O árgon é normalmente utilizado em processos de pulverização catódica, principalmente devido à sua elevada taxa de pulverização, natureza inerte, baixo custo e disponibilidade em elevado grau de pureza. Estas características fazem dele a escolha ideal para a formação de películas finas e revestimentos em várias aplicações industriais.
Alta taxa de pulverização: O árgon, sendo um gás nobre com um peso atómico relativamente elevado, fornece uma fonte adequada de iões para um bombardeamento eficaz do material alvo. Os iões de árgon carregados positivamente são atraídos para o alvo carregado negativamente a alta velocidade, o que resulta numa elevada taxa de pulverização catódica. Esta remoção eficiente de material da superfície do alvo conduz a taxas de deposição mais rápidas, tornando o processo mais eficaz em termos de tempo.
Natureza inerte: O árgon é quimicamente inerte, o que significa que não reage com a maioria dos materiais. Isto é crucial nos processos de pulverização catódica em que a integridade do material alvo e da película depositada é essencial. A inércia do árgon garante que as partículas pulverizadas não são contaminadas ou alteradas pelo gás de pulverização, preservando as propriedades desejadas da película fina.
Baixo preço e disponibilidade: O árgon é relativamente barato em comparação com outros gases nobres como o crípton e o xénon. A sua disponibilidade generalizada e o seu baixo custo fazem dele uma escolha prática para aplicações industriais em que a relação custo-eficácia é um fator importante. A capacidade de obter árgon com elevado grau de pureza também favorece a produção de películas finas de elevada qualidade sem o risco de as impurezas afectarem as propriedades da película.
Outras considerações: A utilização de árgon na pulverização catódica também facilita o funcionamento do processo em várias orientações e permite o revestimento de formas complexas. Uma vez que não é necessária a fusão do material de origem, o processo pode ser adaptado a diferentes configurações, aumentando a sua versatilidade. Além disso, a utilização de árgon pode conduzir a camadas mais densas com menos dispersão de material, melhorando a qualidade geral das películas depositadas.
Em resumo, a combinação do árgon com a elevada taxa de pulverização, a inércia, a acessibilidade e a disponibilidade fazem dele a escolha preferida para processos de pulverização em várias indústrias, garantindo uma deposição de películas finas eficiente e de alta qualidade.
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