O plasma de magnetrão é um tipo de plasma criado na pulverização catódica por magnetrão, que é um processo de deposição de vapor de plasma (PVD).
Na pulverização catódica por magnetrão, forma-se um plasma e os iões de carga positiva são acelerados por um campo elétrico em direção a um elétrodo de carga negativa ou "alvo".
Este alvo é normalmente feito do material que vai ser depositado num substrato.
Os iões positivos no plasma são acelerados por potenciais que variam entre algumas centenas e alguns milhares de electrões-volt e atingem o alvo com força suficiente para deslocar e ejetar átomos da sua superfície.
Estes átomos são então ejectados numa distribuição cosseno típica de linha de visão e condensam-se em superfícies colocadas na proximidade do cátodo de pulverização catódica com magnetrão.
O magnetrão, que é a conceção de fontes de pulverização de alta taxa de deposição, desempenha um papel crucial na pulverização catódica com magnetrão.
Trata-se de uma descarga magneticamente assistida em que é adicionado um íman permanente ou um eletroíman para criar linhas de fluxo magnético paralelas à superfície do alvo.
Este campo magnético concentra e intensifica o plasma perto da superfície do alvo, resultando num maior bombardeamento de iões e numa maior taxa de pulverização.
O campo magnético na pulverização catódica por magnetrão também controla o percurso de transmissão do plasma.
As linhas magnéticas formadas pelo magnetrão estendem-se de uma extremidade à outra do alvo.
Este efeito de aprisionamento do campo magnético aumenta a taxa de ionização e a taxa de deposição do revestimento a baixas temperaturas.
Também ajuda a reduzir a incorporação de gás na película e a minimizar as perdas de energia nos átomos pulverizados.
Em termos gerais, a pulverização catódica por magnetrão é uma técnica de revestimento baseada em plasma que envolve a colisão de iões energéticos de carga positiva de um plasma magneticamente confinado com um material alvo de carga negativa.
Esta colisão provoca a ejeção ou pulverização de átomos do alvo, que são depois depositados num substrato.
A pulverização catódica por magnetrão é conhecida pela sua capacidade de produzir películas de alta qualidade e pela sua escalabilidade em comparação com outros métodos de PVD.
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