Material PTFE
Suporte para limpeza de substratos de vidro condutor em PTFE
Número do item : PTFE-03
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Material
- Politetrafluoroetileno (ptfe)
- Especificação
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Utilizado para equipamento de limpeza e corrosão de bolachas de silício semicondutoras, bolachas de silício, vidro, ecrãs de cristais líquidos, etc., flor azul de célula solar, bolacha de silício solar azul_portador de bolacha de silício solar, azul de célula fotovoltaica, bolacha de silício fotovoltaica azul, utilizado para equipamento de limpeza de bolachas de silício de célula solar, utilizado para transportar bolachas de silício de célula solar quadrada, e o material é PTFE. Este produto limpa e converte bolachas de silício em solução de NaOH, solução de HCl, HF e outras soluções abaixo de 100 ° C. Não deforma nem polui as bolachas de silício após uma utilização prolongada.
Detalhes e peças
Especificações técnicas
| 10×10×1.1mm | 20×20×1.1mm | 25×25×2.2mm | 30×30×2.2mm |
| 15×15×1.1mm | 25×25×1.1mm | 30×30×1.1mm |
1 polegada, 2 polegadas, 4 polegadas de diâmetro, etc. (acima são tamanhos de bolacha de vidro ou silicone), alças duplas (a altura da alça pode ser personalizada) para fácil remoção de prateleiras de lavagem de folhas de PTFE de copos e outros recipientes com vidro.
Os produtos que apresentamos estão disponíveis em diferentes tamanhos e os tamanhos personalizados estão disponíveis mediante pedido.
Vantagens
- Ampla gama de temperaturas: Funciona sem falhas de -200°C a +250°C.
- Resistência excecional à corrosão: Resiste a ácidos fortes, álcalis, água régia e solventes orgânicos sem dissolução, adsorção ou precipitação.
- Baixo valor em branco do elemento metálico: Risco mínimo de poluição.
- Isolamento superior: Não é afetado por factores ambientais e pela frequência, apresentando uma baixa perda dieléctrica e uma elevada tensão de rutura.
- Resistente ao envelhecimento atmosférico e à radiação.
- Baixa permeabilidade: Assegura uma proteção e limpeza eficientes.
- Auto-lubrificante: Apresenta o mais pequeno coeficiente de fricção entre os plásticos, reduzindo os problemas relacionados com a fricção.
- Superfície não adesiva: Material sólido com baixa energia de superfície, evitando a aderência.
- Propriedades mecânicas suaves: Oferece flexibilidade e versatilidade.
FAQ
O que é a deposição física de vapor (PVD)?
O que é RF PECVD?
O que é a pulverização catódica por magnetrão?
Como é que o PECVD RF funciona?
Porquê a pulverização catódica por magnetrões?
Quais são as vantagens do RF PECVD?
Quais são os materiais utilizados na deposição de película fina?
A deposição de película fina utiliza normalmente metais, óxidos e compostos como materiais, cada um com as suas vantagens e desvantagens únicas. Os metais são preferidos pela sua durabilidade e facilidade de deposição, mas são relativamente caros. Os óxidos são altamente duráveis, suportam temperaturas elevadas e podem ser depositados a baixas temperaturas, mas podem ser frágeis e difíceis de trabalhar. Os compostos oferecem resistência e durabilidade, podem ser depositados a baixas temperaturas e adaptados para apresentarem propriedades específicas.
A seleção do material para um revestimento de película fina depende dos requisitos da aplicação. Os metais são ideais para a condução térmica e eléctrica, enquanto os óxidos são eficazes na proteção. Os compostos podem ser adaptados para satisfazer necessidades específicas. Em última análise, o melhor material para um determinado projeto dependerá das necessidades específicas da aplicação.
Quais são os métodos para obter uma deposição óptima de película fina?
Para obter películas finas com propriedades desejáveis, são essenciais alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação de alta qualidade. A qualidade destes materiais pode ser influenciada por vários factores, tais como a pureza, o tamanho do grão e o estado da superfície.
A pureza dos alvos de pulverização catódica ou dos materiais de evaporação desempenha um papel crucial, uma vez que as impurezas podem causar defeitos na película fina resultante. O tamanho do grão também afecta a qualidade da película fina, sendo que os grãos maiores conduzem a propriedades de película pobres. Além disso, a condição da superfície é crucial, uma vez que as superfícies ásperas podem resultar em defeitos na película.
