A técnica PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) é um método utilizado para depositar películas finas de um estado gasoso para um estado sólido num substrato.
Este processo caracteriza-se pela sua capacidade de funcionar a temperaturas mais baixas em comparação com as técnicas convencionais de deposição química de vapor (CVD).
Isto torna-o adequado para depositar revestimentos em superfícies que não suportam temperaturas elevadas.
O que é a técnica PECVD? 4 pontos-chave explicados
1. Geração de plasma
Num sistema PECVD, o plasma é criado através da aplicação de uma descarga RF ou DC entre dois eléctrodos.
Esta descarga ioniza os gases presentes na câmara, transformando-os num plasma.
O plasma é um estado da matéria em que os electrões são separados dos seus átomos de origem, criando um ambiente de alta energia.
2. Reacções químicas
As condições de alta energia no plasma facilitam a dissociação dos gases precursores, que são introduzidos na câmara.
Estes gases dissociados sofrem então reacções químicas, formando novos compostos que se depositam como uma película fina no substrato.
A utilização do plasma permite que estas reacções ocorram a temperaturas mais baixas do que nos processos tradicionais de CVD, que dependem apenas do calor para conduzir as reacções.
3. Deposição de películas finas
Os produtos das reacções químicas no plasma são depositados no substrato, formando uma película fina.
Esta película pode ser composta por vários materiais, dependendo dos gases precursores utilizados.
A capacidade de controlar a composição química da película através da escolha dos gases precursores e das condições do plasma é uma vantagem significativa da PECVD.
4. Aplicações e vantagens
A PECVD é amplamente utilizada na indústria de semicondutores devido à sua capacidade de depositar películas a baixas temperaturas, o que é crucial para a integridade de substratos sensíveis à temperatura.
Além disso, o controlo sintonizável da composição química das películas torna o PECVD adequado para uma variedade de aplicações, incluindo a criação de películas com propriedades eléctricas, ópticas ou mecânicas específicas.
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