A deposição pode ser classificada como física ou química.
5 pontos-chave para compreender
1. Deposição física
A deposição física, também conhecida como deposição física de vapor (PVD), envolve a utilização de meios mecânicos, electromecânicos ou termodinâmicos para produzir uma película fina de um sólido.
Exemplos de deposição física incluem a evaporação, a sublimação e a pulverização catódica.
Na deposição física, não são produzidas novas substâncias durante o processo de fabrico.
Normalmente, requer um ambiente de vapor de baixa pressão para funcionar corretamente e é frequentemente realizado em alto vácuo ou UHV para evitar a contaminação da atmosfera ambiente.
Os métodos de deposição física são favorecidos pela sua capacidade de fornecer propriedades de película controladas e reproduzíveis, como a composição, a espessura, a microestrutura e a adesão.
2. Deposição química
Por outro lado, a deposição química, também conhecida como deposição de vapor químico (CVD), envolve reacções químicas a partir da fase de vapor.
Inclui processos como a deposição por banho químico, a galvanoplastia, a epitaxia por feixe molecular e a oxidação térmica.
Os métodos de deposição química envolvem o consumo de materiais antigos e a produção de novas substâncias.
Podem utilizar um gás de transporte inerte e podem mesmo ser efectuados à pressão atmosférica.
A deposição química permite a deposição de películas finas com propriedades desejadas, tais como propriedades químicas, mecânicas, eléctricas ou ópticas.
3. Aplicações e vantagens
Tanto os métodos de deposição física como os métodos de deposição química têm as suas aplicações e vantagens.
A escolha entre os dois métodos depende de vários factores, como o custo, a espessura da película, a disponibilidade do material de origem e o controlo da composição.
A deposição física de vapor é frequentemente preferida numa sociedade "amiga do ambiente" devido à sua poluição mínima.
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