A pulverização catódica por magnetrão é uma tecnologia de deposição de película fina altamente vantajosa, que oferece taxas de deposição elevadas, a capacidade de trabalhar com uma vasta gama de materiais e a produção de películas de alta qualidade, densas e adesivas. É particularmente eficaz para materiais de elevado ponto de fusão e fabrico em grande escala, tornando-a uma escolha líder para várias aplicações industriais.
Altas taxas de deposição e versatilidade de materiais:
A pulverização catódica por magnetrão permite elevadas taxas de deposição, o que é fundamental para aplicações industriais em que a eficiência e o rendimento são primordiais. Este método pode ser utilizado para pulverizar qualquer metal, liga ou composto, tornando-o incrivelmente versátil. Esta versatilidade estende-se à capacidade de produzir películas de elevada pureza, o que é essencial para aplicações que requerem propriedades materiais precisas.Qualidade e aderência das películas:
Uma das características de destaque da pulverização catódica por magnetrões é a qualidade excecional das películas produzidas. As películas são conhecidas pela sua extrema aderência aos substratos, o que é crucial para garantir a durabilidade e a fiabilidade dos revestimentos. Além disso, o processo é excelente na cobertura de pequenas características e pode revestir substratos sensíveis ao calor sem os danificar, alargando a sua aplicabilidade em vários sectores.
Uniformidade e escalabilidade:
A pulverização catódica por magnetrão é conhecida pela sua capacidade de produzir revestimentos uniformes em substratos de grandes áreas, como o vidro arquitetónico. Esta uniformidade é uma vantagem significativa em aplicações em que a consistência numa grande área de superfície é fundamental. A escalabilidade da tecnologia também a torna adequada tanto para a investigação em pequena escala como para a produção industrial em grande escala.Flexibilidade de aplicação:
A tecnologia não se limita a materiais condutores; utilizando fontes de alimentação RF, pode também depositar materiais cerâmicos não condutores ou polímeros. Esta capacidade alarga a sua utilização a uma gama mais ampla de aplicações, incluindo a preparação de películas finas de nitreto ou óxido utilizando alvos de elemento único. Além disso, ao operar várias fontes de deposição em simultâneo, é possível obter facilmente composições de ligas específicas.
