A história da pulverização catódica por magnetrões é uma viagem fascinante que se estende por mais de um século. Tudo começou em meados do século XIX com as primeiras observações dos fenómenos de pulverização catódica. No entanto, só em meados do século XX é que a pulverização catódica se tornou comercialmente relevante.
4 marcos importantes na história da pulverização catódica por magnetrões
1. Primeiros desenvolvimentos (década de 1850-1940)
A pulverização catódica foi observada pela primeira vez na década de 1850. Era utilizada para a deposição de metais refractários que não podiam ser depositados por evaporação térmica. O processo envolvia a utilização de uma descarga eléctrica para depositar películas de metal num cátodo frio. Esta forma inicial de pulverização catódica era limitada e não foi amplamente adoptada devido à sua baixa eficiência e aos seus elevados custos.
2. Relevância comercial e pulverização catódica com díodos (anos 1940-1960)
A década de 1940 assistiu à introdução da pulverização catódica de díodos. Esta começou a encontrar aplicações comerciais como um processo de revestimento. Apesar da sua adoção inicial, a pulverização catódica por díodos ainda enfrentava desafios devido às suas baixas taxas de deposição e custos elevados, limitando a sua utilização generalizada.
3. Introdução da pulverização catódica por magnetrões (década de 1970)
O verdadeiro avanço na tecnologia de pulverização catódica ocorreu em meados da década de 1970 com o desenvolvimento da pulverização catódica com magnetrões. Esta técnica envolveu a utilização de um campo magnético fechado sobre a superfície do alvo. Aumentou a eficiência da geração de plasma, aumentando a probabilidade de colisões entre electrões e átomos de árgon perto da superfície do alvo. Esta inovação aumentou significativamente as taxas de deposição e reduziu os custos, tornando a pulverização catódica magnetrónica um método preferido para várias aplicações em indústrias como a microeletrónica e o vidro arquitetónico.
4. Aplicações modernas e avanços
Atualmente, a pulverização catódica com magnetrões é amplamente utilizada para depositar uma variedade de materiais, incluindo metais, cerâmicas e ligas, em diferentes substratos. A tecnologia evoluiu para incluir várias configurações geométricas de alvos e métodos avançados como a varredura do campo magnético sobre a superfície do alvo para otimizar aplicações específicas. Esta evolução solidificou o papel da pulverização catódica por magnetrão nos processos industriais modernos, particularmente na produção de películas finas e revestimentos.
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