O impacto da temperatura do substrato nas propriedades da película é um aspeto crucial da deposição de películas finas.
Qual é o impacto da temperatura do substrato nas propriedades da película? (8 factores-chave)
1. Fase cristalina
O aumento da temperatura do substrato pode levar a alterações na fase cristalina da película fina.
Por exemplo, um aumento da temperatura pode causar uma transformação de uma fase amorfa para uma fase cristalina.
2. Tamanho do cristalito
Uma temperatura mais elevada do substrato pode resultar numa diminuição do tamanho dos cristalitos na película fina.
Isto deve-se ao aumento da difusão e do crescimento da rede cristalina a temperaturas mais elevadas.
3. Proporção estequiométrica
A temperatura do substrato também afecta a proporção estequiométrica da película fina.
O aumento da temperatura pode levar a uma composição mais equilibrada da película, melhorando a sua qualidade geral.
4. Morfologia da superfície
A morfologia da superfície da película fina pode ser influenciada pela temperatura do substrato.
As temperaturas mais elevadas podem aumentar as reacções superficiais e resultar numa superfície de película mais lisa e uniforme.
5. Valor do intervalo de banda
O aumento da temperatura do substrato também pode afetar o valor do intervalo de banda da película fina.
Isto é atribuído às mudanças na fase cristalina, tamanho dos cristais e proporção estequiométrica, que afectam as propriedades electrónicas da película.
6. Densidade de defeitos
O aumento da temperatura do substrato pode ajudar a compensar as ligações suspensas na superfície da película, levando a uma diminuição da densidade de defeitos.
Isto melhora a qualidade geral da película.7. Adesão, cristalinidade e tensãoA temperatura do substrato é um parâmetro importante que afecta a adesão, a cristalinidade e a tensão da película fina depositada.Ao otimizar a temperatura, é possível obter a qualidade e as propriedades desejadas da película.8. Taxa de deposiçãoA taxa a que o material pulverizado é depositado no substrato, conhecida como taxa de deposição, pode ser influenciada pela temperatura do substrato.A otimização da taxa de deposição ajuda a obter a espessura e a uniformidade desejadas da película.
