A deposição química de vapor (CVD) é um método altamente eficaz para sintetizar nanomateriais.
Quais são as 6 principais vantagens da deposição química de vapor para a síntese de nanomateriais?
1. Versatilidade
A CVD é um método de deposição altamente versátil que se baseia em reacções químicas.
Permite a deposição de uma vasta gama de materiais, incluindo nanomateriais à base de carbono como fulerenos, nanotubos de carbono (CNTs), nanofibras de carbono (CNFs) e grafeno.
2. Controlo do tempo
A CVD oferece um controlo total sobre o tempo do processo de deposição.
Os produtos químicos só se expandem e endurecem quando colocados dentro de um ambiente de vácuo, permitindo que as empresas fabricantes tenham um controlo preciso sobre o processo de deposição.
3. Capacidade de criar camadas ultra-finas
A deposição de vapor químico é capaz de criar camadas ultra-finas de materiais.
Isto é particularmente vantajoso para aplicações como os circuitos eléctricos, que requerem frequentemente a utilização de camadas ultra-finas.
4. Materiais de alta qualidade
A CVD é conhecida por produzir materiais de elevada qualidade.
Os materiais resultantes tendem a possuir maior pureza, dureza e resistência à agitação ou a danos, em comparação com outros métodos de revestimento.
5. Maior rendimento de fabrico
A deposição de vapor químico tem um elevado rendimento de fabrico.Isto significa que pode ser produzida uma grande quantidade de nanomateriais de alta qualidade num único processo de deposição, o que o torna um método económico para a produção em grande escala.6. EscalabilidadeA CVD é relativamente simples de escalonar para a produção em massa.
