A evaporação térmica é uma técnica de deposição física de vapor (PVD) utilizada para depositar películas finas num substrato.
Este método envolve o aquecimento de um material num ambiente de alto vácuo até à sua vaporização.
Em seguida, as moléculas vaporizadas condensam-se num substrato, formando uma película fina.
O que é o Método de Deposição por Evaporação Térmica? (4 etapas principais explicadas)
1. Ambiente de alto vácuo
O processo inicia-se numa câmara de vácuo.
Isto é essencial para evitar a interferência de partículas de gás durante a deposição.
O vácuo é mantido por uma bomba de vácuo, assegurando que a pressão é baixa à volta do material de origem.
Isto aumenta a eficiência da evaporação.
2. Aquecimento do material
O material a depositar, conhecido como evaporante, é colocado num cadinho ou barco feito de materiais refractários como o tungsténio ou o molibdénio.
Este recipiente é aquecido, normalmente através de aquecimento por efeito de joule, a uma temperatura suficientemente elevada para provocar a vaporização do material.
3. Transporte de vapor e condensação
Uma vez vaporizadas, as moléculas viajam através do vácuo para alcançar o substrato.
Ao entrar em contacto com o substrato mais frio, o vapor condensa-se, formando uma película fina.
Este processo pode ser repetido para fazer crescer e nuclear ainda mais a película fina.
4. Versatilidade
A evaporação térmica é versátil, capaz de depositar uma vasta gama de materiais, incluindo metais como o alumínio, a prata, o níquel e outros.
Esta versatilidade, juntamente com a simplicidade do processo, faz da evaporação térmica uma escolha popular tanto em laboratório como em ambientes industriais.
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