O equipamento CVD significa equipamento de deposição química em fase vapor.
É utilizado na indústria de semicondutores para criar películas finas em bolachas.
O processo envolve a deposição de camadas de materiais, como o dióxido de silício ou o nitreto de silício, na superfície de uma bolacha.
8 Funções principais explicadas
1. Sistema de fornecimento de gás
Este sistema fornece precursores para a câmara do reator.
2. Câmara do reator
Esta é a câmara onde a deposição tem lugar.
3. Mecanismo de carregamento do substrato
Trata-se de um sistema de introdução e remoção de substratos.
4. Fonte de energia
Fornece a energia ou o calor necessários para reagir ou decompor os precursores.
5. Sistema de vácuo
Este sistema remove todas as outras espécies gasosas, exceto as necessárias para a reação ou deposição.
6. Sistema de exaustão
Remove os subprodutos voláteis da câmara de reação.
7. Sistemas de tratamento dos gases de escape
Em alguns casos, os gases de escape podem necessitar de tratamento ou conversão em compostos seguros antes de serem libertados para a atmosfera.
8. Equipamento de controlo do processo
Inclui medidores, controlos, alarmes, dispositivos de segurança e outros equipamentos para monitorizar e controlar parâmetros do processo, como a pressão, a temperatura e o tempo.
O equipamento de CVD é amplamente utilizado em várias indústrias, como a do carboneto de silício, armazenamento de energia, aeroespacial e defesa, revestimentos e fabrico de semicondutores.
É utilizado para produzir películas uniformes de alta qualidade com excelente pureza, espessura, composição e controlo da microestrutura da película.
O equipamento oferece versatilidade, deposição a baixa temperatura, elevadas taxas de produção e baixa produção de resíduos.
O mercado de equipamento CVD é impulsionado pela procura crescente de componentes microelectrónicos, ecrãs planos, dispositivos de armazenamento e outros artigos electrónicos.
A introdução de técnicas de CVD com plasma (PECVD) também contribuiu para o crescimento do mercado, permitindo a deposição de materiais a temperaturas de substrato mais baixas e reduzindo o stress térmico no substrato.
Além disso, a utilização de equipamento de CVD no fabrico de células solares, em aplicações médicas, em revestimentos e em várias actividades de investigação e desenvolvimento impulsiona ainda mais o mercado.
Globalmente, o equipamento CVD desempenha um papel crucial na produção de dispositivos electrónicos avançados, revestimentos e catálise.
Permite a deposição precisa e fiável de películas finas, tornando-o uma ferramenta essencial em várias indústrias.
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