Conhecimento O que é o processo de deposição assistida por plasma? 5 etapas principais explicadas
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Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 2 meses

O que é o processo de deposição assistida por plasma? 5 etapas principais explicadas

A deposição assistida por plasma é uma técnica de fabrico sofisticada utilizada para depositar películas finas em vários substratos.

Inclui, especificamente, a deposição de vapor químico assistida por plasma (PACVD) e a deposição de vapor químico reforçada por plasma (PECVD).

Estes processos utilizam o plasma, um estado da matéria composto por partículas carregadas, para iniciar e manter reacções químicas que resultam na deposição de material num substrato.

A energia para estas reacções é normalmente fornecida por descargas eléctricas de alta frequência, tais como fontes de radiofrequência, corrente contínua ou micro-ondas.

Explicação das 5 etapas principais

O que é o processo de deposição assistida por plasma? 5 etapas principais explicadas

1. Geração de plasma

O processo começa com a geração de plasma dentro de uma câmara de vácuo.

Isto é normalmente conseguido através da aplicação de uma descarga eléctrica entre dois eléctrodos.

A energia desta descarga ioniza o gás, criando um plasma constituído por iões, electrões e radicais livres.

2. Ativação de gases precursores

Os gases precursores, como o silano ou o oxigénio, são introduzidos no plasma.

As partículas de alta energia do plasma colidem com estes gases, separando-os e criando espécies reactivas.

3. Deposição no substrato

Estas espécies reactivas deslocam-se então para o substrato, onde reagem e são absorvidas pela superfície.

Isto resulta no crescimento de uma película fina.

Os subprodutos químicos destas reacções são dessorvidos e removidos da câmara, completando o processo de deposição.

4. Controlo dos parâmetros de deposição

As propriedades da película depositada, como a espessura, a dureza e o índice de refração, podem ser controladas através do ajuste de parâmetros como os caudais de gás e as temperaturas de funcionamento.

Taxas de fluxo de gás mais elevadas aumentam geralmente as taxas de deposição.

5. Versatilidade e aplicações

A deposição assistida por plasma é altamente versátil, capaz de depositar uma vasta gama de materiais, incluindo metais, óxidos, nitretos e polímeros.

Pode ser utilizada em objectos de vários tamanhos e formas, o que a torna adequada para inúmeras aplicações em indústrias como a eletrónica, a ótica e o fabrico.

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