A CVD (deposição química de vapor) oferece várias vantagens em relação à PVD (deposição física de vapor), principalmente devido às suas características de processo e à natureza dos revestimentos que pode produzir. Estas vantagens incluem a capacidade de funcionar a pressões mais elevadas, a capacidade de depositar películas conformes em superfícies irregulares e a produção de revestimentos uniformes e de alta qualidade. Além disso, a CVD pode lidar com materiais como o Al2O3, que são difíceis de processar com métodos convencionais de PVD.
Pressão operacional mais alta e custos de equipamento reduzidos:
Os processos CVD operam a pressões significativamente mais elevadas em comparação com o PVD, o que elimina a necessidade de bombas de alto vácuo. Esta redução da necessidade de tecnologia de vácuo pode levar a custos de equipamento mais baixos, especialmente se o sistema não necessitar de uma infraestrutura de gestão de gás extensiva para o manuseamento de gases tóxicos.Deposição de películas conformes em superfícies irregulares:
A pressão mais elevada e as propriedades de fluxo laminar da CVD permitem-lhe depositar películas que não precisam de estar na linha de visão. Esta caraterística permite à CVD revestir uniformemente substratos com superfícies irregulares ou substratos densamente compactados. Ao contrário da PVD, que frequentemente resulta em revestimentos irregulares devido à sua natureza direcional, a CVD pode revestir uniformemente todas as partes expostas de uma estrutura 3D complexa.
Produção de revestimentos uniformes de alta qualidade:
A CVD é excelente na produção de revestimentos com excelente conformidade. Ele pode revestir uniformemente estruturas 3D complexas, o que é uma vantagem significativa sobre a abordagem de linha de visão do PVD. O revestimento uniforme produzido por CVD não tem efeitos direccionais, garantindo uma cobertura uniforme e de alta qualidade.Manuseamento de materiais específicos como o Al2O3:
A CVD tem uma vantagem no processamento de materiais como o Al2O3, que tem uma estabilidade física e química muito boa, dureza, resistência ao desgaste e baixo custo. Estas propriedades fazem do Al2O3 um material de revestimento desejável, e o seu processamento é mais viável com CVD do que com PVD convencional devido às limitações do processo de fabrico de PVD.
