralmente vários microns por minuto ou mesmo centenas de microns por minuto. É possível depositar simultaneamente grandes quantidades de revestimentos com composição uniforme, o que é incomparável com outros métodos de preparação de filmes, como epitaxia de fase líquida (LPE) e epitaxia de feixe molecular (MBE).
- As condições de trabalho são realizadas sob pressão normal ou condições de baixo vácuo, de modo que o revestimento tem boa difração, e as peças de trabalho com formas complexas podem ser uniformemente revestidas, o que é muito superior ao PVD.
- Devido à difusão mútua do gás de reação, do produto da reação e do substrato, pode obter-se um revestimento com boa força de adesão, o que é crucial para a preparação de películas reforçadas à superfície, tais como películas resistentes ao desgaste e anti-corrosão.
- Algumas películas crescem a uma temperatura muito inferior ao ponto de fusão do material da película. Sob a condição de crescimento a baixa temperatura, o gás de reação e a parede do reator e as impurezas contidas neles quase não reagem, de modo que um filme com alta pureza e boa cristalinidade pode ser obtido.
- A deposição química de vapor pode obter uma superfície de deposição lisa. Isso ocorre porque, em comparação com o LPE, a deposição de vapor químico (CVD) é realizada sob alta saturação, com alta taxa de nucleação, alta densidade de nucleação e distribuição uniforme em todo o plano, resultando em uma superfície lisa macroscópica. Ao mesmo tempo, na deposição de vapor químico, o caminho livre médio das moléculas (átomos) é muito maior do que o LPE, de modo que a distribuição espacial das moléculas é mais uniforme, o que favorece a formação de uma superfície de deposição lisa.
- Baixos danos por radiação, que é uma condição necessária para a fabricação de semicondutores de óxido metálico (MOS) e outros dispositivos
Como é que um forno atmosférico funciona?
Quantos tipos diferentes de fornos tubulares?
O forno tubular pode trabalhar com diferentes funções mecânicas sem problemas, por isso existem muitos tipos diferentes de variações de forno tubular para diferentes fins experimentais, os fornos típicos são os seguintes:
- Forno de tubo horizontal
- Forno de tubo vertical
- Forno de tubo dividido
- Forno de tubo rotativo
- Forno de tubo basculante
- Forno de tubo deslizante
- Forno de tubo de aquecimento e resfriamento rápido
- Forno de tubo de alimentação e descarga contínua
Quais são as aplicações comuns dos fornos de prensagem a quente a vácuo?
Quais são as vantagens de utilizar um forno de grafitização?
O que é o forno de fusão por indução a vácuo?
Quais são as aplicações dos fornos de fusão por arco em vácuo?
O que significa PECVD?
O PECVD é uma tecnologia que utiliza o plasma para ativar o gás de reação, promover a reação química na superfície do substrato ou no espaço próximo da superfície e gerar uma película sólida. O princípio básico da tecnologia de deposição de vapor químico de plasma é que, sob a ação do campo elétrico de RF ou DC, o gás de origem é ionizado para formar um plasma, o plasma de baixa temperatura é usado como fonte de energia, uma quantidade apropriada de gás de reação é introduzida e a descarga de plasma é usada para ativar o gás de reação e realizar a deposição de vapor químico.
De acordo com o método de geração de plasma, ele pode ser dividido em plasma de RF, plasma de DC e plasma de micro-ondas CVD, etc ...
Quais são as vantagens da utilização de fornos atmosféricos?
Quais são as vantagens de utilizar um forno tubular?
Que factores devem ser considerados na seleção de um forno de prensagem a quente por vácuo?
Quais são as vantagens da utilização de fornos de fusão por arco a vácuo?
Qual é a diferença entre CVD e PECVD?
A diferença entre o PECVD e a tecnologia CVD tradicional é que o plasma contém um grande número de electrões de alta energia, que podem fornecer a energia de ativação necessária no processo de deposição de vapor químico, alterando assim o modo de fornecimento de energia do sistema de reação. Uma vez que a temperatura dos electrões no plasma é tão elevada como 10000K, a colisão entre os electrões e as moléculas de gás pode promover a quebra de ligações químicas e a recombinação das moléculas de gás de reação para gerar grupos químicos mais activos, enquanto todo o sistema de reação mantém uma temperatura mais baixa.
Assim, em comparação com o processo CVD, o PECVD pode realizar o mesmo processo de deposição química de vapor com uma temperatura mais baixa.
Que factores devem ser considerados na seleção de um forno atmosférico?
Que precauções de segurança devem ser tomadas quando se utiliza um forno tubular?
Que precauções de segurança devem ser seguidas quando se utiliza um forno de fusão por arco sob vácuo?
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KT-VG Graphite vacuum furnace is a remarkable advanced intelligent heating furnace, with accurate temperature control. It's a great choice for high-temperature treatment of materials.
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The graphite-based furnace offers top-notch thermal efficiency, thanks to its graphite wafer. It's lightweight and provides uniform heating, making it an ideal choice for various applications.
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The electron microscope pictures clearly showcase the transformation of graphite layers before and after heat treatment. This furnace delivers exceptional results for graphitization processes.
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The graphite rod selection is crucial for uniform heating and extended service life. Proper usage and temperature control ensure the longevity of the graphite rod.
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Vacuum sintering furnace offers versatility for processing various materials like hard alloys, carbon composites, and photoelectric coating materials. It's a valuable tool for high-temperature sintering.
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The choice of heating elements, like graphite, molybdenum, or tungsten, enables precise temperature control and efficient heating in vacuum furnaces.
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KT-VG Graphite vacuum furnace excels in vacuum reaction sintering of materials like tungsten alloy, silicon carbide, and molybdenum alloy. Its exceptional temperature control ensures consistent results.
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The temperature sensor with a Tungsten rhenium thermocouple and an infrared thermometer enhances temperature accuracy and reliability, ensuring precise control during the heating process.
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The vacuum shell body's double-layer design with cold water circulation cooling effectively reduces the outer shell temperature, enhancing safety and user comfort.
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The independent air input and output ports allow for a controlled atmosphere working function, expanding the furnace's capabilities and enabling various process conditions.
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The PID programmable microprocessor temperature control system ensures accurate and stable temperature regulation, ensuring precise heating and uniform results.
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The professional heating elements configuration optimizes heat radiation properties, maximizing energy efficiency and extending the service life of the furnace.
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The safety interlock system provides peace of mind, automatically powering off the furnace when the door is open or in cases of over-temperature or sensor failure, ensuring user safety.
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The overcurrent protection and over-temperature alarming function, along with automatic power-off, ensure safe operation and prevent potential hazards, enhancing user confidence.
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The built-in thermal couple detecting function offers an additional layer of safety by automatically stopping heating and triggering an alarm in case of breakage or failure detection, minimizing downtime and ensuring reliable operation.
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The power failure restarting function is a lifesaver! It resumes the heating program upon power restoration, preventing disruptions and ensuring seamless continuation of processes.
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The optional setups, such as independent furnace temperature monitoring and RS 485 communication port, provide enhanced control and data management capabilities, making the furnace even more versatile and user-friendly.
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The cold water circulation cooling machine for the furnace shell jacket cooling system is a great addition, ensuring effective temperature regulation and extending the lifespan of the furnace.
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KT-VG Graphite vacuum furnace is an exceptional choice for high-temperature applications. Its advanced features, safety mechanisms, and optional setups make it a reliable and versatile tool in any laboratory.
PDF - 2200 ℃ Forno de vácuo de grafite
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