O mercado global de deposição de vapor químico (CVD) foi avaliado em 26 mil milhões de dólares em 2022 e prevê-se que atinja 59,05 mil milhões de dólares até 2032, com uma CAGR de 8,6% de 2023 a 2032. Este crescimento é impulsionado pela crescente demanda por equipamentos de semicondutores e avanços nas tecnologias CVD.
Dimensão e crescimento do mercado:
O valor do mercado em 2022 era de 26 mil milhões de dólares e prevê-se que cresça significativamente, atingindo 59,05 mil milhões de dólares em 2032. Este crescimento substancial, com uma taxa de crescimento anual (CAGR) de 8,6%, indica uma expansão robusta da indústria, alimentada principalmente pela necessidade crescente de materiais avançados em vários sectores, como a microeletrónica, os produtos solares e o armazenamento de dados.Principais factores de mercado:
O principal fator impulsionador deste mercado é a procura crescente de equipamento de semicondutores a nível mundial. A indústria de semicondutores depende fortemente da CVD para a produção de revestimentos de película fina de alta qualidade, que são essenciais para a funcionalidade e eficiência dos dispositivos electrónicos. O crescimento do mercado é também apoiado pelos avanços tecnológicos nas tecnologias CVD, como a CVD de baixa pressão, que melhora a uniformidade e a qualidade dos revestimentos.
Segmentação do mercado:
O mercado de CVD é segmentado por categoria em serviços de CVD, equipamento de CVD e materiais de CVD. Por utilização final, o mercado divide-se em sectores como os produtos solares, ferramentas de corte, microeletrónica, armazenamento de dados e equipamento médico, entre outros. Cada segmento tem uma dinâmica de crescimento única, influenciada pelas exigências específicas da indústria e pelos avanços tecnológicos. Por exemplo, prevê-se que o segmento da microeletrónica cresça devido à procura crescente de componentes electrónicos miniaturizados e eficientes.Avanços tecnológicos:
As inovações tecnológicas na CVD, como a CVD de camada atómica e a CVD melhorada por plasma, estão a melhorar as capacidades e a eficiência do processo de deposição. Estes avanços são cruciais para satisfazer os requisitos rigorosos das aplicações modernas, particularmente nas indústrias de eletrónica e de semicondutores.
