Conhecimento Qual é o princípio da deposição por feixe de electrões?
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Atualizada há 1 semana

Qual é o princípio da deposição por feixe de electrões?

O princípio da deposição por feixe de electrões envolve a utilização de um feixe de electrões para aquecer e evaporar um material no vácuo, que depois se deposita como uma película fina num substrato. Este processo é uma forma de deposição física de vapor (PVD) e é particularmente eficaz devido à sua capacidade de atingir elevadas taxas de deposição e eficiência de utilização de material a temperaturas de substrato relativamente baixas.

Explicação pormenorizada:

  1. Geração do feixe de electrões:

  2. O processo começa com a geração de um feixe de electrões num canhão de electrões. Este canhão contém um filamento, normalmente feito de tungsténio, que é aquecido através da passagem de uma corrente de alta tensão. Este aquecimento provoca uma emissão termiónica, libertando electrões da superfície do filamento. Estes electrões são então acelerados e focados num feixe utilizando campos eléctricos e magnéticos.Propagação e focalização de um feixe de electrões:

  3. Tanto a câmara de trabalho como o sistema de geração de feixes são evacuados para criar um ambiente de vácuo. Este vácuo é crucial para a propagação desimpedida do feixe de electrões e para evitar que os electrões colidam com as moléculas de ar. O feixe é então dirigido e focado num cadinho que contém o material a ser evaporado.

  4. Aquecimento e evaporação do material:

  5. Quando o feixe de electrões atinge o material no cadinho, a energia cinética dos electrões é transferida para o material, provocando o seu aquecimento. Dependendo do material, este pode primeiro derreter e depois evaporar (como no caso de metais como o alumínio) ou sublimar diretamente (como no caso da cerâmica). A evaporação ocorre porque a energia do feixe aumenta a temperatura do material até ao seu ponto de ebulição, transformando-o em vapor.Deposição de película fina:

O material vaporizado sai então do cadinho e deposita-se num substrato posicionado dentro da câmara de vácuo. Esta deposição forma uma película fina sobre o substrato. O processo é altamente controlável, permitindo um controlo preciso sobre a espessura e a uniformidade da película depositada.Vantagens e aplicações:

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