Peças para deposição de película fina
Cadinho de nitreto de boro condutor com revestimento por evaporação por feixe de electrões (cadinho BN)
Número do item : KES03
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Material
- Nitreto de boro
- Especificação
- 35-64,5mm*17-35mm
Envio:
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Os cadinhos condutores de nitreto de boro são cadinhos lisos e de elevada pureza concebidos para revestimentos por evaporação de feixe de electrões. Tem uma excelente resistência a altas temperaturas e um excelente desempenho em termos de ciclos térmicos, e não reage com vários metais e terras raras cerâmicas. O cadinho permanece intacto mesmo em condições de aquecimento e arrefecimento rápido. Tem aplicações na fusão de ligas, sinterização de terras raras e cerâmica, e revestimento por evaporação de feixe de electrões. É frequentemente utilizado em processos de evaporação térmica, tais como aquecimento por indução de alta frequência, revestimento, revestimento por evaporação de feixe de electrões, revestimento de alumínio e revestimento de silício.
O cadinho condutor de nitreto de boro tem alta pureza, alto acabamento e excelente desempenho de revestimento por evaporação de feixe de electrões. Podem aumentar as taxas de evaporação, acelerar a mudança de material, melhorar a estabilidade térmica e reduzir os requisitos de energia, aumentando a produtividade e a eficiência de custos.
Detalhes e peças
Especificações técnicas
| Diâmetro exterior | 35mm | 40mm | 45 mm | 50mm | 64,5 mm |
| Alta | 17 mm | 20 mm | 22,5 mm | 25mm | 35mm |
Os cadinhos que apresentamos estão disponíveis em diferentes tamanhos e os tamanhos personalizados estão disponíveis mediante pedido.
Vantagens
- O filme tem bom acabamento, alta pureza, menos poluição e longa vida útil.
- Excelente resistência a altas temperaturas, resistência a ciclos de calor.
- Baixa expansão térmica, resiste ao molhamento pela maioria dos metais fundidos.
- Resistência ao calor até 2000 ℃, o nitreto de boro não reage com o alumínio e não é fácil de volatilizar.
- Aumento da taxa de evaporação; O aumento da taxa de evaporação reduz o tempo de ciclo e aumenta o rendimento geral.
- Troca rápida de material; Os cadinhos condutores de nitreto de boro facilitam a troca rápida de material, minimizando o tempo de inatividade da câmara e aumentando a eficiência do processo.
- Estabilidade térmica melhorada; Estes cadinhos têm uma estabilidade térmica melhorada, reduzindo a transferência de calor do próprio cadinho e assegurando uma evaporação consistente e controlada.
FAQ
Quais São As Aplicações Das Peças Cerâmicas De Nitreto De Boro?
O Que São Fontes De Evaporação Térmica?
O Que é A Deposição Física De Vapor (PVD)?
Quais São As Vantagens De Usar Peças Cerâmicas De Nitreto De Boro?
Quais São Os Principais Tipos De Fontes De Evaporação Térmica?
O Que é A Pulverização Catódica Por Magnetrão?
Que Considerações Devem Ser Feitas Ao Selecionar Peças Cerâmicas De Nitreto De Boro?
Como é Que As Fontes De Evaporação Térmica Funcionam?
Porquê A Pulverização Catódica Por Magnetrões?
Quais Processos De Fabricação São Usados Para Produzir Peças De Cerâmica De Nitreto De Boro?
Quais São As Vantagens Da Utilização De Fontes De Evaporação Térmica?
Quais São Os Materiais Utilizados Na Deposição De Película Fina?
A deposição de película fina utiliza normalmente metais, óxidos e compostos como materiais, cada um com as suas vantagens e desvantagens únicas. Os metais são preferidos pela sua durabilidade e facilidade de deposição, mas são relativamente caros. Os óxidos são altamente duráveis, suportam temperaturas elevadas e podem ser depositados a baixas temperaturas, mas podem ser frágeis e difíceis de trabalhar. Os compostos oferecem resistência e durabilidade, podem ser depositados a baixas temperaturas e adaptados para apresentarem propriedades específicas.
A seleção do material para um revestimento de película fina depende dos requisitos da aplicação. Os metais são ideais para a condução térmica e eléctrica, enquanto os óxidos são eficazes na proteção. Os compostos podem ser adaptados para satisfazer necessidades específicas. Em última análise, o melhor material para um determinado projeto dependerá das necessidades específicas da aplicação.
Para Que Aplicações São Utilizadas As Fontes De Evaporação Térmica?
Quais São Os Métodos Para Obter Uma Deposição óptima De Película Fina?
