Conhecimento Para que é utilizada a evaporação por feixe eletrónico? 5 aplicações principais explicadas
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Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 2 meses

Para que é utilizada a evaporação por feixe eletrónico? 5 aplicações principais explicadas

A evaporação por feixe de electrões é uma tecnologia de deposição versátil e precisa, utilizada principalmente para criar revestimentos densos e de elevada pureza em vários materiais.

É particularmente eficaz em indústrias que requerem materiais com resistência a altas temperaturas, resistência ao desgaste e a produtos químicos, ou propriedades ópticas específicas.

O processo é favorecido pela sua capacidade de evaporar materiais com pontos de fusão elevados, permitindo a deposição de revestimentos metálicos puros e precisos a nível atómico e molecular.

5 Principais Aplicações Explicadas

Para que é utilizada a evaporação por feixe eletrónico? 5 aplicações principais explicadas

1. Resistência a altas temperaturas

A evaporação por feixe de electrões é utilizada para depositar materiais como a platina e o dióxido de silício, que têm temperaturas de evaporação elevadas.

Esta capacidade é crucial em indústrias como a aeroespacial e a automóvel, onde os componentes têm de resistir a condições extremas.

2. Resistência ao desgaste e aos produtos químicos

O processo é ideal para criar revestimentos que aumentam a durabilidade e a resistência dos materiais contra o desgaste e os produtos químicos.

Isto é benéfico nos sectores da indústria transformadora e da construção.

3. Propriedades ópticas

A evaporação por feixe de electrões é utilizada na produção de revestimentos ópticos, melhorando as propriedades de transmissão, reflexão ou absorção de materiais utilizados em eletrónica e bens de consumo.

4. Mecanismo do processo

Durante o processo de evaporação por feixe de electrões, são emitidos electrões de um filamento de tungsténio devido ao aquecimento por efeito de joule.

Estes electrões são acelerados em direção a um cadinho que contém o material a depositar, utilizando uma alta tensão.

Um campo magnético focaliza o feixe de electrões, que transfere então energia para o material, fazendo com que este se evapore e se deposite no substrato.

5. Deposição reactiva

A introdução de uma pressão parcial de gases reactivos, como o oxigénio ou o azoto, na câmara permite a deposição reactiva de películas não metálicas.

Isto alarga a gama de materiais e propriedades que podem ser obtidos.

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