A pulverização catódica por magnetrão é uma técnica de revestimento sofisticada que utiliza um plasma magneticamente confinado para criar películas finas em vários substratos. Este método é altamente eficaz para produzir revestimentos metálicos ou isolantes, tornando-o ideal para aplicações ópticas e eléctricas.
Como funciona a pulverização catódica com magnetrões? 5 etapas principais explicadas
1. Criação do plasma
Um gás inerte, normalmente árgon, é introduzido numa câmara. Os conjuntos de ímanes geram um campo magnético sobre um material alvo. É aplicada uma alta tensão, criando um plasma perto do campo magnético do alvo. Este plasma é constituído por átomos de gás árgon, iões de árgon e electrões livres.
2. Ionização e Sputtering
Os electrões no plasma colidem com os átomos de árgon, criando iões com carga positiva. Estes iões são atraídos para o alvo carregado negativamente, onde colidem e ejectam átomos do material alvo.
3. Deposição de película fina
Os átomos ejectados do material alvo assentam na superfície de um substrato, formando uma película fina.
4. Instalação de pulverização catódica com magnetrões
O sistema envolve normalmente uma câmara cheia de um gás inerte, normalmente árgon. No interior desta câmara, é colocado um material alvo onde os ímanes estão estrategicamente posicionados para criar um campo magnético. Este campo confina o plasma perto da superfície do alvo, aumentando a eficiência do processo de pulverização catódica.
5. Formação do plasma
Quando é aplicada uma alta tensão, esta ioniza o gás árgon, criando um plasma. Este plasma é rico em iões de árgon e electrões livres. Os electrões, sob a influência do campo elétrico, deslocam-se rapidamente e colidem com os átomos de árgon, ionizando-os e criando mais iões de árgon e electrões secundários.
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