Para obter alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação da mais alta qualidade, é crucial selecionar materiais que possuam alta pureza, tamanho de grão pequeno e superfícies lisas.
Utilizações da deposição de película fina
Películas finas à base de óxido de zinco
As películas finas de ZnO encontram aplicações em várias indústrias, tais como térmica, ótica, magnética e eléctrica, mas a sua principal utilização é em revestimentos e dispositivos semicondutores.
Resistências de película fina
As resistências de película fina são cruciais para a tecnologia moderna e são utilizadas em receptores de rádio, placas de circuito, computadores, dispositivos de radiofrequência, monitores, routers sem fios, módulos Bluetooth e receptores de telemóveis.
Filmes finos magnéticos
Os filmes finos magnéticos são utilizados em eletrónica, armazenamento de dados, identificação por radiofrequência, dispositivos de micro-ondas, ecrãs, placas de circuitos e optoelectrónica como componentes-chave.
Filmes finos ópticos
Os revestimentos ópticos e a optoelectrónica são aplicações padrão dos filmes finos ópticos. A epitaxia por feixe molecular pode produzir dispositivos optoelectrónicos de película fina (semicondutores), em que as películas epitaxiais são depositadas um átomo de cada vez no substrato.
Filmes finos de polímeros
Os filmes finos de polímeros são utilizados em chips de memória, células solares e dispositivos electrónicos. As técnicas de deposição química (CVD) oferecem um controlo preciso dos revestimentos de películas de polímeros, incluindo a conformidade e a espessura do revestimento.
Baterias de película fina
As baterias de película fina alimentam dispositivos electrónicos, tais como dispositivos médicos implantáveis, e a bateria de iões de lítio avançou significativamente graças à utilização de películas finas.
Revestimentos de película fina
Os revestimentos de película fina melhoram as características químicas e mecânicas dos materiais alvo em várias indústrias e campos tecnológicos. Revestimentos antirreflexo, revestimentos anti-ultravioleta ou anti-infravermelhos, revestimentos anti-riscos e polarização de lentes são alguns exemplos comuns.
Células solares de película fina
As células solares de película fina são essenciais para a indústria da energia solar, permitindo a produção de eletricidade relativamente barata e limpa. Os sistemas fotovoltaicos e a energia térmica são as duas principais tecnologias aplicáveis.
Factores e parâmetros que influenciam a deposição de películas finas
Taxa de deposição:
A taxa a que a película é produzida, tipicamente medida em espessura dividida pelo tempo, é crucial para selecionar uma tecnologia adequada à aplicação. As taxas de deposição moderadas são suficientes para películas finas, enquanto as taxas de deposição rápidas são necessárias para películas espessas. É importante encontrar um equilíbrio entre a velocidade e o controlo preciso da espessura da película.
Uniformidade:
A consistência da película ao longo do substrato é conhecida como uniformidade, que normalmente se refere à espessura da película, mas também pode estar relacionada com outras propriedades, como o índice de refração. É importante ter um bom entendimento da aplicação para evitar sub ou superespecificar a uniformidade.
Capacidade de preenchimento:
A capacidade de preenchimento ou cobertura de etapas refere-se a quão bem o processo de deposição cobre a topografia do substrato. O método de deposição utilizado (por exemplo, CVD, PVD, IBD ou ALD) tem um impacto significativo na cobertura e no preenchimento dos degraus.
Características da película:
As características da película dependem dos requisitos da aplicação, que podem ser classificados como fotónicos, ópticos, electrónicos, mecânicos ou químicos. A maioria das películas tem de cumprir requisitos em mais do que uma categoria.
Temperatura do processo:
As características da película são significativamente afectadas pela temperatura do processo, que pode ser limitada pela aplicação.
Danos:
Cada tecnologia de deposição tem o potencial de danificar o material depositado, sendo as características mais pequenas mais susceptíveis a danos no processo. A poluição, a radiação UV e o bombardeamento de iões estão entre as potenciais fontes de danos. É crucial compreender as limitações dos materiais e ferramentas.
4.8
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Fast delivery and excellent packaging. The rack is made of high-quality PTFE, which is resistant to corrosion and heat.
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The rack is very easy to use and clean. It holds the substrates securely and prevents them from moving around during the cleaning process.
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The rack is very durable and has been able to withstand the harsh chemicals used in the cleaning process.
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