A deposição por feixe de electrões é um processo utilizado na deposição física de vapor (PVD) em que um feixe de electrões de alta energia é utilizado para evaporar um material de origem, que depois se deposita como uma película fina num substrato.
O processo ocorre numa câmara de vácuo para garantir uma elevada pureza e um controlo preciso da deposição.
Explicação das 4 etapas principais
1. Geração do feixe de electrões
O processo começa com a geração de um feixe de electrões utilizando um canhão de electrões.
Este canhão contém um filamento, normalmente feito de tungsténio, que é aquecido para emitir electrões através de emissão termiónica.
Os electrões são acelerados e focados num feixe por um campo magnético.
2. Evaporação do material
O feixe de electrões focado é dirigido para um cadinho que contém o material a depositar.
A energia do feixe aquece o material, fazendo-o evaporar ou sublimar, dependendo das suas propriedades.
Por exemplo, os metais, como o alumínio, podem primeiro derreter e depois evaporar, enquanto as cerâmicas podem sublimar diretamente de sólido para vapor.
3. Deposição no substrato
O material evaporado forma um vapor que viaja através da câmara de vácuo e se condensa num substrato posicionado acima do cadinho.
O substrato pode ser rodado e posicionado com precisão para controlar a uniformidade e a espessura da película depositada.
4. Melhorias e controlo
O processo pode ser melhorado através da utilização de feixes de iões para auxiliar a deposição, o que melhora a adesão e a densidade da película.
O controlo informático de vários parâmetros, como o aquecimento, os níveis de vácuo e o movimento do substrato, garante a deposição de revestimentos conformados com propriedades ópticas específicas.
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