Conhecimento Quais são os materiais semicondutores para película fina? (4 tipos principais explicados)
Avatar do autor

Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 2 meses

Quais são os materiais semicondutores para película fina? (4 tipos principais explicados)

Os materiais semicondutores para aplicações de película fina são essenciais na criação de camadas para circuitos integrados, células solares e outros dispositivos electrónicos.

Estes materiais são selecionados com base nas suas propriedades eléctricas, ópticas e estruturais específicas.

As propriedades podem ser adaptadas através das técnicas de deposição utilizadas para criar as películas finas.

4 Tipos principais de materiais semicondutores para películas finas

Quais são os materiais semicondutores para película fina? (4 tipos principais explicados)

1. Silício (Si) e carboneto de silício (SiC)

O silício e o carboneto de silício são materiais de substrato comuns para a deposição de películas finas em circuitos integrados.

O silício é o material semicondutor mais utilizado devido à sua tecnologia de processamento madura e às suas propriedades bem conhecidas.

O carboneto de silício é utilizado em aplicações de alta potência e alta temperatura devido às suas propriedades térmicas e eléctricas superiores às do silício.

2. Óxidos condutores transparentes (TCO)

Os óxidos condutores transparentes são utilizados em células solares e ecrãs para fornecer uma camada condutora mas transparente.

Os exemplos incluem o óxido de índio e estanho (ITO) e o óxido de zinco (ZnO).

Os TCO são essenciais em dispositivos que requerem transparência e condutividade, como as células solares e os ecrãs tácteis.

Permitem a passagem da luz e, ao mesmo tempo, fornecem um caminho para a corrente eléctrica.

3. Semicondutores do tipo n e do tipo p

Os semicondutores do tipo n e do tipo p constituem a base dos díodos e transístores.

Os materiais comuns do tipo n incluem o silício dopado com fósforo ou arsénio.

Os materiais do tipo p são frequentemente silício dopado com boro.

Estes materiais são dopados para criar um excesso de electrões (tipo n) ou buracos de electrões (tipo p), que são essenciais para o funcionamento dos dispositivos semicondutores.

A junção entre materiais de tipo n e de tipo p constitui a base de muitos componentes electrónicos, incluindo díodos e transístores.

4. Contactos metálicos e camadas absorventes

Os contactos metálicos e as camadas absorventes são normalmente metais ou ligas metálicas que são utilizados para recolher ou conduzir corrente em dispositivos como as células solares.

Os exemplos incluem o alumínio, a prata e o cobre.

Estas camadas são cruciais para o funcionamento eficiente de dispositivos como as células solares.

Devem ter uma baixa resistividade para minimizar a perda de energia e uma boa aderência às camadas subjacentes.

Continue a explorar, consulte os nossos especialistas

Descubra os materiais semicondutores de engenharia de precisão da KINTEK SOLUTION.

Desde substratos fundamentais de silício e carboneto de silício a óxidos condutores transparentes avançados e contactos metálicos essenciais, as nossas ofertas satisfazem as aplicações mais exigentes da indústria eletrónica.

Melhore os seus projectos com materiais de elevado desempenho e técnicas de deposição de última geração.

Confie na KINTEK SOLUTION para obter uma qualidade e fiabilidade sem paralelo na sua próxima inovação.

Produtos relacionados

Silicone de infravermelhos / Silicone de alta resistência / Lente de silicone de cristal único

Silicone de infravermelhos / Silicone de alta resistência / Lente de silicone de cristal único

O silício (Si) é amplamente considerado como um dos materiais minerais e ópticos mais duráveis para aplicações na gama do infravermelho próximo (NIR), aproximadamente de 1 μm a 6 μm.

Máquina de revestimento PECVD de deposição por evaporação reforçada por plasma

Máquina de revestimento PECVD de deposição por evaporação reforçada por plasma

Actualize o seu processo de revestimento com equipamento de revestimento PECVD. Ideal para LED, semicondutores de potência, MEMS e muito mais. Deposita películas sólidas de alta qualidade a baixas temperaturas.

Seleneto de índio (In2Se3) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Seleneto de índio (In2Se3) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Encontre materiais de seleneto de índio (In2Se3) de diferentes purezas, formas e tamanhos para as suas necessidades laboratoriais. A nossa gama inclui alvos de pulverização catódica, revestimentos, partículas e muito mais a preços razoáveis. Encomendar agora!

Seleneto de zinco (ZnSe) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Seleneto de zinco (ZnSe) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Procura materiais de Seleneto de Zinco (ZnSe) para o seu laboratório? Os nossos preços acessíveis e as opções adaptadas por especialistas fazem de nós a escolha perfeita. Explore a nossa vasta gama de especificações e tamanhos hoje mesmo!

Seleneto de zinco(ZnSe) janela / substrato / lente ótica

Seleneto de zinco(ZnSe) janela / substrato / lente ótica

O seleneto de zinco é formado pela síntese de vapor de zinco com gás H2Se, resultando em depósitos em forma de folha em receptores de grafite.

Diamante dopado com boro CVD

Diamante dopado com boro CVD

Diamante dopado com boro CVD: Um material versátil que permite uma condutividade eléctrica adaptada, transparência ótica e propriedades térmicas excepcionais para aplicações em eletrónica, ótica, deteção e tecnologias quânticas.

Sulfureto de estanho (SnS2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Sulfureto de estanho (SnS2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Encontre materiais de alta qualidade de Sulfureto de Estanho (SnS2) para o seu laboratório a preços acessíveis. Os nossos especialistas produzem e personalizam materiais para satisfazer as suas necessidades específicas. Veja a nossa gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.

Seleneto de índio(II) (InSe) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Seleneto de índio(II) (InSe) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Procura materiais de seleneto de índio (II) de alta qualidade para o seu laboratório a preços razoáveis? Os nossos produtos InSe adaptados e personalizáveis estão disponíveis em vários graus de pureza, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas. Escolha entre uma gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.

Folha de cerâmica de nitreto de silício (SiNi) Maquinação de precisão de cerâmica

Folha de cerâmica de nitreto de silício (SiNi) Maquinação de precisão de cerâmica

A placa de nitreto de silício é um material cerâmico comummente utilizado na indústria metalúrgica devido ao seu desempenho uniforme a altas temperaturas.

Revestimento de diamante CVD

Revestimento de diamante CVD

Revestimento de Diamante CVD: Condutividade Térmica Superior, Qualidade de Cristal e Adesão para Ferramentas de Corte, Atrito e Aplicações Acústicas

Alvo de pulverização catódica de silício (Si) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de silício (Si) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Procura materiais de silício (Si) de alta qualidade para o seu laboratório? Não procure mais! Os nossos materiais de Silício (Si) produzidos à medida estão disponíveis em vários graus de pureza, formas e tamanhos para se adaptarem às suas necessidades específicas. Consulte a nossa seleção de alvos de pulverização catódica, pós, folhas e muito mais. Encomende agora!

Folha de cerâmica de carboneto de silício (SIC) dissipador de calor plano/ondulado

Folha de cerâmica de carboneto de silício (SIC) dissipador de calor plano/ondulado

O dissipador de calor cerâmico de carboneto de silício (sic) não só não gera ondas electromagnéticas, como também pode isolar ondas electromagnéticas e absorver parte das ondas electromagnéticas.


Deixe sua mensagem