O árgon é amplamente utilizado em processos de pulverização catódica por várias razões.
4 razões principais pelas quais o árgon é o gás preferido para os processos de pulverização catódica
1. Alta taxa de pulverização
O árgon é um gás nobre com um elevado peso atómico.
Isto torna-o uma excelente fonte de iões para bombardear o material alvo.
Os iões de árgon carregados positivamente são atraídos para o alvo carregado negativamente a alta velocidade.
Isto resulta numa elevada taxa de pulverização catódica, conduzindo a taxas de deposição mais rápidas.
2. Natureza inerte
O árgon é quimicamente inerte.
Isto significa que não reage com a maioria dos materiais.
A inércia do árgon garante que as partículas pulverizadas não são contaminadas ou alteradas.
Isto preserva as propriedades desejadas da película fina.
3. Baixo preço e disponibilidade
O árgon é relativamente barato em comparação com outros gases nobres como o crípton e o xénon.
Está amplamente disponível e pode ser obtido com elevado grau de pureza.
Este facto torna-o uma escolha prática para aplicações industriais em que a relação custo-eficácia é importante.
4. Outras considerações
A utilização de árgon na pulverização catódica permite o funcionamento do processo em várias orientações.
Também permite o revestimento de formas complexas.
Uma vez que não é necessária a fusão do material de origem, o processo pode ser adaptado a diferentes configurações.
Este facto aumenta a sua versatilidade.
Além disso, o árgon pode conduzir a camadas mais densas com menos dispersão de material.
Isto melhora a qualidade geral das películas depositadas.
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