Os revestimentos PVD TiN são convencionalmente aplicados a temperaturas entre 400 e 500°C (750 e 930°F).
Os processos PVD baseiam-se no bombardeamento de iões em vez de altas temperaturas como força motriz.
O substrato a ser revestido é colocado numa câmara de vácuo e é aquecido até à temperatura.
O material de revestimento de Ti é vaporizado e um gás reativo, como o N2, é introduzido e ionizado.
Os átomos de titânio vaporizados reagem então com o azoto ionizado para formar o composto TiN que se deposita no substrato para formar o revestimento.
Em comparação com os processos CVD, os processos PVD funcionam a temperaturas muito mais baixas.
As temperaturas de processamento CVD são normalmente entre 850 - 1100°C (1550 - 2000ºF).
Os revestimentos PVD são adequados para aços com temperaturas de têmpera mais elevadas.
Os revestimentos PVD têm uma espessura mais fina, de cerca de 3-5μm, e temperaturas de processamento mais baixas, de cerca de 500°C.
Este facto torna os revestimentos PVD adequados para uma gama mais vasta de substratos e aplicações, especialmente para materiais de base que são sensíveis a gamas de temperatura mais elevadas.
Os revestimentos PVD também têm a vantagem de manter tolerâncias estreitas e minimizar a distorção na maioria dos materiais.
Em contrapartida, os revestimentos CVD têm requisitos de resistência a temperaturas mais elevadas e são normalmente utilizados em ligas duras, como o carboneto cimentado, devido às elevadas temperaturas de processamento (800-1000°C) envolvidas.
Em geral, a escolha entre revestimentos de TiN PVD e CVD depende da temperatura de aplicação final do componente.
As temperaturas de utilização mais elevadas podem tornar os métodos de revestimento CVD mais desejáveis, enquanto os revestimentos PVD são mais versáteis e adequados para uma gama mais vasta de substratos e aplicações.
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