Para obter películas finas com propriedades desejáveis, são essenciais alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação de alta qualidade. A qualidade destes materiais pode ser influenciada por vários factores, tais como a pureza, o tamanho do grão e o estado da superfície.
A pureza dos alvos de pulverização catódica ou dos materiais de evaporação desempenha um papel crucial, uma vez que as impurezas podem causar defeitos na película fina resultante. O tamanho do grão também afecta a qualidade da película fina, sendo que os grãos maiores conduzem a propriedades de película pobres. Além disso, a condição da superfície é crucial, uma vez que as superfícies ásperas podem resultar em defeitos na película.
Para obter alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação da mais alta qualidade, é crucial selecionar materiais que possuam alta pureza, tamanho de grão pequeno e superfícies lisas.
Utilizações Da Deposição De Película Fina
Películas finas à base de óxido de zinco
As películas finas de ZnO encontram aplicações em várias indústrias, tais como térmica, ótica, magnética e eléctrica, mas a sua principal utilização é em revestimentos e dispositivos semicondutores.
Resistências de película fina
As resistências de película fina são cruciais para a tecnologia moderna e são utilizadas em receptores de rádio, placas de circuito, computadores, dispositivos de radiofrequência, monitores, routers sem fios, módulos Bluetooth e receptores de telemóveis.
Filmes finos magnéticos
Os filmes finos magnéticos são utilizados em eletrónica, armazenamento de dados, identificação por radiofrequência, dispositivos de micro-ondas, ecrãs, placas de circuitos e optoelectrónica como componentes-chave.
Filmes finos ópticos
Os revestimentos ópticos e a optoelectrónica são aplicações padrão dos filmes finos ópticos. A epitaxia por feixe molecular pode produzir dispositivos optoelectrónicos de película fina (semicondutores), em que as películas epitaxiais são depositadas um átomo de cada vez no substrato.
Filmes finos de polímeros
Os filmes finos de polímeros são utilizados em chips de memória, células solares e dispositivos electrónicos. As técnicas de deposição química (CVD) oferecem um controlo preciso dos revestimentos de películas de polímeros, incluindo a conformidade e a espessura do revestimento.
Baterias de película fina
As baterias de película fina alimentam dispositivos electrónicos, tais como dispositivos médicos implantáveis, e a bateria de iões de lítio avançou significativamente graças à utilização de películas finas.
Revestimentos de película fina
Os revestimentos de película fina melhoram as características químicas e mecânicas dos materiais alvo em várias indústrias e campos tecnológicos. Revestimentos antirreflexo, revestimentos anti-ultravioleta ou anti-infravermelhos, revestimentos anti-riscos e polarização de lentes são alguns exemplos comuns.
Células solares de película fina
As células solares de película fina são essenciais para a indústria da energia solar, permitindo a produção de eletricidade relativamente barata e limpa. Os sistemas fotovoltaicos e a energia térmica são as duas principais tecnologias aplicáveis.
Factores E Parâmetros Que Influenciam A Deposição De Películas Finas
Taxa de deposição:
A taxa a que a película é produzida, tipicamente medida em espessura dividida pelo tempo, é crucial para selecionar uma tecnologia adequada à aplicação. As taxas de deposição moderadas são suficientes para películas finas, enquanto as taxas de deposição rápidas são necessárias para películas espessas. É importante encontrar um equilíbrio entre a velocidade e o controlo preciso da espessura da película.
Uniformidade:
A consistência da película ao longo do substrato é conhecida como uniformidade, que normalmente se refere à espessura da película, mas também pode estar relacionada com outras propriedades, como o índice de refração. É importante ter um bom entendimento da aplicação para evitar sub ou superespecificar a uniformidade.
Capacidade de preenchimento:
A capacidade de preenchimento ou cobertura de etapas refere-se a quão bem o processo de deposição cobre a topografia do substrato. O método de deposição utilizado (por exemplo, CVD, PVD, IBD ou ALD) tem um impacto significativo na cobertura e no preenchimento dos degraus.
Características da película:
As características da película dependem dos requisitos da aplicação, que podem ser classificados como fotónicos, ópticos, electrónicos, mecânicos ou químicos. A maioria das películas tem de cumprir requisitos em mais do que uma categoria.
Temperatura do processo:
As características da película são significativamente afectadas pela temperatura do processo, que pode ser limitada pela aplicação.
Danos:
Cada tecnologia de deposição tem o potencial de danificar o material depositado, sendo as características mais pequenas mais susceptíveis a danos no processo. A poluição, a radiação UV e o bombardeamento de iões estão entre as potenciais fontes de danos. É crucial compreender as limitações dos materiais e ferramentas.
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