A pulverização catódica magnetrónica é uma técnica de deposição de película fina que utiliza um campo magnético para aumentar a eficiência da geração de plasma perto da superfície do alvo. Isto conduz a taxas de deposição mais elevadas e a uma melhor qualidade da película.
4 Pontos-chave explicados
1. Melhoria da Geração de Plasma
Na pulverização catódica por magnetrão, é aplicado um campo magnético perpendicular ao campo elétrico junto à superfície do alvo. Este campo magnético faz com que os electrões sigam uma trajetória circular, aumentando o seu tempo no plasma. Como resultado, a probabilidade de os electrões colidirem com átomos de árgon (ou outros gases inertes) é muito maior. Estas colisões ionizam as moléculas de gás, criando um plasma denso perto do alvo.
2. Bombardeamento do material alvo
As moléculas de gás ionizadas (iões) são então empurradas pelo campo elétrico em direção ao material alvo. Quando estes iões atingem o alvo, transferem a sua energia, fazendo com que os átomos ou moléculas do alvo sejam ejectados. Este processo é designado por pulverização catódica. O material ejectado forma então uma película fina sobre um substrato.
3. Vantagens em relação a outras técnicas
Em comparação com outras técnicas de pulverização catódica, como a pulverização catódica por díodo ou por corrente contínua, a pulverização catódica por magnetrão tem várias vantagens. O plasma próximo do alvo é confinado pelo campo magnético, evitando danos na película fina que está a ser formada no substrato. Além disso, esta técnica funciona a temperaturas mais baixas, o que é bom para depositar películas em substratos sensíveis à temperatura.
4. Aplicação e melhoramento
Embora a pulverização catódica com magnetrões tenha muitas vantagens, a razão de ionização das moléculas pode diminuir a baixas temperaturas, limitando a sua utilização. Para resolver este problema, é utilizada a pulverização catódica com plasma. Isto implica a utilização de mais plasma para melhorar o desempenho do revestimento. Esta tecnologia é amplamente utilizada nas indústrias para a deposição de películas finas de alta qualidade.
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