Conhecimento Qual é a teoria da pulverização catódica por magnetrão?
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Atualizada há 1 semana

Qual é a teoria da pulverização catódica por magnetrão?

A pulverização catódica por magnetrão é uma técnica de deposição de película fina que utiliza um campo magnético para aumentar a eficiência da geração de plasma perto da superfície do alvo, facilitando assim a deposição de materiais num substrato. Este método foi desenvolvido na década de 1970 e caracteriza-se pela sua elevada velocidade, baixos danos e funcionamento a baixa temperatura.

Melhoria da geração de plasma:

A principal inovação na pulverização catódica por magnetrão é a adição de um campo magnético fechado sobre a superfície do alvo. Este campo magnético aprisiona os electrões perto do alvo, fazendo-os espiralar ao longo das linhas de fluxo magnético em vez de serem imediatamente atraídos para o substrato. Este aprisionamento aumenta a probabilidade de colisões entre os electrões e os átomos de árgon (ou outros átomos de gás inerte utilizados no processo), o que, por sua vez, aumenta a geração de plasma. O aumento da densidade do plasma perto da superfície do alvo leva a uma pulverização catódica mais eficiente do material alvo.Mecanismo de pulverização catódica:

Na pulverização catódica por magnetrão, os iões de alta energia são acelerados em direção a um material alvo por um campo elétrico. Estes iões colidem com o alvo, transferindo energia cinética para os átomos do alvo. Se a energia transferida for suficiente para ultrapassar a energia de ligação dos átomos do alvo, estes átomos são ejectados da superfície num processo conhecido como pulverização catódica. O material ejectado deposita-se então num substrato próximo, formando uma película fina.

Vantagens e aplicações:

A utilização de um campo magnético na pulverização catódica por magnetrão permite um processo de deposição mais controlado e eficiente em comparação com os métodos de pulverização catódica tradicionais. Esta eficiência resulta em taxas de deposição mais elevadas e numa melhor qualidade da película. As aplicações da pulverização catódica com magnetrões são diversas, desde o revestimento de microeletrónica e a alteração das propriedades dos materiais até à adição de películas decorativas aos produtos.

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