Conhecimento Qual é a história da pulverização catódica por magnetrão?
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Atualizada há 1 semana

Qual é a história da pulverização catódica por magnetrão?

A história da pulverização catódica por magnetrão remonta a meados do século XIX, com as primeiras observações dos fenómenos de pulverização catódica. No entanto, só em meados do século XX é que a pulverização catódica se tornou comercialmente relevante, particularmente com o desenvolvimento da pulverização catódica de díodos na década de 1940. O verdadeiro avanço na tecnologia de pulverização catódica ocorreu com a introdução da pulverização catódica por magnetrões na década de 1970, que melhorou significativamente a eficiência e a aplicabilidade do processo.

Primeiros desenvolvimentos (1850-1940):

A pulverização catódica foi observada pela primeira vez na década de 1850, onde foi utilizada para a deposição de metais refractários que não podiam ser depositados por evaporação térmica. O processo envolvia a utilização de uma descarga eléctrica para depositar películas de metal num cátodo frio. Esta forma inicial de pulverização catódica era limitada e não foi amplamente adoptada devido à sua baixa eficiência e aos seus elevados custos.Relevância comercial e pulverização catódica de díodos (anos 1940-1960):

A década de 1940 assistiu à introdução da pulverização catódica por díodo, que começou a encontrar aplicações comerciais como um processo de revestimento. Apesar da sua adoção inicial, a pulverização catódica por díodo ainda enfrentava desafios devido às suas baixas taxas de deposição e custos elevados, limitando a sua utilização generalizada.

Introdução da pulverização catódica por magnetrões (década de 1970):

O verdadeiro avanço na tecnologia de pulverização catódica ocorreu em meados da década de 1970 com o desenvolvimento da pulverização catódica de magnetrões. Esta técnica envolveu a utilização de um campo magnético fechado sobre a superfície do alvo, o que melhorou a eficiência da geração de plasma ao aumentar a probabilidade de colisões entre electrões e átomos de árgon perto da superfície do alvo. Esta inovação aumentou significativamente as taxas de deposição e reduziu os custos, tornando a pulverização catódica magnetrónica um método preferido para várias aplicações em indústrias como a microeletrónica e o vidro arquitetónico.

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