Conhecimento Como funciona a deposição física de vapor? Explicação das 4 etapas principais
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Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 2 meses

Como funciona a deposição física de vapor? Explicação das 4 etapas principais

A deposição física de vapor (PVD) é um processo utilizado para depositar películas finas de materiais num substrato.

Este processo envolve a transição de materiais da sua fase condensada para uma fase de vapor e depois de novo para uma fase sólida.

O PVD é normalmente efectuado em condições de vácuo a alta temperatura para garantir a pureza e a qualidade do material depositado.

Explicação das 4 etapas principais

Como funciona a deposição física de vapor? Explicação das 4 etapas principais

1. Conversão do material em vapor

O primeiro passo da PVD consiste em converter o material precursor sólido num vapor.

Isto é normalmente conseguido utilizando eletricidade de alta potência, como a pulverização catódica, ou a evaporação a laser.

Na pulverização catódica, é utilizado um plasma de gás de alta energia (normalmente árgon) para eliminar átomos de um material alvo.

Na evaporação, o material é aquecido até ao seu ponto de evaporação utilizando métodos como o aquecimento resistivo ou o aquecimento por feixe de electrões.

2. Transporte do vapor

O material vaporizado é então transportado através de uma região de baixa pressão desde a sua fonte até ao substrato.

Este passo assegura que o vapor atinge o substrato sem contaminação significativa ou perda de material.

O ambiente de vácuo na câmara de deposição facilita o movimento do material vaporizado para o substrato sem a interferência das moléculas de ar.

Isto assegura um caminho limpo e direto para o vapor, melhorando a uniformidade e a qualidade da película depositada.

3. Condensação no substrato

O vapor sofre condensação no substrato, formando uma película fina.

Esta película adere ao substrato, criando um revestimento com propriedades físicas específicas.

Quando o material vaporizado atinge o substrato, arrefece e condensa, formando uma película sólida.

A espessura e as propriedades desta película dependem de factores como a pressão de vapor dos materiais precursores e a temperatura do substrato.

4. Aplicações e vantagens

A PVD é amplamente utilizada em várias indústrias devido à sua capacidade de produzir revestimentos extremamente duros, resistentes à corrosão e com tolerância a altas temperaturas.

Além disso, a PVD é considerada amiga do ambiente, uma vez que não implica a utilização de produtos químicos perigosos nem produz subprodutos nocivos.

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